技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

反射防止フィルム 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)

特許情報分析 (パテントマップ) から見た

反射防止フィルム 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)

反射防止フィルム 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)の画像

概要

本調査報告書は、「反射防止フィルム」に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。
反射防止フィルム 技術開発実態分析調査報告書の書籍版 もご用意しております。

ご案内

1. 調査目的

「反射防止フィルム」に関する出願件数、出願人 (共同出願人) 、発明者、特許分類などに対し、ランキング、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップを作成し、技術開発の実態を把握し今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

  • この分野の技術開発の全貌を把握すること。
    • (1). この分野に進出している企業等 (出願人) から見た技術開発実態について
    • (2). 特許分類 (FI) から見た技術開発実態、及び
    • (3). 特許分類 (Fターム) から見た技術開発実態について
    • (4). この分野の技術開発に着手している技術開発者 (発明者) から見た技術開発実態について
    • (5). この分野の技術開発の内容 (要約内、請求の範囲内キーワード) から見た技術開発実態について
    • (6). この分野の技術開発を企業 (出願人) と企業 (出願人) 、技術開発者 (発明者) と技術開発者 (発明者) 、企業 (出願人) と技術分類 (FI、Fターム) 、技術開発者 (発明者) と技術分類 (FI、Fターム) の両面から見た技術開発実態について
    • (7). この分野の技術と技術 (FI、Fターム) の両面から見た技術開発実態について
  • この分野の技術開発の個別観点 (トップ企業、注目企業、基本技術、重要技術等) に注目して把握すること。
    • (8). この分野の技術開発のトップ企業等 (出願件数第1位の出願人) から見た技術開発実態について
    • (9). この分野の技術開発の基本又は重要技術 (特定分類:FI、Fターム) から見た技術開発実態について
    • (10). この分野の技術開発の基本又は重要技術 (特定分類:Fタームテーマコード) から見た技術開発実態について
    • (11). この分野における最近の技術開発内容 (要約内、請求の範囲内キーワード) から見た技術開発実態について

2. 特許情報の収集方法

本調査報告書は「反射防止フィルム」の国内出願日:2013年1月から2023年12月までに出願された公開特許について、検索、収集した。
その結果、特許情報の総数は3,570件である。また、報告書作成には、パテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」 (インパテック 株式会社 製) を使用した。

3. 報告書の構成

  • (1) 企業 (出願人) を対象として
  • (2) 技術分類 (FI) を対象として
  • (3) 技術分類 (Fターム) を対象として
  • (4) 技術開発者 (発明者) を対象として
  • (5) 技術開発の内容 (要約内・請求の範囲内キーワード) を対象として
  • (6) 企業 (出願人) と企業 (出願人) 、技術開発者 (発明者) と技術開発者 (発明者) 、企業 (出願人) と技術分類 (FI、Fターム) 、技術開発者 (発明者) と技術分類 (FI、Fターム) の両面を対象として
  • (7) 技術分類と技術分類 (FI、Fターム) を対象として
  • (8) 特定出願人 (出願件数第1位の出願人) を対象として
  • (9) 特定技術「出願件数第1位のFI、第5位のFターム」を対象として
  • (10)特定技術分類Fターム_テーマコードテーブル「出願件数第1位のFターム_テーマコード」を対象として
  • (11)特別付録 (ニューアピアランス® キーワードランキングリスト)

4. 本報告書の特徴

  • 技術動向が分かりやすく把握できる。
  • パテントマップで視覚的に理解しやすい。
  • 母集団を (1) 全体、 (2) 特定技術、 (3) 特定出願人に分けて、わかりやすい。
  • 特別付録の「直近3年間におけるニューアピアランス®キーワードランキングリスト」により、ごく最近の技術開発の実態が推測できる。
  • このリストを活用することにより、技術開発における最新の技術開発動向を推測することができる。即ちこの技術開発において、最近開始された技術開発が何であるかを推測できる。また件数の多少により、その技術開発の本気度を推測できる。

目次

  • はじめに

この分野の技術開発の全貌を把握すること。

  • 1.この分野に進出している企業等 (出願人) から見た技術開発実態について
    • 過去11年間における出願件数の上位企業等はどこで、どのような出願傾向にあるか?
    • 最近3年間の出願件数の成長率の高い企業等はどこか?
    • 上位企業における技術開発者 (発明者) の投入状況はどうか?
    • 上位企業等における過去約11年間と最近約3年間の件数シェアの変化はどうか?
    • 企業等の新規参入、撤退状況はどうか?
    • 新技術開発へ意欲 (新規分類数の増加) 的な企業はどうか?
    • 上位企業等における共同開発の実態 (共同出願関係) はどうか?
  • 2.特許分類 (FI) から見た技術開発実態、及び
  • 3.特許分類 (Fターム) から見た技術開発実態について
    • 出願件数の多い開発技術は何であり、どのような傾向にあるか?
    • 最近盛んになった開発技術 (最近3年間の出願件数の成長率の高い分類) は何か?
    • 各開発技術 (特許分類) に、どのくらいの技術開発者 (発明者) が投入されているか?
    • 新規に開発が開始された技術 (分類) 、既に撤退したと思われる技術 (分類) に何があるか?
  • 4.この分野の技術開発に着手している技術開発者 (発明者) から見た技術開発実態について
    • 過去11年間における出願件数上位の技術開発者は誰であるか?
    • 最近3年間の出願件数の成長率の高い技術開発者は誰であるか?
  • 5.この分野の技術開発の内容 (要約内、請求の範囲内キーワード) から見た技術開発実態について
    • 最近 (5年間) に出現した新規技術用語 (ニューエントリーキーワード) は何か?
  • 6.この分野の技術開発を企業 (出願人) と企業 (出願人) 、技術開発者 (発明者) と技術開発者 (発明者) 、企業 (出願人) と技術分類 (FI、Fターム) 、技術開発者 (発明者) と技術分類 (FI、Fターム) の両面から見た技術開発実態について
    • 出願件数上位20出願人が、どこと共同開発しているか?
    • 出願件数上位50出願人が、出願件数上位50分類の何処に力を入れているか?
    • 出願件数上位50発明者が、出願件数上位50分類の何処に力を入れているか?
  • 7.この分野の技術と技術 (FI、Fターム) の両面から見た技術開発実態について
    • 各技術分類 (特許分類) が、どの技術グループ (FI分類) の何処に力を入れているか?
    • 各技術分類 (特許分類) が、どの細部技術項目 (Fターム分類) の何処に力を入れているか?

