特許情報分析(パテントマップ)から見た

3M〔米国特許版〕技術開発実態分析調査報告書

～企業別動向予測シリーズ～

概要

本調査報告書は、「3M」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
3M(米国特許版) 技術開発実態分析調査報告書のCD-ROM版もご用意しております。

ご案内

1. 調査目的

米国ミネソタ州セントポール郊外に本拠地を置く、世界的化学・電気素材メーカーであって、産業関連全般から生活関連に至るまで、幅広い分野を事業とする世界有数のコングロマリットである3M(正式社名3M Company)に関する特許件数、出願人 (共同出願人)、発明者、特許分類、などに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、

(1). 3Mがどのような技術を権利化しているか、
(2). 3Mの技術開発動向はどのように推移しているか、
(3). 3Mが最近注目する技術は何か、
(4). 3Mと共同出願人間の連携状況はどのようになっているか、
等を明確にして、3Mの知財の現状につき具体的なデータを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2. 特許情報の収集方法

本調査報告書は、3Mが過去10年間(公報発行日:2003年1月1日～2012年12月31日)に取得した米国特許について検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。特許情報公報の総数は5,164件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、以下の3章から構成されている。

1. パテントマップ編
- A. 技術開発成果
- B. 技術開発リソース(発明者の活動状況)
- C. 技術開発分野(特許分類)の分析
- D. 共同出願人分析
2. パテントチャート編
3. 総括コメント

