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中空粒子の合成、構造の制御と応用技術

中空粒子の合成、構造の制御と応用技術

東京都 開催 会場 開催

開催日

  • 2012年10月22日(月) 10時45分16時30分

修得知識

  • 中空粒子の合成法や構造制御法
  • 中空粒子を応用する為に必要な分散技術

プログラム

中空粒子は内部に空間をもつことで、中実粒子とは異なる特性を発現することがある。例えば、低密度や高比表面積といった基本的な物性から、高抵抗、低誘電率といった電気的性質さらには光学的にもユニークな性質がある。本講演では中空粒子の合成方法や構造制御法について述べる。また、中空粒子を用いた応用技術についても概説する。
  1. 中空粒子概論
    1. 中空粒子の利点
    2. 中空粒子の合成法概論
  2. ナノ粒子合成法と構造制御
    1. 酵素プロセスによる中空粒子合成
    2. シ-ド粒子による中空粒子合成
    3. バブルテンプレーティング法による中空粒子合成
    4. 表面機能化ナノ粒子の合成
    5. 関連研究の紹介
  3. 中空粒子の応用
    1. 分散方法
    2. 表面改質
    3. 応用例 (超断熱フィルム、ロンドン五輪バレーボール)
  4. 関連技術の紹介
    • 質疑応用・名刺交換

講師

  • 藤 正督
    名古屋大学 セラミックス基盤工学研究センター
    教授

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

4F 第2特別講習室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図

主催

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受講料

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