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極端紫外線リソグラフィ (EUVL: Extreme Ultraviolet Lithography)のセミナー・研修・出版物
リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた先端技術、今後の展望
2026年7月2日(木) 10時30分
～
2026年7月15日(水) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。
リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた先端技術、今後の展望
2026年6月18日(木) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術・材料開発の事例を学びながら今後の効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用を丁寧に解説いたします。
ナノインプリントリソグラフィの材料・プロセス技術と半導体回路形成への応用
2026年6月2日(火) 10時30分
～
2026年6月12日(金) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、ナノインプリントについて取り上げ、ナノインプリントリソグラフィ (NIL) の原理、長所と短所、欠陥対策、そして今注目を集める応用技術を詳解いたします。
ナノインプリントリソグラフィの材料・プロセス技術と半導体回路形成への応用
2026年5月22日(金) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、ナノインプリントについて取り上げ、ナノインプリントリソグラフィ (NIL) の原理、長所と短所、欠陥対策、そして今注目を集める応用技術を詳解いたします。
半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2026年春版)
2026年5月15日(金) 10時30分
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2026年5月28日(木) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版)
2026年5月15日(金) 10時30分
～
2026年5月22日(金) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版)
2026年5月14日(木) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2026年春版)
2026年4月24日(金) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
2026年4月17日(金) 13時00分
～
16時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、EUVレジストの概要とその評価方法に関する基礎知識、EUVリソグラフィーの基礎知識、EUVフォトプロセスの最適化方法、評価方法について解説いたします。
SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026 の聴講報告も行う予定となっております。
生成AIの隆盛に伴う半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版)
2026年4月6日(月) 10時00分
～
2027年3月31日(水) 16時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
EUVレジスト/メタルレジストの要求特性、最新技術動向と課題、対策
2026年4月3日(金) 10時30分
～
2026年4月13日(月) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。
EUVレジスト/メタルレジストの要求特性、最新技術動向と課題、対策
2026年3月25日(水) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。
ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法
2026年3月9日(月) 10時30分
～
2026年3月19日(木) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
生成AIの隆盛に伴う半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版)
2026年3月6日(金) 10時00分
～
16時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
ポジ型およびネガ型レジスト材料の合成と評価方法および分子設計方法
2026年2月26日(木) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
先端半導体プロセスで求められるレジスト材料・技術
2026年2月13日(金) 10時00分
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17時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、リソグラフィ工程をはじめ、エッチング、先端パッケージ、チップ間接続・RDLへとレジストの適用が広がる各工程での要求特性を体系的に解説いたします。
半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2025年版)
2026年1月13日(火) 10時00分
～
16時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版)
2026年1月13日(火) 10時00分
～
16時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
半導体製造装置・材料の技術トレンド、ニーズと求められる戦略
2026年1月6日(火) 13時00分
～
2026年1月16日(金) 17時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年冬版)
2026年1月6日(火) 10時30分
～
2026年1月20日(火) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
次世代リソグラフィ技術の最新動向と今後の展望
2025年12月23日(火) 13時00分
～
17時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
半導体製造装置・材料の技術トレンド、ニーズと求められる戦略
2025年12月19日(金) 13時00分
～
17時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
EUVリソグラフィー技術の基礎、最新技術動向と課題解決策および今後の展望
2025年12月18日(木) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、極端紫外線リソグラフィー技術について、EUV光源技術、多層膜技術、光学系技術、マスク技術、レジスト技術等、基盤技術全般にわたって解説いたします。
半導体製造装置の基礎・トレンドと今後の展望 (2025年冬版)
2025年12月15日(月) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、半導体製造装置/技術動向の全般を俯瞰し、AIを中心にした新しい半導体技術への変化の中で取るべき戦略について解説いたします。
リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来
2025年11月18日(火) 10時30分
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2025年11月25日(火) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術の基礎から微細化・高解像度化などの高品位化の変遷および創出過程、効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用について詳解いたします。
リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望および半導体産業の位置付けと未来
2025年11月17日(月) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、レジスト・リソグラフィ技術の基礎から微細化・高解像度化などの高品位化の変遷および創出過程、効率的な技術開発・不良防止・トラブル対策への応用について詳解いたします。
リソグラフィ、レジスト/EUVレジストの基礎とトラブル対策
2025年10月20日(月) 10時30分
～
2025年10月24日(金) 16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、リソグラフィ、レジストの基礎からEUVレジストの特性、課題と対策までを解説いたします。
リソグラフィ、レジスト/EUVレジストの基礎とトラブル対策
2025年10月17日(金) 10時30分
～
16時30分
オンライン 開催
本セミナーでは、リソグラフィ、レジストの基礎からEUVレジストの特性、課題と対策までを解説いたします。
EUVリソグラフィの技術動向とレジスト材料の開発
2025年10月10日(金) 10時30分
～
16時15分
オンライン 開催
本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
感光性材料の基礎・種類・特性と設計における留意点
2025年9月26日(金) 13時00分
～
16時00分
オンライン 開催
本セミナーでは、LSIや実装分野で用いられる感光性材料の基礎から応用、最新動向までを体系的に解説いたします。
また、高感度・高解像度化を目指す材料開発の要点や注意点を実例とともに解説いたします。
