技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

～メタルレジストの構造、EUV露光における反応、半導体微細化の最新動向～
オンライン 開催
関連するセミナー・出版物
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する 関連するセミナー・出版物を探す

視聴期間は2025年5月8日〜21日を予定しております。
お申し込みは2025年5月8日まで承ります。

概要

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

配信期間

  • 2025年5月8日(木) 13時00分 ～ 2025年5月21日(水) 15時30分

お申し込みの締切日

  • 2025年5月8日(木) 13時00分

受講対象者

  • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
    • ナノインプリント
    • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
    • 印刷インキの乾燥
    • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
    • 光ファイバ等の保護コーティング
    • 光造形
    • 3Dプリンター
    • ジェルネイル等の装飾品 など
  • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
  • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

修得知識

  • メタルレジストの構造
  • EUV露光における反応
  • 半導体微細化の最新動向

プログラム

　近年2nmスケールの半導体が非常に注目を集めている。その中の核技術の1つとしてレジストがあげられる。本講演では1) メタルレジストがなぜ重要か、2) 各社が開発したメタルレジスト、3) EUV光利用におけるメタルレジストの必要性、4) メタルレジストのEUV露光による反応機構を中心に講演を行っていく。必要に応じて、2nmスケール半導体作製における核技術、世界動向についても講演を行う。

  1. レジスト
    1. 半導体構造
      1. ムアーの法則
      2. スケーリング則
      3. 平面構造FET構造の限界
      4. 平面構造FET構造以降のデバイス構造
      5. RapidusのGAA構造
      6. GAAフォークシート構造
      7. CFET構造
      8. ムアーの法則と半導体構造
      9. デバイス構造の推移予想
      10. 半導体の製造を行う会社数推移
    2. レジストとリソグラフィ
      1. レジスト露光光源の推移
      2. レジスト露光とcritical dimension
      3. リソグラフィのスケーリング則
      4. 現在のリソグラフィ
      5. LELE (Litho-etch Litho-etch)
      6. SADP (Self Aligned Double Patterning)
      7. 次世代リソグラフィ技術
      8. デバイスの微少化に必要なこと
    3. EUVとメタルレジスト
      1. 回路パターンに必要なこと
      2. レイリーの式
      3. EUV光源の周辺技術
      4. EUV露光のミラー
      5. 何故Mo/Si多層膜がEUV露光のミラーに適しているのか
      6. ASML社製のEUV露光装置
      7. Rapidusが納品したASML社製のNA0.33EUV露光装置
      8. ASML社製のNA0.55EUV露光装置
      9. high NA EUVで生じる偏光問題をどのように解決するか
      10. high NA EUVで用いられているミラー
      11. high NA EUV露光過程の動画 (ASML社 TWINACAN EXE:5000)
      12. high NA EUVロードマップ
      13. EUVレジスト側で必要なこと
      14. EUV光吸収率の元素依存性
      15. EUV露光用新規レジストの必要性
      16. 高感度EUVレジスト材料に求められるもの
      17. メタルレジスト
      18. 化学増幅型有機レジストとメタルレジスト
      19. メタルレジストのEUV露光に対する優位性
      20. メタルレジストの開発の歴史
    4. 余談
      1. チップレットとは
      2. ファンダリーとは
      3. NAとは
      4. レジストにおけるトレードオフ
  2. メタルレジスト
    1. メタルレジストの基礎物性
      1. 無機レジスト材料
      2. 元素の光学濃度値
      3. 材料設計を考慮する際に重要なEUV光による吸収率の元素依存性
      4. EUV光によって吸収される元素の軌道
    2. 各社が開発したメタルレジスト
      1. Inpriaのメタルレジスト作製の歴史
      2. Inpriaのメタルレジストの種類
      3. コーネル大学のメタルレジスト作製の歴史
      4. コーネル大学のメタルレジストの種類
      5. EIDECのメタルレジスト作製の歴史
      6. EIDECのメタルレジストの種類
      7. SUNY Polytechnic Instituteの歴史及び種類
      8. ドライメタルレジスト (Lam research)
      9. ドライメタルレジストの利点
  3. メタルレジストのEUV露光による反応機構の解析、および大気安定性
    小生の研究を元に
    1. メタルレジストのEUV露光による反応機構
      1. XRDによるEUV露光による構造変化解明
      2. 光電子分光によるEUV露光による反応元素解明
      3. X線吸収分光法によるEUV露光による反応化学結合解明
    2. メタルレジストの大気安定生
      1. 光電子分光によるメタルレジストの大気暴露下での化学状態
      2. X線吸収分光法によるによるメタルレジストの大気暴露下での反応結合種解明
      3. 光電子分光によるEUV露光したメタルレジストの大気暴露下での化学状態
      4. X線吸収分光法によるによるメタルレジストの大気暴露下での反応結合種解明
  4. 質疑応答
ページのトップヘ

