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有機無機ハイブリッド材料の設計、界面制御と機能性材料の開発

有機無機ハイブリッド材料の設計、界面制御と機能性材料の開発

～フレキシブルハードコート、自己修復性・高低屈折率コーティング～
東京都 開催 会場 開催
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概要

本セミナーでは、有機無機ハイブリッドの概要と新しい有機無機ハイブリッド材料の開発と機能性コーティングへの応用展開について解説いたします。

開催日

  • 2019年2月14日(木) 10時30分 ～ 16時30分

修得知識

  • ポリマー/ナノ粒子界面を制御し、目的の機能を発現させるポイント
  • コーティング材料の設計事例
    • ハードコート
    • 反射防止
    • 高屈折率
    • 自己修復性など

プログラム

　有機無機ハイブリッド材料は、無機ナノ材料と有機ポリマーがナノ分散することで合成することができ、無機物や有機物の単独では得られない特性、それぞれの物性のトレードオフの解消など、機能性材料としての様々な特徴が期待されています。それらのナノ分散には、無機材料と有機ポリマーの界面制御が必要であり、無機材料への反応基導入や表面修飾を活用することができます。無機成分の合成には、ゾルゲル法が一般的な方法として知られていますが、反応性基を持ったポリシルセスキオキサンや無機ナノ粒子などをビルディングブロックとして用いる有機無機ハイブリッドが注目されています。これらの有機無機ハイブリッドは、コーティング材料として非常に有用で、絶縁膜、屈折率をコントルールできる光学薄膜やフレキシブルハードコートなど、応用性に富んだ実用材料として注目されています。
　本講演では、有機無機ハイブリッドの概要と新しい有機無機ハイブリッド材料の開発と機能性コーティングへの応用展開について紹介します。

  1. 有機無機ハイブリッドの概要
    1. 有機無機ハイブリッドとは
    2. 有機無機ハイブリッドの作成方法
    3. 有機/無機の界面制御の重要性
    4. 有機無機ハイブリッドに期待される機能性
    5. 光学材料に求められる有機無機ハイブリッド薄膜
  2. ゾルゲル2元架橋反応による有機無機ハイブリッド
    1. ゾルゲル・光ラジカル重合による有機無機ハイブリッド
    2. ゾルゲル・光カチオン重合による有機無機ハイブリッド
    3. ゾルゲル・エン – チオール反応による有機無機ハイブリッド
  3. ポリシルセスキオキサンによる有機無機ハイブリッド
    1. ポリシルセスキオキサンとは
    2. ポリメチルシルセスキオキサンを用いたFET用ゲート絶縁膜の開発
    3. チオール基含有ポリシルセスキオキサンを用いた有機無機ハイブリッド
    4. フレキシブルおよび自己修復性コーティングへの応用
  4. ナノ粒子分散による有機無機ハイブリッド
    1. ナノ粒子分散の課題
    2. シリカナノ粒子空隙を応用した低屈折率コーティング
    3. ジルコニアナノ粒子分散による高屈折率コーティング
    4. チタニアナノ粒子分散による高屈折率コーティング
  5. おわりに
    • 質疑応答
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講師

  • 松川 公洋 氏
    京都工芸繊維大学 新素材イノベーションラボ
    特任教授
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会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 54,000円 (税込)
複数名
: 45,000円 (税別) / 48,600円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 45,000円(税別) / 48,600円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 54,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 97,200円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 145,800円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。
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