技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、半島帯プロセスにおける濾過を取り上げ、濾過のメカニズム、プロセス設計と運転条件、スケールアップと濾過装置の種類、特徴とその選定、連続化及び最新動向について詳解いたします。
(2025年1月20日 10:00〜11:30)
近年、半導体製造プロセスの微細化に伴い、薬液中の不純物除去は大きな課題となっている。本講座では、半導体製造プロセスにおける不純物除去の基礎と三種類のフィルタ (シービングフィルタ、ノンシービングフィルタ、金属除去フィルタ) の役割と効果についてご紹介する。
(2025年1月20日 12:10〜13:40)
半導体製造工程では、薬品を利用したエッチングや洗浄が必須の工程である。このエッチング・洗浄に使われる薬品の希釈、また薬液を除去するリンスにおいては、不純物を極限まで除去した超純水が必須である。今回は、イオン交換樹脂を用いた水中の金属・イオン成分除去技術について紹介する。
(2025年1月20日 13:50〜15:20)
イオン交換樹脂は、純水や超純水の製造など液体を清澄化する技術として広く使用されています。特に、液体中に存在するイオン性不純物の除去や、有価金属の回収、排水中の有害物質の除去など、様々な工業分野で活躍しています。
そこで、使用されているイオン交換樹脂の諸特性の意味について解説すると共に、液体中に含まれる金属イオンの吸着と、半導体製造プロセスに必要な超純水製造におけるイオン交換樹脂の役割について解説します。
(2025年1月20日 15:30〜17:00)
半導体製造では、酸・アルカリ・有機系の薬液が用いられる。これら薬液中の金属不純物分析は、誘導結合プラズマ質量分析計 (ICP-MS) が用いられる。本講座では、ICP-MSを用いて各種薬液中の極微量金属不純物を分析する際のこつおよび注意点について説明する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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1985/12/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ) |
1985/11/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ) |