技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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半導体の精密洗浄セミナーとの同時申し込みで特別割引にて受講いただけます。
2011年6月17日「半導体製造プロセスにおける精密洗浄技術の基礎と課題および最新動向」との同時受講
(通常受講料 : 94,500円 → 割引受講料 59,850円)
本セミナーでは、半導体表面クリーン化技術の基礎から最先端情報までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に解説いたします。
半導体デバイスの微細化にともない、半導体の製造現場では、パーティクル (異物微粒子) や金属不純物、ケミカル汚染などさまざまな微小な汚染物質が、半導体デバイスの歩留りや信頼性にますます大きな影響を及ぼすようになってきています。
このため、製造ラインの超清浄化―全工程にわたりシリコンウェーハをいかに清浄に保つかの重要性が一段と高まっています。
半導体製造の根幹である半導体表面クリーン化の視点に立ったクリーン化技術の基礎から最先端情報までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に解説します。
随時、ビデオ学習や練習問題を採り入れ受講者の理解を深めます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/7/12 | 水の動きで読み解く半導体洗浄のポイント | オンライン | |
2024/7/12 | CMP技術とその最適なプロセスを実現するための実践的総合知識 | オンライン | |
2024/7/12 | 熊本県半導体産業における現状、課題と新たな取り組みについて | 東京都 | 会場・オンライン |
2024/7/17 | GaNパワーデバイスの最新動向と技術課題 | オンライン |
発行年月 | |
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2024/4/30 | 次世代半導体用の難加工結晶材料のための超精密加工技術 |
2024/4/8 | ウォータージェット技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
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2024/2/26 | EUV (極端紫外線) 露光装置 技術開発実態分析調査報告書 |
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