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本セミナーでは、レオロジーの基礎から解説し、レオロジーデータを反応硬化の評価と制御に応用する技術について詳解いたします。

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。

本セミナーでは、UV硬化樹脂の基礎から解説し、UV硬化の最適化、評価、測定について解説いたします。
また、一般的なDSC装置を改造して、光DSC装置として利用した事例も紹介いたします。

本セミナーでは、紫外線硬化材料の基礎から解説し、酸素による硬化阻害や硬化収縮による密着不良などのトラブルと対策を詳解いたします。

本セミナーでは、熱に敏感な部品、弱い基材へ向けた樹脂硬化技術について詳解いたします。
熱安定性、硬化速度、作業性、発泡など硬化時のトラブルとその対策について解説いたします。

本セミナーでは、熱・光ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎から解説いたします。
また、使用する樹脂やモールドについての材料技術、プロセス・材料の設計技術、離型欠陥対策技術、装置技術について、三次元構造の作製技術などの多様なシーズについて解説いたします。
さらに、最新の動向に触れながら、光学素子、ディスプレイ、電子デバイス、LED、太陽電池、拡張現実などへの製品応用技術について紹介いたします。

本セミナーでは、紫外線硬化材料の基礎から解説し、酸素による硬化阻害や硬化収縮による密着不良などのトラブルと対策を詳解いたします。

本セミナーでは、UV (紫外線) 硬化とEB (電子線) 硬化の反応メカニズムや関連法規制、市場動向、応用技術動向について解説いたします。

本セミナーでは、フォトレジスト材料の進化の変遷について、高分子や低分子を用いたレジスト材料の開発について解説いたします。
また、KrF、ArF、EB、およびEUVレジスト材料の合成例と分子設計指針について基礎から応用までを解説いたします。
さらに、レジスト材料の基礎的な評価方法を解説し、新規なレジスト材料の開発方法について解説しながら、最新のレジスト材料としてEUVレジスト材料の開発方法について解説いたします。

本セミナーでは、レオロジーの基礎から解説し、レオロジーデータを反応硬化の評価と制御に応用する技術について詳解いたします。