技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
精密研磨のセミナー・研修・出版物
ガラス鏡面研磨における酸化セリウム使用量低減技術
2012年6月13日(水) 12時30分
～
16時30分
大阪府 開催
会場 開催
本セミナーでは、有機無機複合砥粒やエポキシ樹脂研磨パッドの開発により酸化セリウムの使用量を削減し、酸化ジルコニウムによって代替できる新しい研磨技術を詳解いたします。
最新の超精密研磨/CMPの動向
2012年3月23日(金) 10時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、研磨の基礎、加工メカニズムから解説し、プロセス、最新技術、課題、ビジネスチャンスについてノウハウを含めて詳解いたします。
ガラス鏡面研磨における酸化セリウム使用量低減技術
2011年8月24日(水) 12時30分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
本セミナーでは、有機無機複合砥粒やエポキシ樹脂研磨パッドの開発により酸化セリウムの使用量を削減し、酸化ジルコニウムによって代替できる新しい研磨技術を詳解いたします。
SiCおよびGaN基板表面の原子レベル平坦化技術
2011年5月26日(木) 13時00分
～
16時30分
東京都 開催
会場 開催
半導体基板表面の基礎から解説し、SiC基板・GaN基板表面を原子レベルで平坦化可能な「触媒表面基準エッチング法」について詳解いたします。
