特許情報分析(パテントマップ)から見た

3M〔米国特許版〕技術開発実態分析調査報告書

～企業別動向予測シリーズ～

概要

本調査報告書は、「3M」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
3M(米国特許版) 技術開発実態分析調査報告書のCD-ROM版もご用意しております。

ご案内

1. 調査目的

米国ミネソタ州セントポール郊外に本拠地を置く、世界的化学・電気素材メーカーであって、産業関連全般から生活関連に至るまで、幅広い分野を事業とする世界有数のコングロマリットである3M(正式社名3M Company)に関する特許件数、出願人 (共同出願人)、発明者、特許分類、などに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、

(1). 3Mがどのような技術を権利化しているか、
(2). 3Mの技術開発動向はどのように推移しているか、
(3). 3Mが最近注目する技術は何か、
(4). 3Mと共同出願人間の連携状況はどのようになっているか、
等を明確にして、3Mの知財の現状につき具体的なデータを提供し、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2. 特許情報の収集方法

本調査報告書は、3Mが過去10年間(公報発行日:2003年1月1日～2012年12月31日)に取得した米国特許について検索、収集した。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」(インパテック(株)製)を使用した。特許情報公報の総数は5,164件である。

3. 報告書の構成

本報告書は、以下の3章から構成されている。

1. パテントマップ編
- A. 技術開発成果
- B. 技術開発リソース(発明者の活動状況)
- C. 技術開発分野(特許分類)の分析
- D. 共同出願人分析
2. パテントチャート編
3. 総括コメント

本報告書の特徴

3Mに関する技術動向がわかりやすく把握できる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例

A. 技術開発成果
- A-1. 特許件数の推移(年次と累計)
- A-2. 特許取得実績の変遷
B. 技術開発リソース(発明者の活動状況)
- B-1. 発明者数の推移(年次と累計)
- B-2. 新規発明者数の推移(年次と累計)
- B-3. 発明者別特許件数ランキング(上位50)
- B-4. 発明者別特許件数比較(上位20)
- B-5. 発明者別特許件数の伸長率(特許件数上位50)
- B-6. 発明者別特許件数の伸長率(伸長率上位50)
- B-7. 発明者(上位20)とクラス分類(上位20)の特許件数相関
- B-8. 発明者の特許件数とクラス分類数の比較(上位20)
- B-9. 発明者(上位20)とサブクラス分類(上位20)の特許件数相関
- B-10. 発明者の特許件数とサブクラス分類数の比較(上位20)
- B-11. 発明者別登場・退場状況(上位40)
- B-12. 発明者別登場・退場状況(最近40、5件以上)
- B-13. 発明者別新規クラス分類数の推移(上位10)
- B-14. 発明者別新規サブクラス分類数の推移(上位10)
- B-15. 発明者別新規キーワード数の推移(上位10)
- B-16. 特許件数1位発明者 (OUDERKIRK ANDREW J.) の技術開発ライフサイクル
- B-17. 特許件数2位発明者 (MOORE GEORGE G.I.) の技術開発ライフサイクル
- B-18. 特許件数3位発明者 (NEWBOULD PETER J.) の技術開発ライフサイクル
- B-19. 発明者の技術開発ポジション(上位10)
- B-20. 発明者(上位10)とクラス分類(上位10)の相関
- B-21. 発明者(上位10)とサブクラス分類(上位10)の相関
C. 技術開発分野(特許分類)の分析
- C-1. 分類数
  - C-1-1 .新規クラス分類数の推移(年次と累計)
  - C-1-2 .新規サブクラス分類数の推移(年次と累計)
- C-2. 分類別特許件数
  - C-2-1 .クラス分類別特許件数ランキング(上位50)
  - 表1:クラス分類リスト(上位50)
  - C-2-2 .サブクラス分類別特許件数ランキング(上位50)
  - 表2:サブクラス分類リスト(上位50)
  - C-2-3 .クラス分類別特許件数比較(上位20)(2003年～2007年 VS 2008年～2012年)
  - C-2-4 .サブクラス分類別特許件数比較(上位20)(2003年～2007年 VS 2008年～2012年)
  - C-2-5 .クラス分類別特許件数の伸長率(特許件数上位50)
  - C-2-6 .クラス分類別特許件数の伸長率(伸長率上位50)
  - C-2-7 .サブクラス分類別特許件数の伸長率(特許件数上位50)
  - C-2-8 .サブクラス分類別特許件数の伸長率(伸長率上位50)
  - C-2-9 .クラス分類別特許件数の推移(特許件数上位40、年次)
  - C-2-10 .クラス分類別特許件数の推移(特許件数上位40、累計)
  - C-2-11 .クラス分類別特許件数の推移(伸長率上位40、年次)
  - C-2-12 .クラス分類別特許件数の推移(伸長率上位40、累計)
  - C-2-13 .サブクラス分類別特許件数の推移(特許件数上位40、年次)
  - C-2-14 .サブクラス分類別特許件数の推移(特許件数上位40、累計)
  - C-2-15 .サブクラス分類別特許件数の推移(伸長率上位40、年次)
  - C-2-16 .サブクラス分類別特許件数の推移(伸長率上位40、累計)
- C-3. 分類別発明者数
  - C-3-1 .クラス分類別発明者数ランキング(上位50)
  - C-3-2 .サブクラス分類別発明者数ランキング(上位50)
  - C-3-3 .クラス分類別新規発明者数の推移(発明者数上位40、年次)
  - C-3-4 .クラス分類別新規発明者数の推移(発明者数上位40、累計)
  - C-3-5 .クラス分類別新規発明者数の推移(伸長率上位40、年次)
  - C-3-6 .クラス分類別新規発明者数の推移(伸長率上位40、累計)
  - C-3-7 .サブクラス分類別新規発明者数の推移(発明者数上位40、年次)
  - C-3-8 .サブクラス分類別新規発明者数の推移(発明者数上位40、累計)
  - C-3-9 .サブクラス分類別新規発明者数の推移(伸長率上位40、年次)
  - C-3-10 .サブクラス分類別新規発明者数の推移(伸長率上位40、累計)
- C-4. 分類別展開
  - C-4-1 .クラス分類別出現・消失状況(上位40)
  - C-4-2 .クラス分類別出現・消失状況(最近40、5件以上)
  - C-4-3 .サブクラス分類別出現・消失状況(上位40)
  - C-4-4 .サブクラス分類別出現・消失状況(最近40、5件以上)
  - C-4-5 .クラス分類の技術開発ポジション(上位20)
  - C-4-6 .サブクラス分類の技術開発ポジション(上位20)
  - C-4-7 .クラス分類別特許件数占有率(特許件数上位20)
  - C-4-8 .サブクラス分類別特許件数占有率(特許件数上位20)
- C-5. 特定2 クラス分類の分析
  - C-5-1 クラス分類1位428/*の出願人別特許件数ランキング
  - C-5-2 .クラス分類2位359/*の出願人別特許件数ランキング
  - C-5-3 .サブクラス分類1位428/343の出願人別特許件数ランキング
  - C-5-4 .サブクラス分類2位051/309の出願人別特許件数ランキング
  - C-5-5 .クラス分類1位428/*の出願人別発明者数ランキング
  - C-5-6 .クラス分類2位359/*の出願人別発明者数ランキング
  - C-5-7 .サブクラス分類1位428/343の出願人別発明者数ランキング
  - C-5-8 .サブクラス分類2位051/309の出願人別発明者数ランキング
  - C-5-9 .クラス分類1位428/*の技術開発ライフサイクル
  - C-5-10 .クラス分類2位359/*の技術開発ライフサイクル
  - C-5-11 .サブクラス分類1位428/343の技術開発ライフサイクル
  - C-5-12 .サブクラス分類2位051/309の技術開発ライフサイクル
  - C-5-13 .クラス分類1位428/*と他クラス分類との相関関係(上位20)
  - C-5-14 .クラス分類2位359/*と他クラス分類との相関関係(上位20)
  - C-5-15 .サブクラス分類1位428/343と他サブクラス分類との相関関係(上位20)
  - C-5-16 .サブクラス分類2位051/309と他サブクラス分類との相関関係(上位20)
D. 共同出願人分析
- D-1. 共同出願人の総特許件数の推移(年次と累計)
- D-2. 共同出願人別特許件数ランキング(全22)
- 表3:共同出願人(日本企業3社)の発明概要
- D-3. 共同出願人別発明者数ランキング(全22)
- D-4. 共同出願人別特許件数の推移(全22、年次と累計)
- D-5. 共同出願人別新規発明者数の推移(全22、年次と累計)
- D-6. 共同出願人別新規クラス分類数の推移(全22、年次と累計)
- D-7. 共同出願人別新規サブクラス分類数の推移(全22、年次と累計)
- D-8. 共同出願人別特許件数占有率(全22)
- D-9. 共同出願人(全22)とクラス分類(上位20)の特許件数相関
- D-10. 共同出願人(全22)とサブクラス分類(上位20)の特許件数相関
- D-11. 共同出願人別参入・撤退状況(全22、新しい順)
- D-12. 共同出願人相互の連携
2. パテントチャート編
- E-1. Board of Regents The University of Texas Systemの時系列チャート分析(2003年～2012年)
- E-2. Hydro-Quebec Corporationの時系列チャート分析(2003年～2012年)
- E-3. Board of Regents The University of Texas Systemの上位3サブクラス分類と位3発明者のマトリクスチャート分析(2003年～2012年)
- E-4. Hydro-Quebec Corporationの上位3サブクラス分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析(2003年～2012年)
3. 総括コメント

