技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。
半導体洗浄に関わる基礎知識と手法について、以下のように解説します。湿式洗浄は、 (1) 薬液や超音波などによって表面から汚れなどを引き剥がすこと、 (2) それらを「流れ」によって運び去ること、によって効果が生まれます。即ち、洗浄の大きな要因の一つは、「液体の動き」にあります。しかしながら、流れには難解な印象があるためか、特に半導体洗浄における流れに的を絞った研究例は意外なほど少ないのが実情です。一方で、流れを正面から捉えて、方法の理解、課題の発見と解明・解決、そして改善に結びつけることができれば、その効果は著しいはずです。
そこで本セミナーでは、流れを含めて「移動」する現象の基礎事項と法則を説明した後に、流れの可視化実験の実演を通して、流れの見方を説明し、容器内の流れの種類を説明します。次に、枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例を紹介し、流れの特徴と問題点を考察します。特に、実際の水の動き、その水流のもとで進行する化学反応、理想的な水の動きとは何か、それを簡便に創り出す方法はなにか、などについて詳述します。
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開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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1990/6/1 | LSI周辺金属材料・技術 |
1988/10/1 | 高密度表面実装 (SMT) におけるLSIパッケージング技術 |
1988/2/1 | 半導体の故障モードと加速試験 |
1985/12/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ) |
1985/11/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ) |