この分野の技術開発の個別観点 (トップ企業、注目企業、基本技術、重要技術等) に注目して把握すること。

  • 8.この分野の技術開発のトップ企業等 (出願件数第1位の出願人) から見た技術開発実態について
    • どの技術開発 (特許分類:FI、Fターム) に積極的に取り組んでいるか (出願件数) ?またその動向 (出願傾向) はどうか?
    • 上位50技術開発者 (発明者) は誰であり、どのような動向 (傾向) であるか?
    • 上位50技術開発者 (発明者) が、上位50技術 (FI、Fターム) のどれに注力しているか?
    • 最近3年間に着手が開始された技術開発 (分類) は何か?
  • 9.この分野の技術開発の基本又は重要技術 (特定分類:FI、Fターム) から見た技術開発実態について
    • この技術開発で特許出願の多い企業等 (上位50出願人) は誰であり、その動向 (傾向) はどうか?
    • 最近3年間に着手が開始された技術開発 (分類) に何があるか?
  • 10. この分野の技術開発の基本又は重要技術 (特定分類:Fタームテーマコード) から見た技術開発実態について
    • テーマコードテーブル内の各マス目に対応して、技術開発状況 (出願件数) を表示するとどうなるか?
  • 11. この分野における最近の技術開発内容 (要約内、請求の範囲内キーワード) から見た技術開発実態について
    • 技術開発における最新の技術開発動向を技術的な観点で把握するために、直近3年間に、「要約内及び請求の範囲内」に新規に出現したキーワードをランキング化してリスト表示 (約1,000件以内) するとどうか?
    • 特別付録 (ニューアピアランス®キーワードランキングリスト) として提供する。

出版社

お支払い方法、返品の可否は、必ず注文前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本出版物に関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

CD-ROM (PDF, パテントマップViewer、パテントマップEXZデータ) 204ページ

ISBNコード

978-4-86786-320-6

発行年月

2024年4月

販売元

tech-seminar.jp

価格

41,200円 (税別) / 45,320円 (税込)

同時購入割引

  • 書籍版・CD-ROM版の同時購入で 67,320円(10%税込) (通常価格 90,640円 10%税込) でご購入いただけます。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2024/12/23 高分子延伸による分子配向・結晶化制御技術 東京都 会場
2024/12/23 ハードコート剤の開発、材料設計、調製、特性評価、高機能化、応用展開 オンライン
2024/12/24 プラスチックフィルムの種類、添加剤、 製膜、応用、評価 オンライン
2024/12/25 ダイ塗布プロセスの欠陥メカニズム・課題と対策 オンライン
2025/1/7 高品質スラリー調製のための分散技術とその安定化、評価方法 オンライン
2025/1/8 基材への塗布層の形成、コーティング液の塗布技術 オンライン
2025/1/10 高機能化、高性能化のための表面処理法の基礎と表面分析法 オンライン
2025/1/15 スラリー中粒子の分散・凝集状態の制御に向けた評価技術 オンライン
2025/1/17 ぬれ性のメカニズムと測定・評価・利用法 オンライン
2025/1/20 大気圧プラズマの基礎と最新応用技術 オンライン
2025/1/20 常温型フッ素コーティングによる防湿・絶縁・耐酸・撥水・撥油・離型技術とPFAS規制 オンライン
2025/1/20 塗布膜乾燥プロセスのメカニズムと均一化・制御法 オンライン
2025/1/22 ゾル-ゲル法の基礎と高機能性材料設計への応用・新展開 オンライン
2025/1/23 粉体・微粒子の表面処理と機能性ナノコーティング技術 会場・オンライン
2025/1/24 ぬれ性のメカニズムと測定・評価・利用法 オンライン
2025/1/28 めっきの基礎とプラスチックへのめっき技術 オンライン
2025/1/28 塗布膜乾燥プロセスのメカニズムと均一化・制御法 オンライン
2025/1/29 超親水化・超撥水化のメカニズムと評価および制御技術 オンライン
2025/1/29 常温型フッ素コーティングによる防湿・絶縁・耐酸・撥水・撥油・離型技術とPFAS規制 オンライン
2025/1/30 フレキシブルプリント基板の樹脂フィルム/ガラスと銅箔の接合技術 オンライン

関連する出版物