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半導体デバイスにおける洗浄技術の最新動向と今後の展望

半導体デバイスにおける洗浄技術の最新動向と今後の展望

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

配信期間

  • 2025年10月28日(火) 10時00分2025年11月7日(金) 16時00分

お申し込みの締切日

  • 2025年11月5日(水) 16時00分

受講対象者

  • 半導体洗浄技術を構成している要素・要点を知りたい技術者
  • 半導体洗浄技術の課題を理解しているが、その解決方法を模索している技術者

修得知識

  • 半導体洗浄の基礎
  • 半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であること
  • 最新の洗浄液技術
  • 半導体デバイスの物理的洗浄 (スプレー、ブラシ、超音波 等) に関する工学的な基礎知識
  • 最新学会から得られた半導体洗浄の最新動向

プログラム

第1部 半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と技術動向および今後の課題

(2025年10月27日 10:00〜12:30)

 半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。

  1. 序論 – 汚染が半導体デバイスに与える影響
    1. クリーン化の重要性
    2. 金属汚染およびナノパーティクル
      • Fe
      • Cu等
    3. 分子汚染
      • NH3
      • アミン
      • 有機物
      • 酸性成分
    4. 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
  2. 洗浄技術
    1. RCA洗浄
    2. 各種洗浄液と洗浄メカニズム – 薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
    3. 洗浄プロセスの動向
    4. 乾燥技術
    5. 最先端の洗浄技術とその問題点
  3. その他の汚染制御技術
    1. 工場設計
    2. ウェーハ保管、移送方法
  4. 次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
    1. 新洗浄乾燥技術
      • SCCO2洗浄乾燥
      • PK剤乾燥
    2. 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

第2部 半導体デバイスの物理的ウエット洗浄の基礎と最新情報の展開

(2025年10月27日 13:30〜16:00)

 近年、半導体デバイスの進化は目覚ましく、その開発スピードは加速の一途をたどっています。本セミナーでは、半導体デバイスにおける物理的ウエット洗浄について、基礎から丁寧にご説明いたします。セミナーでは、まず半導体デバイスの基礎について概説した後、現在の製造プロセスで用いられている物理的洗浄技術について、原理から分かりやすく解説します。さらに、講演者の専門分野である半導体製造時のウエット洗浄時の静電気障害 (ESD) 対策や、半導体洗浄に関する国際会議の最新動向についてもご紹介いたします。
 基礎からお話ししますので、半導体デバイス洗浄に携わって3〜4年程度の方や、これから半導体洗浄分野への参入を検討されている方にも最適な内容です。

  1. 半導体デバイス製造の基礎
    1. 半導体デバイスの基礎
      1. 半導体材料
      2. p型半導体とn型半導体
      3. シリコンウェハ上の電子部品の要素と構造
    2. 半導体製造プロセスについて
      1. CMOS製造を例としたプロセスの説明
      2. なぜ微細化が必要なのか?
    3. 半導体デバイス製造プロセスにおける洗浄の必要性
      1. 化学的洗浄 (RCA洗浄) の基礎
      2. 物理的洗浄の必要性
      3. パーティクルのカウント方法
      4. 物理洗浄に求められるもの
  2. 物理的ウエット洗浄
    1. パーティクルの付着理論
    2. 水流を用いた洗浄原理
    3. 高圧スプレー洗浄
    4. 二流体スプレー洗浄
    5. メガソニック洗浄
      1. メガソニックスプレー
      2. 石英振動体型メガソニック洗浄方法
    6. ブラシ洗浄
    7. 次世代の物理的洗浄技術
  3. 純水スプレー洗浄時の静電気障害
    1. 半導体デバイスの洗浄の静電気障害の実例
    2. スプレー時に発生する静電気と静電気障害のメカニズム
    3. 静電気障害の対策方法
  4. 近年の学会情報
    1. IMEC 主催17th Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces (UCPSS 2025)
    2. The Electrochemical Society 主催International Symposium on Semiconductor Cleaning Science & Technology (SCST2024)
    3. 応用物理学会 界面ナノ化学研究研究報告

講師

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

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「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アーカイブ配信セミナー

  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
  • 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
  • 視聴期間は2025年10月28日〜11月7日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。

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