技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、半導体表面クリーン化技術の基礎から最先端情報までを、実践的な観点から豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的に解説いたします。
半導体デバイスの微細化にともない、半導体の製造現場では、パーティクル (異物微粒子) や金属不純物、有機汚染に代表されるケミカル汚染などさまざまな微小な汚染物質が、半導体デバイスの歩留りにますます大きな影響を及ぼすようになってきています。このため、製造ラインの超清浄化―全工程にわたりシリコンウェーハをいかに清浄に保つか—の重要性が一段と高まっています。
半導体表面への汚染付着を防止するクリーン化技術およびそれでも付着してしまった汚染を除去する洗浄技術の基礎、現状の課題と解決策から最先端情報までを、半導体製造の根幹である半導体歩留まり向上の視点に立って豊富な事例を交え、 初心者にも分かりやすく、かつ具体的・実践的に解説します。
半導体メーカーだけでなく、半導体製造装置・材料・空調など周辺メーカーの方々が先端半導体製造現場の実情を理解するのに最適です。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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発行年月 | |
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