本報告書の特徴

3Mに関する技術動向がわかりやすく把握できる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例

A. 技術開発成果
- A-1. 特許件数の推移(年次と累計)
- A-2. 特許取得実績の変遷
B. 技術開発リソース(発明者の活動状況)
- B-1. 発明者数の推移(年次と累計)
- B-2. 新規発明者数の推移(年次と累計)
- B-3. 発明者別特許件数ランキング(上位50)
- B-4. 発明者別特許件数比較(上位20)
- B-5. 発明者別特許件数の伸長率(特許件数上位50)
- B-6. 発明者別特許件数の伸長率(伸長率上位50)
- B-7. 発明者(上位20)とクラス分類(上位20)の特許件数相関
- B-8. 発明者の特許件数とクラス分類数の比較(上位20)
- B-9. 発明者(上位20)とサブクラス分類(上位20)の特許件数相関
- B-10. 発明者の特許件数とサブクラス分類数の比較(上位20)
- B-11. 発明者別登場・退場状況(上位40)
- B-12. 発明者別登場・退場状況(最近40、5件以上)
- B-13. 発明者別新規クラス分類数の推移(上位10)
- B-14. 発明者別新規サブクラス分類数の推移(上位10)
- B-15. 発明者別新規キーワード数の推移(上位10)
- B-16. 特許件数1位発明者 (OUDERKIRK ANDREW J.) の技術開発ライフサイクル
- B-17. 特許件数2位発明者 (MOORE GEORGE G.I.) の技術開発ライフサイクル
- B-18. 特許件数3位発明者 (NEWBOULD PETER J.) の技術開発ライフサイクル
- B-19. 発明者の技術開発ポジション(上位10)
- B-20. 発明者(上位10)とクラス分類(上位10)の相関
- B-21. 発明者(上位10)とサブクラス分類(上位10)の相関
C. 技術開発分野(特許分類)の分析
- C-1. 分類数
  - C-1-1 .新規クラス分類数の推移(年次と累計)
  - C-1-2 .新規サブクラス分類数の推移(年次と累計)
- C-2. 分類別特許件数
  - C-2-1 .クラス分類別特許件数ランキング(上位50)
  - 表1:クラス分類リスト(上位50)
  - C-2-2 .サブクラス分類別特許件数ランキング(上位50)
  - 表2:サブクラス分類リスト(上位50)
  - C-2-3 .クラス分類別特許件数比較(上位20)(2003年～2007年 VS 2008年～2012年)
  - C-2-4 .サブクラス分類別特許件数比較(上位20)(2003年～2007年 VS 2008年～2012年)
  - C-2-5 .クラス分類別特許件数の伸長率(特許件数上位50)
  - C-2-6 .クラス分類別特許件数の伸長率(伸長率上位50)
  - C-2-7 .サブクラス分類別特許件数の伸長率(特許件数上位50)
  - C-2-8 .サブクラス分類別特許件数の伸長率(伸長率上位50)
  - C-2-9 .クラス分類別特許件数の推移(特許件数上位40、年次)
  - C-2-10 .クラス分類別特許件数の推移(特許件数上位40、累計)
  - C-2-11 .クラス分類別特許件数の推移(伸長率上位40、年次)
  - C-2-12 .クラス分類別特許件数の推移(伸長率上位40、累計)
  - C-2-13 .サブクラス分類別特許件数の推移(特許件数上位40、年次)
  - C-2-14 .サブクラス分類別特許件数の推移(特許件数上位40、累計)
  - C-2-15 .サブクラス分類別特許件数の推移(伸長率上位40、年次)
  - C-2-16 .サブクラス分類別特許件数の推移(伸長率上位40、累計)
- C-3. 分類別発明者数
  - C-3-1 .クラス分類別発明者数ランキング(上位50)
  - C-3-2 .サブクラス分類別発明者数ランキング(上位50)
  - C-3-3 .クラス分類別新規発明者数の推移(発明者数上位40、年次)
  - C-3-4 .クラス分類別新規発明者数の推移(発明者数上位40、累計)
  - C-3-5 .クラス分類別新規発明者数の推移(伸長率上位40、年次)
  - C-3-6 .クラス分類別新規発明者数の推移(伸長率上位40、累計)
  - C-3-7 .サブクラス分類別新規発明者数の推移(発明者数上位40、年次)
  - C-3-8 .サブクラス分類別新規発明者数の推移(発明者数上位40、累計)
  - C-3-9 .サブクラス分類別新規発明者数の推移(伸長率上位40、年次)
  - C-3-10 .サブクラス分類別新規発明者数の推移(伸長率上位40、累計)
- C-4. 分類別展開
  - C-4-1 .クラス分類別出現・消失状況(上位40)
  - C-4-2 .クラス分類別出現・消失状況(最近40、5件以上)
  - C-4-3 .サブクラス分類別出現・消失状況(上位40)
  - C-4-4 .サブクラス分類別出現・消失状況(最近40、5件以上)
  - C-4-5 .クラス分類の技術開発ポジション(上位20)
  - C-4-6 .サブクラス分類の技術開発ポジション(上位20)
  - C-4-7 .クラス分類別特許件数占有率(特許件数上位20)
  - C-4-8 .サブクラス分類別特許件数占有率(特許件数上位20)
- C-5. 特定2 クラス分類の分析
  - C-5-1 クラス分類1位428/*の出願人別特許件数ランキング
  - C-5-2 .クラス分類2位359/*の出願人別特許件数ランキング
  - C-5-3 .サブクラス分類1位428/343の出願人別特許件数ランキング
  - C-5-4 .サブクラス分類2位051/309の出願人別特許件数ランキング
  - C-5-5 .クラス分類1位428/*の出願人別発明者数ランキング
  - C-5-6 .クラス分類2位359/*の出願人別発明者数ランキング
  - C-5-7 .サブクラス分類1位428/343の出願人別発明者数ランキング
  - C-5-8 .サブクラス分類2位051/309の出願人別発明者数ランキング
  - C-5-9 .クラス分類1位428/*の技術開発ライフサイクル
  - C-5-10 .クラス分類2位359/*の技術開発ライフサイクル
  - C-5-11 .サブクラス分類1位428/343の技術開発ライフサイクル
  - C-5-12 .サブクラス分類2位051/309の技術開発ライフサイクル
  - C-5-13 .クラス分類1位428/*と他クラス分類との相関関係(上位20)
  - C-5-14 .クラス分類2位359/*と他クラス分類との相関関係(上位20)
  - C-5-15 .サブクラス分類1位428/343と他サブクラス分類との相関関係(上位20)
  - C-5-16 .サブクラス分類2位051/309と他サブクラス分類との相関関係(上位20)
D. 共同出願人分析
- D-1. 共同出願人の総特許件数の推移(年次と累計)
- D-2. 共同出願人別特許件数ランキング(全22)
- 表3:共同出願人(日本企業3社)の発明概要
- D-3. 共同出願人別発明者数ランキング(全22)
- D-4. 共同出願人別特許件数の推移(全22、年次と累計)
- D-5. 共同出願人別新規発明者数の推移(全22、年次と累計)
- D-6. 共同出願人別新規クラス分類数の推移(全22、年次と累計)
- D-7. 共同出願人別新規サブクラス分類数の推移(全22、年次と累計)
- D-8. 共同出願人別特許件数占有率(全22)
- D-9. 共同出願人(全22)とクラス分類(上位20)の特許件数相関
- D-10. 共同出願人(全22)とサブクラス分類(上位20)の特許件数相関
- D-11. 共同出願人別参入・撤退状況(全22、新しい順)
- D-12. 共同出願人相互の連携
2. パテントチャート編
- E-1. Board of Regents The University of Texas Systemの時系列チャート分析(2003年～2012年)
- E-2. Hydro-Quebec Corporationの時系列チャート分析(2003年～2012年)
- E-3. Board of Regents The University of Texas Systemの上位3サブクラス分類と位3発明者のマトリクスチャート分析(2003年～2012年)
- E-4. Hydro-Quebec Corporationの上位3サブクラス分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2003年～2012年)
3. 総括コメント

