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精密洗浄の技術動向と装置、材料選定のポイント

精密洗浄の技術動向と装置、材料選定のポイント

～洗浄、乾燥技術のトレンドと評価、水系洗浄剤、超音波洗浄の適用ポイント～
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概要

本セミナーでは、精密洗浄の基礎から解説し、水の動きを一つの軸として半導体洗浄が直感でわかるようになるポイント、半導体洗浄にまつわる課題と対策・未然防止策を解説いたします。

開催日

  • 2024年7月26日(金) 10時00分 ～ 16時20分

プログラム

第1部 半導体洗浄の基礎と次世代半導体の洗浄課題、洗浄・乾燥の最新技術

(2024年7月26日 10:00〜12:00)

　半導体製造において、洗浄は品質や歩留まりを向上するために欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から次世代半導体の洗浄課題、最新洗浄技術までを本セミナーで解説します。
　まずは、半導体洗浄の装置や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。また洗浄後は、濡れたウェハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があります。乾燥は洗浄とセットとなる重要なプロセスであるため、乾燥工程にフォーカスを当て解説します。
　その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄と乾燥課題に触れていきます。最先端半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由を解説し、最先端の洗浄技術を紹介します。
　本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

  1. なぜ半導体洗浄が必要なのか
    1. 基本的な半導体製造プロセス
    2. 半導体製造おける洗浄の位置づけ
    3. 洗浄対象物
  2. どのように半導体洗浄を行うか
    1. 洗浄装置の種類
    2. 洗浄薬液の種類
    3. 洗浄原理
  3. 洗浄の技術トレンド
    1. 半導体と洗浄の歴史
    2. 従来の洗浄技術
  4. 乾燥の技術トレンド
    1. 半導体と乾燥の歴史
    2. 従来の乾燥技術
  5. 次世代半導体の洗浄課題
    1. 半導体デバイスのトレンド
    2. 洗浄の技術的課題
    3. 洗浄装置に求められる機能
  6. 先端洗浄技術
    1. 最新の洗浄技術
    2. 最新の乾燥技術
    3. シミュレーション技術
  7. まとめ
    • 質疑応答

第2部 パーティクル洗浄に適した水系洗浄剤の開発動向と洗浄メカニズムの解説

(2024年7月26日 13:00〜14:00)

　パーティクルは製造工程や製品において影響を及ぼすため、パーティクルの洗浄による除去は重要な課題であり、近年さらにその重要性を増している。
　本講演では、パーティクル洗浄の概要、洗浄メカニズムを説明するとともに、パーティクル洗浄に適した水系洗浄剤の開発とその効果についても解説する。

  1. 会社紹介
  2. 洗浄について
  3. パーティクル洗浄
  4. パーティクル洗浄のメカニズム
  5. パーティクル洗浄に対するトレンド
  6. パーティクル除去用水系洗浄剤の開発と効果
  7. まとめ
    • 質疑応答

第3部 洗浄機内の流れと反応の考察と洗浄効果の評価方法

(2024年7月26日 14:10〜15:10)

　本講演では、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機における水の流れを可視化観察動画・静止画と計算例で眺め、より効果的な洗浄に向けた全体像が直感で分かることを目指します。
　それを起点にして、洗浄効果を上げるための評価方法について説明して行きます。まとめでは、困ったときの対策について述べます。

  1. 洗浄の4要素
    • 温度
    • 時間
    • 化学
    • 力学
  2. 流れ、熱、拡散、反応
  3. 流れの可視化観察 (身近な例の動画)
  4. 枚葉式洗浄機
    1. 水の流れ
      • 観察動画と計算例
      • 回転数
      • ノズルスイング
    2. 化学反応の例 (酸化膜エッチング速度の数値解析事例)
  5. バッチ式洗浄機
    1. 水の流れ (観察動画と計算例。水の循環は無駄)
    2. 水流を最適化 (入口と出口を変えて循環流を抑制した例)
  6. 洗浄の評価方法
    1. 実験・計算を用いた開発手順の例
    2. 試料の例と表面観察方法
  7. まとめ:困った時の視点と対策
    • 質疑応答

第4部 超音波洗浄技術と精密洗浄のポイント

(2024年7月26日 15:20〜16:20)

　半導体、FPDから金属部品の洗浄において幅広く使用されている超音波洗浄では周波数、洗浄液、リンス、乾燥など非常に多くの検討事項が存在する。本講演では、超音波および洗浄機の種類や特徴および精密洗浄を行う際の注意事項やポイントなど、基本的な内容を紹介する。

  1. 会社紹介
  2. 洗浄の種類
  3. 超音波の基礎
  4. 超音波洗浄機の種類と特徴
  5. 精密洗浄のポイント
  6. 精密洗浄および評価事例紹介
  7. まとめ
    • 質疑応答
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講師

  • 吉田 幸史 氏
    株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 洗浄要素開発統轄部 洗浄技術開発部 開発戦略課
    プロセス戦略リーダー
  • 守能 祥信 氏
    荒川化学工業 株式会社 研究開発本部 ファイン・エレクトロニクス開発部 洗浄・はんだグループ
    グループリーダー
  • 羽深 等 氏
    反応装置工学ラボ
    代表
  • 石川 義則 氏
    株式会社カイジョー 超音波機器事業部 開発技術部 ソリューション課
    課長
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 60,000円 (税別) / 66,000円 (税込)
複数名
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 55,000円(税別) / 60,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 60,000円(税別) / 66,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 110,000円(税別) / 121,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 165,000円(税別) / 181,500円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。
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