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Si・SiC・GaN・酸化ガリウム・ダイヤモンドパワーデバイス技術と業界展望 2026

Si・SiC・GaN・酸化ガリウム・ダイヤモンドパワーデバイス技術と業界展望 2026

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、パワーデバイス技術の基礎・周辺材料技術と、SiCパワーデバイス、GaNパワーデバイス、酸化ガリウムパワーデバイス、ダイヤモンドパワーデバイスの実際・最新動向について詳解いたします。

開催日

  • 2026年1月21日(水) 10時30分16時30分

受講対象者

  • SiC半導体、GaN半導体、パワーデバイスに関連する技術者
    • 電気・エネルギー関連
    • 電力変換回路
    • 自動車
    • ハイブリッド車
    • 電気自動車
    • 電車
    • PC
    • 家電
    • エレベータ
    • インバーター
    • 無停電電源装置 など

修得知識

  • 過去30年のパワーデバイス開発の流れ
  • パワーデバイスの最新技術動向
  • SiC/GaNパワーデバイスの特長と課題
  • SiC/GaN市場予測
  • SiCデバイス実装技術
  • SiCデバイス特有の設計、プロセス技術

プログラム

 脱炭素社会の実現に向け、電力変換効率を高めるパワー半導体技術が注目されている。
 本セミナーでは、AIデータセンターの電源効率化に貢献するGaNデバイスの最新動向と、EV市場にて期待されるSiCデバイスの技術革新を中心に解説する。特にGaNは高周波・高効率動作に優れ、次世代電源設計に不可欠な要素である。一方、EV向けSiCは市場が踊り場にある中でも、高耐圧・低損失特性により車載インバータ等での採用が進んでいる。しかし現状では、依然としてシリコンパワーデバイスが主役に君臨している。これはとりもなおさず、SiC/GaNデバイスに代表される次世代パワーデバイスの性能、信頼性、さらには価格が市場の要求に十分応えられていないことによる。最強の競合相手であるシリコンパワーデバイスからSiC/GaNをはじめとした新材料パワーデバイス開発技術の現状と今後の動向について、半導体素子や実装技術、さらには市場予測を含め、わかりやすく、かつ丁寧に解説する。

  1. パワーエレクトロニクス (パワーエレクトロニクス) 、パワーデバイスとは何?
    1. パワーエレクトロニクス&パワーデバイスの仕事
    2. パワーデバイスの種類と基本構造
    3. パワーデバイスの適用分野
    4. 次世代パワーデバイス開発の位置づけ
  2. シリコンパワーデバイスの現状と課題
    1. パワー半導体デバイス市場の現在と将来
    2. MOSFET特性改善を支える技術
      1. 低耐圧MOSFET
      2. 高耐圧MOSFET
    3. IGBT特性改善を支える技術
    4. IGBT特性改善の次の一手
  3. SiCパワーデバイスの現状と課題
    1. 半導体デバイス材料の変遷
    2. ワイドバンドギャップ半導体材料はなぜパワーデバイスに適している理由
    3. なぜSiCパワーデバイスが新材料パワーデバイスでトップランナなのか
    4. 各企業はSiC-IGBTではなくSiC-MOSFETを開発する。なぜか?
    5. SiC-MOSFETの普及拡大のために解決すべき課題
    6. SiC-MOSFETコストダウンのための技術開発
    7. 低オン抵抗化がなぜコストダウンにつながるのか
    8. 最新SiC-MOSFET低オン抵抗化技術
    9. SiC-MOSFET内蔵ダイオードのVf劣化とは?
    10. 内蔵ダイオード信頼性向上技術
  4. GaNパワーデバイスの現状と課題
    1. GaNパワーデバイスの特徴はなにか?
    2. SiCとGaNデバイスの狙う市場
    3. GaNパワーデバイスはHEMT構造。その特徴は?
    4. ノーマリ-オフ・ノーマリーオン特性とはなに?
    5. GaN-HEMTのノーマリ-オフ化
    6. 最近のGaN-HEMTの進展
    7. 縦型GaNデバイスの最新動向
  5. 酸化ガリウム・ダイヤモンドパワーデバイスの現状
    1. 酸化ガリウムとその特徴
    2. 酸化ガリウムパワーデバイス最新開発状況
    3. ダイヤモンドパワーデバイス開発状況
  6. SiCパワーデバイス高温対応実装技術
    1. SiC-MOSFETモジュールに求められるもの
    2. 配線のインダクタンスを低減したパッケージ
    3. 接合材について
    4. 銀または銅焼結接合技術
    5. SiC-MOSFETモジュール技術
  7. まとめ

講師

  • 岩室 憲幸
    筑波大学 数理物質系 物理工学域
    教授

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 48,000円 (税別) / 52,800円 (税込)
複数名
: 24,000円 (税別) / 26,400円 (税込)

案内割引・複数名同時申込割引について

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  • Eメール案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 48,000円(税別) / 52,800円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 65,000円(税別) / 71,500円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 76,000円(税別) / 83,600円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 95,000円(税別) / 104,500円(税込)
  • Eメール案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 48,000円(税別) / 52,800円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 96,000円(税別) / 105,600円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 144,000円(税別) / 158,400円(税込)
    • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 192,000円(税別) / 211,200円(税込)
    • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 240,000円(税別) / 264,000円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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