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半導体製造用薬液の不純物対策

半導体製造用薬液の不純物対策

～フィルタ/イオン交換樹脂の使い方、微量金属分析～
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概要

本セミナーでは、半島帯プロセスにおける濾過を取り上げ、濾過のメカニズム、プロセス設計と運転条件、スケールアップと濾過装置の種類、特徴とその選定、連続化及び最新動向について詳解いたします。

開催日

  • 2025年1月20日(月) 10時00分 ～ 17時00分

修得知識

  • 薬液中における不純物除去の基礎
  • フィルタの種類と役割
  • イオン交換樹脂の種類、特徴
  • イオン交換樹脂の半導体向け超純水精製への応用
  • イオン交換樹脂による金属イオンの捕集
  • イオン交換樹脂の半導体製造プロセスへの応用
  • ICP-MSを用いた半導体製造で用いられる薬液中の金属不純物の形態および分析方法

プログラム

第1部 半導体製造プロセスにおける濾過、分離

(2025年1月20日 10:00〜11:30)

　近年、半導体製造プロセスの微細化に伴い、薬液中の不純物除去は大きな課題となっている。本講座では、半導体製造プロセスにおける不純物除去の基礎と三種類のフィルタ (シービングフィルタ、ノンシービングフィルタ、金属除去フィルタ) の役割と効果についてご紹介する。

  1. 薬液中に存在する汚染物質
    1. 薬液中における汚染物質の種類
    2. 汚染物質の由来
    3. 汚染物質の及ぼす影響
  2. フィルタの基礎
    1. 濾過膜の定義と種類
    2. 薬液用フィルタの材質と適合性
    3. 薬液用フィルタの種類と役割
  3. シービングフィルタについて
    1. シービングフィルタとは?
    2. 粒子除去性能の評価方法
    3. 粒子除去の具体例
  4. ノンシービングフィルタについて
    1. ノンシービングフィルタとは?
    2. 吸着性能の評価方法
    3. 吸着効果の具体例
  5. 金属除去フィルタについて
    1. 金属除去フィルタとは?
    2. 薬液中におけるイオン性物質の挙動
    3. 金属除去フィルタの性能評価方法
    4. 金属除去の具体例
    • 質疑応答

第2部 イオン交換樹脂の種類、特徴と半導体向け超純水精製への応用

(2025年1月20日 12:10〜13:40)

　半導体製造工程では、薬品を利用したエッチングや洗浄が必須の工程である。このエッチング・洗浄に使われる薬品の希釈、また薬液を除去するリンスにおいては、不純物を極限まで除去した超純水が必須である。今回は、イオン交換樹脂を用いた水中の金属・イオン成分除去技術について紹介する。

  1. イオン交換樹脂の種類と特徴
    1. イオン交換樹脂の基本構造
    2. イオン交換樹脂の種類と分類
  2. イオン交換樹脂による金属・イオン除去
    1. イオン交換樹脂による金属・イオン吸着のメカニズム
    2. イオン交換樹脂による金属・イオン除去
    • 質疑応答

第3部 イオン交換樹脂による金属イオンの捕集とその半導体製造プロセスへの応用

(2025年1月20日 13:50〜15:20)

　イオン交換樹脂は、純水や超純水の製造など液体を清澄化する技術として広く使用されています。特に、液体中に存在するイオン性不純物の除去や、有価金属の回収、排水中の有害物質の除去など、様々な工業分野で活躍しています。
　そこで、使用されているイオン交換樹脂の諸特性の意味について解説すると共に、液体中に含まれる金属イオンの吸着と、半導体製造プロセスに必要な超純水製造におけるイオン交換樹脂の役割について解説します。

  1. はじめに
    1. イオン交換樹脂の解説
    2. イオン交換樹脂の用途
  2. イオン交換樹脂による金属吸着
    1. イオン交換樹脂・キレート樹脂の種類
    2. イオン交換樹脂の選択性
    3. キレート樹脂による金属吸着
    4. 評価事例
  3. 半導体製造プロセスにおける超純水製造
    1. 半導体製造プロセスにおけるイオン交換樹脂の必要性
    2. 高純度イオン交換樹脂
    3. 評価事例
    • 質疑応答

第4部 半導体製造ラインにおける薬液中の金属不純物分析

(2025年1月20日 15:30〜17:00)

　半導体製造では、酸・アルカリ・有機系の薬液が用いられる。これら薬液中の金属不純物分析は、誘導結合プラズマ質量分析計 (ICP-MS) が用いられる。本講座では、ICP-MSを用いて各種薬液中の極微量金属不純物を分析する際のこつおよび注意点について説明する。

  1. 半導体製造で使用される薬液の種類および金属不純物の形態
  2. ICP-MSの原理
    1. 分子イオン、同重体イオン干渉の除去技術
      1. シールドトーチおよびクールプラズマ
      2. コリジョン・リアクションセル
      3. MS/MS
    2. ICP-MSの試料導入系の選択
    3. 各薬液分析に必要なチューニング条件
    4. イオン性および粒子状不純物分析の違い
  3. 極微量分析試料の調製時の注意点
    1. ハンドリングによる汚染の避け方
    2. 容器・器具からの汚染の低減方法
    3. 検量線用標準溶液の液性による影響
  4. 分析の全自動化による汚染の低減
    1. オンライン自動標準液添加装置
    2. 自動希釈機能付きオートサンプラー
    3. オンライン薬液中金属不純物分析システム
  5. 各種薬液の分析例
    • 質疑応答
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講師

  • 三浦 こずえ 氏
    日本インテグリス合同会社 フォトアプリケーション開発部
    フォトアプリケーションエンジニア
  • 清水 由貴 氏
    三菱ケミカル株式会社 ウェルネス技術部 分離材技術グループ
    主任研究員
  • 出水 丈志 氏
    室町ケミカル株式会社 化学品事業部 化学品1部
    担当部長
  • 川端 克彦 氏
    ローツェイアス株式会社
    代表取締役
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 60,000円 (税別) / 66,000円 (税込)
複数名
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
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  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
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    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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