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平滑化のセミナー・研修・出版物

ガラス鏡面研磨における酸化セリウム使用量低減技術

2012年6月13日(水) 12時30分16時30分
大阪府 開催

本セミナーでは、有機無機複合砥粒やエポキシ樹脂研磨パッドの開発により酸化セリウムの使用量を削減し、酸化ジルコニウムによって代替できる新しい研磨技術を詳解いたします。

SiC基板のエッチング技術と平滑化

2012年5月31日(木) 12時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、SiCデバイスの高性能化に向けたエッチング、鏡面研磨技術について解説いたします。

最新の超精密研磨/CMPの動向

2012年3月23日(金) 10時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、研磨の基礎、加工メカニズムから解説し、プロセス、最新技術、課題、ビジネスチャンスについてノウハウを含めて詳解いたします。

ガラス鏡面研磨における酸化セリウム使用量低減技術

2011年8月24日(水) 12時30分16時30分
東京都 開催

本セミナーでは、有機無機複合砥粒やエポキシ樹脂研磨パッドの開発により酸化セリウムの使用量を削減し、酸化ジルコニウムによって代替できる新しい研磨技術を詳解いたします。

SiCおよびGaN基板表面の原子レベル平坦化技術

2011年5月26日(木) 13時00分16時30分
東京都 開催

半導体基板表面の基礎から解説し、SiC基板・GaN基板表面を原子レベルで平坦化可能な「触媒表面基準エッチング法」について詳解いたします。

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