tech-seminar.jp

本セミナーは、半導体デバイスの物理的洗浄に関して基礎から解説いたします。
半導体デバイスのマーケットの動向と業界動向から半導体の基礎、流体力学などの説明を行い、現在半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。

本セミナーでは、乱流や混相流といった “複雑な流れ” 現象を扱う数値シミュレーション手法と得られたデータの解析手法、応用方法、機械学習の流体力学への応用まで、最新の研究成果の事例を交えながら解説いたします。

本セミナーでは、乱流や混相流といった “複雑な流れ” 現象を扱う数値シミュレーション手法と得られたデータの解析手法、応用方法、機械学習の流体力学への応用まで、最新の研究成果の事例を交えながら解説いたします。

本セミナーでは、トポロジー最適化を使いこなす上で必要となる基礎理論をわかりやすく説明し、構造、熱、流体といった様々な物理場における事例を紹介いたします。
その上で、汎用ソフトウェアCOMSOL MultiphysicsとMATLABのサンプルコードを活用した実践的な実装方法について講じます。
さらに、トポロジー最適化を利用した設計支援の枠組みとして注目を集めるジェネレーティブデザインについても触れ、機械学習を取り入れたジェネレーティブデザインに関する最新の研究事例を紹介いたします。

本セミナーでは、流体解析が製品開発の中で、どの程度有効で効果的かといった視点で流体解析の様々な知識に触れて頂くことを目的としております。

本セミナーでは、非ニュートン流体中での気泡・液滴の運動機構および運動特性を中心に解説いたします。
また、その制御やスケールアップへの対応方法や課題について解説いたします。

本セミナーでは、非ニュートン流体中での気泡・液滴の運動機構および運動特性を中心に解説いたします。
また、その制御やスケールアップへの対応方法や課題について解説いたします。

本セミナーでは、流体力学の基礎について「重要な数式の容易な認識」、「丁寧で親切な記述」、「直感的な理解」、「数式のビジュアル化」の4つをコンセプトに解説いたします。

本セミナーでは、 流体の性質や流体機器内部で生じる流体の漏れ、流れの絞り、静圧軸受、流体力などについて、とくに水や油に代表される液体の内部流れに焦点を絞り、流体力学の基礎的事項を解説いたします。

本セミナーでは、流体力学の基礎から応用の初歩に至るまでを丁寧に詳解いたします。

本セミナーでは、工学基礎 (半導体の基礎の基礎、流体力学、電気磁気学、AI) から、半導体デバイスの製造プロセスで使われている物理的洗浄について原理から詳解いたします。
また、半導体デバイス製造時の静電気障害の対策についても紹介し、それを防止するためのAI技術についても説明いたします。

本セミナーでは、半導体の基礎、流体力学、電磁気学、AIから解説し、物理的洗浄について原理から丁寧に説明いたします。
また、半導体デバイス製造工程の歩留まりを決定する洗浄プロセスの中でもスプレー、超音波、ブラシを利用した物理的洗浄方法とその際に生じる静電気障害への対策についても解説いたします。

本セミナーでは、油圧システムの基礎から油圧機器 (油圧ポンプ・バルブ・アクチュエータ) の作動原理、作動油の性質や流れについて解説いたします。