第1部 アニール処理による高分子の高次構造変化 – そのメカニズムと解析

(2026年4月22日 10:15〜11:45)

　アニール処理は応力緩和特性を利用して残留ひずみを低減する方法として重要である。高分子固体に関する基礎的な事項を簡単に復習したのちに、アニール効果の原因である高分子の緩和現象について解説する。さらに、高分子の低温結晶の事例を紹介する。

1. はじめに
   1. アニールの目的
   2. 高分子の高次構造
   3. 高分子の熱的性質
2. ガラス転移とエンタルピー緩和
   1. ガラス状態とガラス転移
   2. エンタルピー緩和
   3. ガラス状態のダイナミクス
   4. アニール処理方法
3. 低温結晶化
   1. 結晶化挙動の温度依存性
   2. 低温結晶化
• 質疑応答

第2部 射出成形及び押出成形における残留ひずみ/残留応力の発生原理・対策とアニール処理

(2026年4月22日 12:45〜14:30)

　プラスチックにおける残留ひずみ/残留応力発生原理は成形法によらず同じであるが、射出成形と押出成形では成形プロセスの違いによって発生機構は異なる。残留ひずみによる製品不具合にはクラック、そりや後寸法変化、光学ひずみなどがある。両成形法について、残留ひずみの発生機構と品質トラブル・対策およびアニール処理について解説する。

1. 樹脂特性と残留ひずみ発生原理
   1. 粘弾性と応力緩和
   2. 圧力・比容積・温度特性
   3. 残留ひずみ発生原理
2. 射出成形と残留ひずみ
   1. 射出成形法と残留ひずみの種類
   2. 発生機構と品質トラブル・対策
      1. 分子配向ひずみ
      2. 冷却ひずみ
      3. 金具インサートひずみ
3. 押出成形と残留ひずみ
   1. 押出成形法と残留ひずみの種類
   2. 発生機構と品質トラブル・対策
      1. 配向ひずみ
      2. 冷却ひずみ
      3. 二次加工による熱ひずみ
4. アニール処理
   1. アニール処理による残留応力低減原理
   2. アニール処理の温度、時間
   3. 射出成形品のアニール処理
   4. 押出成形品のアニール処理
   5. アニール処理の留意点
• 質疑応答

第3部 樹脂・フィルムへのアニール処理のための生産ラインの検討

(2026年4月22日 14:45〜15:35)

1. はじめに
   • 普段の生産ラインから
2. アニール処理による残留応力低減
   1. 熱風加熱
   2. 遠赤外線加熱
   3. 中赤外線加熱
3. アニール処理方法
   1. 処理条件の確定
   2. 最適な生産ライン
   3. バッチ式
   4. コンベア式
   5. ターンテーブル式
4. まとめ
• 質疑応答

第4部 アニール処理による樹脂・フィルムの面歪み、および透視歪みの計測・解析技術について

(2026年4月22日 15:45〜16:45)

　樹脂・フィルムの微小な表面歪みや透視歪みを、複数の縞パターンを投影して、そのゆがみを解析することによって高感度に定量化する技術を紹介します。従来、官能検査に頼っていたヒケ、ウェルドラインによる歪みの計測可視化を評価します。事例からアニール前後の変化に対する評価の可能性を提示します。

1. SurfTRiDY測定の光学系と測定状況
2. SurfTRiDY測定の原理
3. SurfTRiDY測定によって得られる結果
4. SurfTRiDYによる面ひずみ分布測定例
5. SurfTRiDYの用途・特徴
6. 樹脂・フィルムへの適用例、アニール処理の評価
7. SurfTRiDY高解像度対応
8. 透視歪測定装置PersTRiDYへの応用
9. その他開発事例
10. まとめ
• 質疑応答