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半導体洗浄技術 2セミナーセット

半導体洗浄技術 2セミナーセット

～半導体洗浄の基礎 / 半導体洗浄の最先端～
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概要

本セミナーでは、先端半導体で要求される洗浄技術、課題について解説いたします。
また、残渣除去性の評価、表面酸化状態の解析と、その注意点について解説いたします。
さらに、半導体のウェット洗浄について基礎から解説し、半導体の洗浄だけではなく乾燥にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介いたします。

開催日

  • 2025年10月30日(木) 10時30分 ～ 16時30分
  • 2025年11月21日(金) 13時00分 ～ 16時30分

修得知識

  • 半導体洗浄の要素と要点
  • 目的に合わせた清浄の定義
  • キレイに仕上げるための表面と流れの工夫
  • 洗浄条件設計方法
  • 流れ・気泡などの使い方と作り方
  • 半導体製造におけるウェット洗浄の役割
  • 半導体ウェット洗浄に使用される装置、薬液種類、洗浄原理
  • 先端半導体に要求される洗浄技術の課題、最新の洗浄技術

プログラム

半導体洗浄の基礎と要点、困ったときの対策

(2025年10月30日 10:30〜16:30)

　半導体洗浄の基礎現象・要点から困った時の対策まで説明します。半導体にとって清浄面であることの意味と価値、薬液の働き方を改めて考え、水の流れを動画で眺めると、洗浄では何をどのようにしているのか分かります。ここでは、身近な流れ、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れの可視化実験動画を見て感覚をつかみ、数値シミュレーション結果で理解します。超音波の効果についても流れと気泡の動きを動画により理解します。それにより、洗浄機内の流れが結果を左右すること、流れを変えて使う工夫、微細パターン洗浄の特徴を考え、トラブル時の視点と対策を紹介します。

  1. 洗う理由:汚れの種類と由来
  2. 半導体洗浄の4要素
    • 温度
    • 時間
    • 化学
    • 力学
  3. 半導体の洗浄に特有のこと
  4. 先端技術情報 (半導体洗浄を取扱っている国際学会・国内学会)
  5. 半導体洗浄の基礎現象 (薬液と流れの効果)
    1. 表面の現象とプロセス (付着・脱離・引き剥がす・乾かす)
      1. 表面現象、薬液洗浄と物理的洗浄
      2. 洗浄後の表面、乾燥とパターン倒れ
      3. ドライ洗浄と超臨界流体洗浄
    2. 流れ、熱、拡散、反応 (洗う=汚れを動かす操作)
    3. 身近な流れの可視化観察例
  6. 洗浄機内の流れと反応
    1. 枚葉式洗浄機
      1. 水の流れ
        • 観察動画と計算例
        • 回転数
        • ノズルスイング
      2. 化学反応の例 (酸化膜エッチング速度の数値解析事例)
    2. バッチ式洗浄機
      1. 水の流れ (観察動画と計算例)
      2. 水流を最適化した事例
        • 水噴出角度
        • 槽内循環流
      3. ウエハ挿入と取出しの際の汚れの付着と脱落
      4. 上下に揺動する理由
    3. 超音波の働き、水と気泡の動き (観察動画)
      1. 超音波出力と水の動き
      2. ウエハ支持棒の周りの気泡の動き
      3. 超音波洗浄槽の工夫、最適化の要点
  7. 洗浄の評価方法
    • 実験
    • 計算
    • 観察
  8. 狭い空間の洗浄
    1. 液の侵入と濡れ (親水性・疎水性)
    2. 狭い空間における反応の速度
    3. 微細パターンの洗浄面積 (パターン表面積≫見かけのウエハ面積)
  9. まとめ:困った時の視点と対策 (流れと境界層)
    1. 洗えない時
    2. 洗えるが残る時
    • 質疑応答

半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および技術トレンドと最先端技術

(2025年11月21日 13:00〜16:30)

　半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。
　まずは半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。
　本セミナーでは、「洗浄」だけでなく「乾燥」にも焦点を当て、基礎から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

  1. 半導体ウェット洗浄の必要性
    1. 半導体製造フローと洗浄の位置づけ
    2. 洗浄装置の役割
    3. 洗浄の除去対象
  2. 半導体ウェット洗浄の方法/原理
    1. 洗浄装置の種類
    2. 異物の除去
    3. 異物の付着抑制
  3. 洗浄の技術トレンド
    1. 洗浄と半導体の歴史
    2. 従来の洗浄技術
  4. 乾燥の技術トレンド
    1. 乾燥と半導体の歴史
    2. 従来の乾燥技術
  5. 次世代半導体の洗浄課題
    1. 半導体デバイスのトレンド
    2. 洗浄の技術的課題
    3. 洗浄装置に求められる機能
  6. 先端洗浄・乾燥技術
    1. 最新の洗浄技術
    2. 最新の乾燥技術
    3. シミュレーション技術
  7. まとめ
    • 質疑応答
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講師

  • 羽深 等 氏
    反応装置工学ラボ
    代表
  • 塚原 隆太 氏
    株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ R&D戦略統轄部 アライアンス推進部 先端プロセス開発課
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主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 64,600円 (税別) / 71,060円 (税込)
複数名
: 37,500円 (税別) / 41,250円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 37,500円(税別) / 41,250円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 64,600円(税別) / 71,060円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 112,500円(税別) / 123,750円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 20,000円(税別) / 22,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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