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反射防止膜の要求特性と表面防汚および視認性向上技術

反射防止膜の要求特性と表面防汚および視認性向上技術

～ARフィルムにおける材料化学・表面化学の基礎と解析技術を解説～
東京都 開催 会場 開催
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開催日

  • 2014年6月20日(金) 12時30分 ～ 16時30分

受講対象者

  • 反射防止膜の応用製品に関連する技術者、研究者
    • タッチパネル、スマートフォン、タブレット端末
    • 撥水、撥油、防汚 など
  • 反射防止膜に関連する技術者、研究者

修得知識

  • ARフィルムの基礎
  • 表面化学の基礎
  • バイオミメティックスのディスプレイへの応用
  • タッチパネルの視認性向上

プログラム

　スマホ/タブレットで注目のFPD表面技術を詳解します。FPDにおいて、表面に貼り付ける反射防止膜や防汚技術は今や欠かせないものとなっています。
　本セミナーでは、まず概論として反射防止膜の構造並びに要求される特性を述べ、さらにその表面に塗布されている防汚膜に関して解説します。具体的には、防汚性を発揮するための材料化学、撥水・撥油性を理解するための表面化学、また分子レベルの表面の解析技術に関して詳細に解説し、その耐久性を付与するための基本技術について説明します。
　また、バイオミメティックスのディスプレイ表面への応用技術やタッチパネルなどの屋外使用を可能にするディスプレイの視認性向上技術について、指紋付着性への影響因子、屈折率マッチング材料、モスアイによるITOパターン非視認化技術の観点から最新の動向を含めて、解説します。

  1. ARフィルムの概要
    1. ARフィルムの特徴とその構造
    2. ARフィルムの製造装置
  2. ARフィルムへの要求特性
    1. ARフィルムへの化学的な要求特性
    2. ARフィルムへの物理的な要求特性
    3. ARフィルムへの電気的な要求特性
  3. 表面化学の基礎
    1. 界面現象
    2. 表面エネルギーの解析
      1. 表面の物理化学
      2. Zisman、Fowksの手法
      3. 具体的な表面エネルギーの算出
    3. 表面凹凸の影響
      1. Wenzelの手法
      2. Cassie-Baxterの手法
  4. AR表面の防汚化技術
    1. AR表面の防汚膜
    2. 防汚材料
    3. 塗布工程
    4. 防汚メカニズム
    5. 耐指紋特性に及ぼす影響因子
  5. バイオミメティックスのディスプレイへの応用
    1. 超撥水・撥油技術 (はすの葉を応用した防汚技術)
    2. 超親水技術 (蚊の目を応用した防曇技術)
    3. モスアイの応用 (蛾の目を応用した無反射技術)
  6. タッチパネル視認性向上技術
    1. 屈折率マッチング材料
    2. ITOパターン非視認化技術
    3. 指紋付着性への影響因子
  7. 表面分析
    1. 表面分析の一般
    2. FTIR
    3. X線光電子分光 (XPS)
    4. Auger分光
    • 質疑応答・名刺交換
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会場

タイム24ビル

2F 会議室C

東京都 江東区 青海2丁目4-32
タイム24ビルの地図
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主催

株式会社 R&D支援センター
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

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    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
    • 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
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