参考資料

【資料1】出願人統合リスト
【資料2】発明者統合リスト
【資料3】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

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出版社

株式会社パテントテック社

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お問い合わせ

本出版物に関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

A4判簡易製本 (Viewerソフトウェア、パテントマップ・チャート添付) 117ページ

ISBNコード

ISBN978-4-86483-332-5

発行年月

2014年2月

販売元

tech-seminar.jp

価格

43,909円 (税別) / 48,300円 (税込)

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開始日時		会場	開催方法
2025/12/9	電子機器における防水設計手法 (設計中級編)		オンライン
2025/12/9	接着の基本的な考え方と接着改良方法		オンライン
2025/12/10	電子機器・部品・材料の腐食・劣化の評価技術と対策技術	東京都	会場・オンライン
2025/12/10	プラスチックフィルムの種類、添加剤、製膜、応用、評価		オンライン
2025/12/10	電子機器における実践的な熱設計・熱対策技術		オンライン
2025/12/11	Roll To Roll製造における工程技術の基礎と実践的アプローチ		オンライン
2025/12/11	大気圧プラズマの基礎と最新応用技術		オンライン
2025/12/12	ぬれ性評価入門		オンライン
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2025/12/12	塗装・コーティング・フィルム製造現場のゴミ・異物対策セミナー	東京都	会場・オンライン
2025/12/12	Roll To Roll製造における工程技術の基礎と実践的アプローチ		オンライン
2025/12/12	ガスバリア技術の基礎と活用動向およびウェットプロセスによるウルトラ・ハイバリア技術		オンライン
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2025/12/16	化学工場配属者が知っておきたい現場の装置・化学工学必須知識 (2日間)		オンライン
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2025/12/17	生体親和性材料の界面設計・評価・スクリーニング		オンライン
2025/12/17	化学工場配属者が知っておきたい化学工学必須知識		オンライン
2025/12/18	再生医療足場材料の国内外研究開発動向と今後の展望		オンライン
2025/12/18	架橋剤を使うための実際的知識		オンライン

発行年月
2009/5/20	日本電気と富士通2社分析技術開発実態分析調査報告書
2009/5/20	日本電気と富士通2社分析技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/4/20	富士フイルムホールディングスグループ分析技術開発実態分析調査報告書
2009/4/20	富士フイルムホールディングスグループ分析技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/3/15	液晶ディスプレイ技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/3/15	液晶ディスプレイ技術開発実態分析調査報告書
2006/8/31	液晶ディスプレイバックライト
2006/6/16	電気・電子機器の振動と温・湿度複合環境試験
1998/6/15	電子機器・部品の複合加速試験と信頼性評価技術
1992/5/1	液晶ビデオプロジェクタ技術
1987/11/1	最新小型モータ用材料の開発・応用
1986/12/1	耐ノイズ機器実装設計技術
1985/10/1	電子部品・電子装置の環境信頼性試験

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