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EUVレジストの高感度化、感度測定とメタルレジストの反応機構

EUVレジストの高感度化、感度測定とメタルレジストの反応機構

～EUVレジスト特有の問題点や要求特性、注目を集めるメタルレジストの開発状況～
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概要

本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

開催日

  • 2025年3月6日(木) 10時30分 ～ 16時15分

受講対象者

  • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
    • ナノインプリント
    • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
    • 印刷インキの乾燥
    • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
    • 光ファイバ等の保護コーティング
    • 光造形
    • 3Dプリンター
    • ジェルネイル等の装飾品 など
  • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
  • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

修得知識

  • EUV用レジストの基礎
  • EUV用レジストシステムの今後の動向
  • EUV用レジスト材料の問題点
  • EUV用レジスト材料の分子設計方法
  • EUV用レジスト材料の開発の方向性
  • EUVレジストの感度測定方法
  • EUVレジストのアウトガス分析手法
  • EUVレジストのX線吸収分光分析手法
  • メタルレジストがなぜ重要か
  • メタルレジストの基本構造
  • メタルレジストのEUV露光による反応機構
  • メタルレジストの大気安定性

プログラム

第1部 EUVレジスト材料の要求特性と高感度化技術

(2025年3月6日 10:30〜12:00)

　フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。2017年より極端紫外線 (EUV) 露光システムが実用化されている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料の開発が必要とされ続けている。
　本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。

  1. EUV用レジストシステム
    1. ムーアの法則とEUV用レジストシステム
    2. EUVレジストシステムの開発の動向
    3. EUV用レジスト材料の開発の必要性について
    4. EUV用レジスト材料に求められる特性
  2. EUV用レジスト材料
    1. ポジ型EUV用レジスト材料 (化学増幅型EUV用レジスト材料)
    2. ネガ型EUV用レジスト材料 (非化学増幅型EUV用レジスト材料)
    3. メタルEUV用レジスト材料
  3. EUV用レジスト材料の開発例
    1. 高感度型EUVレジスト材料
    2. EUV用レジスト材料の今後の課題
    • 質疑応答

第2部 EUVレジストの現像特性評価と化学解析

(2025年3月6日 13:00〜14:30)

　EUVレジストは従来の紫外線領域までのレジストと違い、ショットノイズや2次電子の影響などEUV特有の特徴がある。そのため、紫外線や電子線による代替測定だけでなく、実際のEUV照射による感度測定が必要である。
　本講座では感度測定手法と、それによって何がわかるのかを解説する。また、EUVレジストは50nm程度以下の薄膜での使用が基本となっており、EUV照射後に回収できるサンプルが少なく、溶液分析が困難である。固体状態での分析方法として、EUV照射時のアウトガス分析や、X線による吸収分光分析手法があり、それらも解説する。

  1. 分析におけるEUVレジストの特徴
    1. EUVと2次電子
    2. EUVレジストと膜厚
  2. EUVレジストの現像特性評価
    1. ポジ型レジスト
    2. ネガ型レジスト
    3. コントラストカーブからわかること
    4. EUV干渉露光
  3. EUVレジストの化学解析
    1. EUV照射前後の分析
      1. アウトガス分析
      2. X線吸収分光分析
    2. EUVレジストの化学組成分布評価
    • 質疑応答

第3部 メタルレジストの特徴とEUV露光による反応メカニズム

(2025年3月6日 14:45〜16:15)

　レジストの歴史歴背景、メタルレジストの重要性、メタルレジストの作製方法およびメタルレジストのEUVによる反応機構、メタルレジストの大気安定性を紹介する。メタルレジストの反応機構を明らかにする分析手法に関しても紹介する

  1. レジスト
    1. レジストの歴史
    2. レジストの歴史的背景
    3. リソグラフィのスケーリング則
    4. ムアーの法則以降のデバイス構造
    5. メタルレジストの重要性
  2. メタルレジスト
    1. EUV光吸収率の元素依存性
    2. メタルレジストの種類
    3. メタルレジストの作製方法
    4. メタルレジストの構造
    5. メタルレジストのEUV露光後の構造
    6. 各社が開発したメタルレジスト
  3. メタルレジストEUV露光による反応機構及び大気安定性の解析
    1. XRDによるEUV露光による構造変化解明
    2. 光電子分光によるEUV露光による反応元素解明
    3. 放射光X線吸収分光法を用いてEUV露光による反応化学結合解明
    4. メタルレジストの大気安定性解析
    • 質疑応答
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講師

  • 工藤 宏人 氏
    関西大学 化学生命工学部 化学・物質工学科
    教授
  • 山川 進二 氏
    兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所
    准教授
  • 山下 良之 氏
    国立研究開発法人 物質・材料研究機構 電子・光機能材料研究センター
    主幹研究員
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

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(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 請求書は、代表者にご送付いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
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  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
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