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洗浄のメカニズムと残留汚れの定量化および簡易評価手法
洗浄のメカニズムと残留汚れの定量化および簡易評価手法
東京都 開催
会場 開催
本セミナーは終了いたしました。
概要
本セミナーでは、洗浄のメカニズムから洗浄剤、装置の選定におけるポイントおよび残存汚れの定量的な評価法について解説致します。
開催日
- 2014年2月20日(木) 10時30分 ～ 16時30分
受講対象者
- 洗浄が必要な製品・設備の技術者
- 精密機器
- 半導体
- 電気・電子機器
- 電子部品
- 電子材料
- 電池
- MEMS
- 光学材料、光学部品
- ディスプレイ
- 金属部品
- 各種工場、プラント
- 医薬品・製薬・製剤 など
修得知識
- 洗浄の基礎
- 洗浄の簡易評価
- 洗浄の定量評価
プログラム
洗浄のメカニズムから洗浄剤、装置の選定におけるポイントおよび残存汚れの定量的な評価法について、経験豊富な講師が詳しく解説する。
- 汚れの種類と汚れによる障害例
- 汚れの分類
- 汚染のメカニズム
- 精密部品における障害例
- 汚れの種類に合った洗浄メカニズム
- 粒子汚れ
- 有機汚れ (油性汚れ)
- 無機汚れ (金属汚れ、変質層、酸化膜)
- 汚れの残留評価基準 (要求表面清浄度)
- 製品品質検査結果と 残留汚れ量の関係利用
- 残留汚れ基準設定例
- 設定の効用
- 半導体洗浄に求められる清浄度目標
- 半導体ロードマップ提案の ウェーハ清浄度要求
- 洗浄性を見据えた洗浄剤、洗浄装置の選定
- 洗浄剤の分類
- 脱脂洗浄における溶剤洗浄か水系洗浄かの選定
- 付着粒子洗浄法の選定
- 表面汚染粒子の計数法
- 鏡面のレーザー光散乱計測法
- 液中粒子計測法による表面汚染粒子の計数法
- 有機汚染膜の計測法
- ガスクロマトグラフ法およびGC-MS法
- 液体クロマトグラフ法
- 多重反射赤外吸収法
- 電子分光 (オージェ電子、光電子) 法
- 質疑応答・名刺交換
会場
主催
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。
受講料
1名様
:
47,600円 (税別) / 49,980円 (税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
- 2名同時にお申し込みいただいた場合、2名で49,980円 (税込)
- 案内登録をされない方は、1名につき49,980円 (税込)
本セミナーは終了いたしました。
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