講師

  • 山下 良之 氏
    国立研究開発法人 物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター
    主幹研究員
ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 25,600円 (税別) / 28,160円 (税込)
複数名
: 19,000円 (税別) / 20,900円 (税込)

複数名受講割引

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 19,000円(税別) / 20,900円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 25,600円(税別) / 28,160円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 38,000円(税別) / 41,800円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 57,000円(税別) / 62,700円(税込)
  • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
  • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

アカデミー割引

教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

  • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
  • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
  • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

アーカイブ配信セミナー

  • 「ビデオグ」を使ったアーカイブ配信セミナーとなります。
  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCなどからご視聴ができます。
  • お申し込み前に、 視聴環境 をご確認いただき、 視聴テスト にて動作確認をお願いいたします。
  • 別途、ID,パスワードをメールにてご連絡申し上げます。
  • 視聴期間は2025年5月8日〜21日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
  • セミナー資料は印刷・送付いたします。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する
ページのトップヘ

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2026/11/26 ポリマーグラフト化の反応メカニズム・表面改質・界面制御・評価解析 オンライン
2026/11/26 高分子材料の架橋反応、硬化挙動の評価、解析 オンライン
2026/11/27 発泡プラスチックの発泡原理と成形プロセスの基礎 オンライン
2026/11/27 溶解度パラメータの基礎・求め方から実務事例・最新研究事例 オンライン
2026/11/27 射出成形、押出成形、二次加工における残留ひずみ発生機構と対策、測定法、アニール処理 オンライン
2026/11/27 高分子接着の基礎と接着性制御に向けた界面の構造・応力評価、表面処理技術 オンライン
2026/11/30 光硬化型材料の基礎と応用のポイント オンライン
2026/11/30 水・湿度による高分子の劣化、加水分解メカニズムとその評価 オンライン
2026/11/30 溶解度パラメータの基礎・求め方から実務事例・最新研究事例 オンライン
2026/11/30 硫黄ポリマーの合成、特性評価と応用可能性 オンライン
2026/12/3 高分子材料の燃焼・難燃化のメカニズムと最新手法 オンライン
2026/12/7 高分子材料の架橋反応、硬化挙動の評価、解析 オンライン
2026/12/8 発泡プラスチックの発泡原理と成形プロセスの基礎 オンライン
2026/12/8 熱膨張の基礎とその制御・評価法 オンライン
2026/12/9 光硬化型材料の基礎と応用のポイント オンライン
2026/12/9 硫黄ポリマーの合成、特性評価と応用可能性 オンライン
2026/12/9 熱膨張の基礎とその制御・評価法 オンライン
2026/12/14 高分子・樹脂・プラスチック・フィルムにおける種類、用途、添加剤、製膜、評価および最近のトピックス オンライン
2026/12/14 廃プラスチック再生技術の最新動向 オンライン
2026/12/15 自動車用防振ゴムの劣化メカニズムと耐久性試験・寿命予測 オンライン
ページのトップヘ

関連する出版物

発行年月
2024/7/31 ポリウレタンの材料設計、環境負荷低減と応用事例
2024/7/29 サステナブルなプラスチックの技術と展望
2024/7/22 世界のレトルトフィルム・レトルトパウチの実態と将来展望 2024-2026 (書籍版 + CD版)
2024/7/22 世界のレトルトフィルム・レトルトパウチの実態と将来展望 2024-2026
2024/7/17 世界のリサイクルPET 最新業界レポート
2024/6/28 ハイドロゲルの特性と作製および医療材料への応用
2024/5/30 PETボトルの最新リサイクル技術動向
2024/2/29 プラスチックのリサイクルと再生材の改質技術
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2024/2/26 EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2023/10/31 エポキシ樹脂の配合設計と高機能化
2023/9/29 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
2023/7/31 熱可塑性エラストマーの特性と選定技術
2023/7/14 リサイクル材・バイオマス複合プラスチックの技術と仕組
2023/3/31 バイオマス材料の開発と応用
2023/1/31 液晶ポリマー (LCP) の物性と成形技術および高性能化
2023/1/6 バイオプラスチックの高機能化
2022/10/5 世界のプラスチックリサイクル 最新業界レポート
2022/8/31 ポリイミドの高機能設計と応用技術
2022/5/31 自動車マルチマテリアルに向けた樹脂複合材料の開発
ページのトップヘ