技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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(2025年11月13日 10:30〜12:00)
ガラスコアやガラスインターポーザーの市場における需要が高まりつつある中、製品確立の重要な要素技術の一つである、シード層〜TGVフィリングプロセスの工法例をご紹介します。他工法との比較もありますので、プロセスご検討の一助になれば幸いです。
(2025年11月13日 13:00〜14:30)
ガラス基板上へのCu層形成技術は、次世代高速通信技術の普及にとって重要な研究開発課題となっている。
本講義では、化学溶液析出 ( Chemical Bath Deposition, CBD) 法を用いたCu-OH系層の形成技術と水溶液化学還元プロセスからなる加熱フリー・Pdフリー溶液化学プロセスによってガラス基板上に密着性Cu層を形成する技術について講述する。化学溶液析出法の概要と熱力学に基づく理解、ガラス基板とCu層間に密着性を得るための設計と必要な要件、ならびにCu層形成における還元過程と電気的性質・密着性などの性質などについて概説する。さらに、溶液化学プロセスの設計・開発のための熱力学計算方法について講述する。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
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| 2026/5/15 | 半導体装置・材料のトレンドと今後の展望 (2026年版) | オンライン | |
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| 発行年月 | |
|---|---|
| 1987/8/1 | 機構部品の故障現象と加速試験 |
| 1985/12/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ) |
| 1985/11/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ) |