参考資料

【資料1】出願人統合リスト
【資料2】発明者統合リスト
【資料3】パテントマップ・パテントチャートの種別と見方

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出版社

株式会社パテントテック社

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お問い合わせ

本出版物に関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。

(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

A4判簡易製本 (Viewerソフトウェア、パテントマップ・チャート添付) 117ページ

ISBNコード

ISBN978-4-86483-332-5

発行年月

2014年2月

販売元

tech-seminar.jp

価格

43,909円 (税別) / 48,300円 (税込)

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開始日時		開催方法
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2025/8/6	接着接合技術の基本と劣化メカニズムの解明、評価と最新の研究事例	オンライン
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2025/8/8	有機EL (OLED) 、μOLED、μLED、液晶、量子ドットなどの次世代ディスプレイ技術の現状と展望	オンライン
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発行年月
2009/5/20	日本電気と富士通2社分析技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/4/20	富士フイルムホールディングスグループ分析技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/4/20	富士フイルムホールディングスグループ分析技術開発実態分析調査報告書
2009/3/15	液晶ディスプレイ技術開発実態分析調査報告書 (PDF版)
2009/3/15	液晶ディスプレイ技術開発実態分析調査報告書
2006/8/31	液晶ディスプレイバックライト
2006/6/16	電気・電子機器の振動と温・湿度複合環境試験
1998/6/15	電子機器・部品の複合加速試験と信頼性評価技術
1992/5/1	液晶ビデオプロジェクタ技術
1987/11/1	最新小型モータ用材料の開発・応用
1986/12/1	耐ノイズ機器実装設計技術
1985/10/1	電子部品・電子装置の環境信頼性試験

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