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半導体製造におけるドライ/ウェットエッチング技術の基礎・応用と最新動向

半導体製造におけるドライ/ウェットエッチング技術の基礎・応用と最新動向

東京都 開催 会場 開催
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    • 概要

    本セミナーでは、ドライエッチングおよびウェットエッチングについて、エッチング反応の原理から装置、微細加工技術のトレンド、シリコン系材料やIII-V族化合物半導体のエッチング技術、そして最先端の原子層エッチング技術までを、メーカで化合物半導体光デバイスの製造プロセスやシリコンLSI向けエッチング装置の開発に携わってきた講師が、実経験を交えながら分かりやすく解説いたします。

    開催日

    • 2025年12月5日(金) 10時30分 ～ 16時30分

    受講対象者

    • エッチングに関連する技術者、製造技術担当者、品質担当者
      • MEMS
      • 半導体
      • 微細回路 など
    • 半導体デバイスメーカー、装置メーカー、材料メーカーの研究開発・生産製造に携わる方
    • これからプロセスプラズマを扱う方
    • プロセスガスの開発に携わっている方

    修得知識

    • 半導体デバイス・製造プロセスの技術トレンド
    • ドライエッチング、ウェットエッチング、原子層エッチングの基礎知識
    • 各種材料のエッチング反応・エッチングプロセス制御の考え方

    プログラム

    　半導体製造に必要不可欠なエッチング技術について、基礎から最新動向まで体系的に解説いたします。
    　先端半導体の開発動向から、ドライエッチングおよびウェットエッチングの原理、材料別の応用、そして最先端の原子層エッチングまでを詳説。対象材料はシリコン系に加え化合物半導体も含み、微細化・三次元化への対応から光デバイスなどの多様な応用領域までを網羅します。

    1. 先端半導体のトレンド/デバイス構造/製造プロセス
      1. ロジック/メモリーのトレンド
      2. デバイス構造
      3. 製造プロセス
    2. 半導体製造プロセスにおけるエッチング
      1. エッチングの種類
      2. エッチングの課題
    3. ドライエッチングの基礎とプロセス技術
      1. ドライエッチング装置の種類
      2. ドライエッチングプロセスの特徴
      3. ドライエッチングの原理
      4. ドライエッチング損傷
      5. 各種材料のドライエッチング
        • Si
        • SiO2
        • Si3N4
        • GaAs
        • InP
        • GaN
    4. ウェットエッチングの基礎とプロセス技術
      1. ウェットエッチングの原理
      2. ウェットエッチングの律速過程
      3. 各種材料のウェットエッチング
        • Si
        • SiO2
        • Si3N4
        • GaAs
        • InP
        • GaN
    5. 原子層エッチングの基礎と最新技術
      1. 原子層プロセスのトレンド
      2. 原子層エッチング基礎と分類
      3. 有機金属錯体反応を用いた熱ALE
      4. プラズマと熱サイクルを用いた等方性ALE
      5. ハロゲン化とイオン照射を用いた異方性ALE
      6. フルオロカーボンアシスト法を用いた異方性ALE
    6. 実プロセスにおけるエッチングの課題・トラブル事例と対策
      • 光デバイスエッチングにおける凹凸発生
    7. まとめと今後の課題
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    講師

    • 篠田 和典 氏
      株式会社 日立ハイテク ナノテクノロジーソリューション事業統括本部 プロセス東京技術センタ
      主任技師
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    会場

    連合会館

    502会議室

    東京都 千代田区 神田駿河台三丁目2-11
    連合会館の地図
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    主催

    S&T出版 株式会社
    お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

    お問い合わせ

    本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
    (主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

    受講料

    1名様
    : 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
    複数名
    : 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込)

    案内割引・複数名同時申込割引について

    S&T出版からの案内をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    また、4名様以上同時申込で全員案内登録をしていただいた場合、1名様あたり 22,000円(税込)でご受講いただけます。

    • Eメール案内を希望する方
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      • 4名様でお申し込みの場合 : 4名で 200,000円(税別) / 220,000円(税込)
      • 5名様でお申し込みの場合 : 5名で 250,000円(税別) / 275,000円(税込)
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