技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、精密洗浄の基礎から解説し、水の動きを一つの軸として半導体洗浄が直感でわかるようになるポイント、半導体洗浄にまつわる課題と対策・未然防止策を解説いたします。
(2024年7月26日 10:00〜12:00)
半導体製造において、洗浄は品質や歩留まりを向上するために欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から次世代半導体の洗浄課題、最新洗浄技術までを本セミナーで解説します。
まずは、半導体洗浄の装置や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。また洗浄後は、濡れたウェハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があります。乾燥は洗浄とセットとなる重要なプロセスであるため、乾燥工程にフォーカスを当て解説します。
その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄と乾燥課題に触れていきます。最先端半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由を解説し、最先端の洗浄技術を紹介します。
本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。
(2024年7月26日 13:00〜14:00)
パーティクルは製造工程や製品において影響を及ぼすため、パーティクルの洗浄による除去は重要な課題であり、近年さらにその重要性を増している。
本講演では、パーティクル洗浄の概要、洗浄メカニズムを説明するとともに、パーティクル洗浄に適した水系洗浄剤の開発とその効果についても解説する。
(2024年7月26日 14:10〜15:10)
本講演では、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機における水の流れを可視化観察動画・静止画と計算例で眺め、より効果的な洗浄に向けた全体像が直感で分かることを目指します。
それを起点にして、洗浄効果を上げるための評価方法について説明して行きます。まとめでは、困ったときの対策について述べます。
(2024年7月26日 15:20〜16:20)
半導体、FPDから金属部品の洗浄において幅広く使用されている超音波洗浄では周波数、洗浄液、リンス、乾燥など非常に多くの検討事項が存在する。本講演では、超音波および洗浄機の種類や特徴および精密洗浄を行う際の注意事項やポイントなど、基本的な内容を紹介する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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