技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

常温導電性金属ナノ微粒子の合成、インク/ペースト化技術とデバイスへの応用

常温導電性金属ナノ微粒子の合成、インク/ペースト化技術とデバイスへの応用

東京都 開催 会場 開催
関連するセミナー・出版物
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する 関連するセミナー・出版物を探す

概要

本セミナーでは、各種デバイス製造の塗布プロセスで必須となる溶液導電材料について基礎から解説し、常温での塗布乾燥で、電極・配線を形成する金属ナノ粒子の技術動向について詳解いたします。

開催日

  • 2014年7月24日(木) 13時00分 ～ 16時30分

受講対象者

  • 各種半導体デバイスの製造に関連する技術者、研究者
    • 有機トランジスタ
    • 太陽電池 など
  • プリンタブルエレクトロニクスに関連する技術者、研究者、マーケティング担当者

プログラム

　近年、有機トランジスタや太陽電池などの各種半導体デバイスを印刷によって製造する機運が高まっている。
　塗布プロセスでは真空を必要としないため、装置のコストは比較的安く、また必要な部分に必要なだけ材料を塗布しデバイスを作ることが可能なため、初期導入コストおよびランニングコスト両面からメリットがある。
　このようなプリントプロセスでは、電気回路および電極を形成するための溶液導電材料が必須である。現在、このような用途で最も実用化可能性が高い物が金属ナノ粒子インクである。
　本セミナーでは、これまでの金属ナノインクを理解するためのナノ粒子合成法および物性を概説した上で、我々独自の、常温での塗布乾燥によって電極および配線を形成可能な常温導電性金属ナノ粒子を取り上げる。

  1. 金属ナノ粒子とは
    1. 金属ナノ粒子の構造
    2. 金属ナノ粒子の種類
    3. 金属ナノ粒子の合成法概論
      1. ガス中蒸発法
      2. アトマイズ法
      3. 化学還元法
      4. そのほかの方法
  2. 金属ナノ粒子の詳細な合成法
    1. 疎水性金属ナノ粒子
      1. 疎水性金属ナノ粒子の合成法
      2. 疎水性金属ナノ粒子の物性
      3. 疎水性金属ナノ粒子の溶解特性
    2. 親水性金属ナノ粒子
      1. 親水性金属ナノ粒子の合成法
      2. 親水性金属ナノ粒子の物性
      3. 親水性金属ナノ粒子の溶解特性
      4. 水溶性コロイドの安定性:DLVO理論
    3. 安定な金属ナノ粒子を作るには
  3. 金属ナノ粒子の物性
    1. 光学特性
    2. 触媒作用
    3. 導電特性
  4. 導電性ペースト・導電性インクとしての金属ナノ粒子
    1. 各社の金属ナノ粒子ペースト
    2. これまでの開発方向性
    3. 焼成温度低下には
  5. 常温導電性金属ナノ粒子
    1. π接合とは
    2. π接合常温導電性金属ナノ粒子の合成法
    3. π接合常温導電性金属ナノ粒子の導電特性
    4. π接合常温導電性金属ナノ粒子の光学特性
    5. π接合常温導電性金属ナノ粒子のデバイス化
    6. おわりに
  • 質疑応用・名刺交換
ページのトップヘ

講師

ページのトップヘ

会場

芝エクセレントビル KCDホール

B1F

東京都 港区 浜松町二丁目1番13号 芝エクセレントビル
芝エクセレントビル KCDホールの地図
ページのトップヘ

主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 41,040円 (税込)
複数名
: 20,000円 (税別) / 21,600円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名同時申込みで1名分無料
    • 1名あたり定価半額の20,000円(税別) / 21,600円 (税込)
    • 2名様ともS&T会員登録をしていただいた場合に限ります。
    • 同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
    • 3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
    • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
    • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
      申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
    • 他の割引は併用できません。
本セミナーは終了いたしました。
セミナーの再開催を依頼する
ページのトップヘ

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2025/4/15 半導体デバイス製造工程の基礎 オンライン
2025/4/22 先進半導体パッケージを理解するための三次元集積化技術の最新動向 オンライン
2025/4/24 AI、MI、機械学習、データサイエンスなどを用いた半導体・電気電子分野における開発効率化、製造および品質向上への活用 オンライン
2025/4/24 次世代パワーデバイス技術の展望と課題 オンライン
2025/4/24 パワー半導体用SiCの単結晶成長技術およびウェハ加工技術の開発動向 オンライン
2025/4/24 半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術、および最先端技術 オンライン
2025/4/25 半導体製造におけるプロセスインフォマティクスの活用技術 オンライン
2025/4/30 自動車の電動化に向けたシリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向 オンライン
2025/5/20 金属ナノ粒子の基礎と応用技術 オンライン
2025/5/22 半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2025年版) オンライン
2025/5/26 PVDF系有機圧電材料の基礎と加工法および開発動向 オンライン
2025/5/28 金属ナノ粒子の基礎と応用技術 オンライン
2025/5/29 半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2025年版) オンライン
2025/5/30 開閉接点・摺動接点・接続接点の接触理論と故障モード・メカニズムならびにその対策 東京都 会場・オンライン
2025/5/30 ナノ粒子の分散・凝集メカニズムと評価 オンライン
2025/5/30 PVDF系有機圧電材料の基礎と加工法および開発動向 オンライン
2025/5/30 物理学で理解するEUVリソグラフィの基礎・応用・課題と将来展望 オンライン
2025/6/6 ナノ粒子の分散・凝集メカニズムと評価 オンライン
ページのトップヘ

関連する出版物

発行年月
2019/7/19 2019年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望
2018/3/20 レジスト材料・プロセスの使い方ノウハウとトラブル解決
2018/1/10 SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント
2015/6/30 導電性フィラー、導電助剤の分散性向上、評価、応用
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書
2014/10/31 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2014/10/25 表面プラズモン技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2014/10/25 表面プラズモン技術 技術開発実態分析調査報告書
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2013/12/15 パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書
2013/2/10 酸化物半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
2012/6/15 半導体・液晶パネル製造装置9社 技術開発実態分析調査報告書
2012/4/15 Intel 【米国特許版】 技術開発実態分析調査報告書
2011/11/15 半導体露光装置 技術開発実態分析調査報告書
2010/6/5 半導体技術10社 技術開発実態分析調査報告書
2008/9/1 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2008/9/1 半導体製造用炭化ケイ素 技術開発実態分析調査報告書
1999/10/29 DRAM混載システムLSI技術
ページのトップヘ