技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
このセミナーは過去に開催したセミナーのオンラインセミナー:オンデマンド配信です。
視聴方法のご案内メールの到着日より1ヶ月間、動画をご視聴いただけます。
お申込は、2025年6月27日まで受け付けいたします。
本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。
(収録日:2025年4月17日 ※映像時間:約2時間9分)
近年2nmスケールの半導体が非常に注目を集めている。その中の核技術の1つとしてレジストがあげられる。本講演では1) メタルレジストがなぜ重要か、2) 各社が開発したメタルレジスト、3) EUV光利用におけるメタルレジストの必要性、4) メタルレジストのEUV露光による反応機構を中心に講演を行っていく。必要に応じて、2nmスケール半導体作製における核技術、世界動向についても講演を行う。
(収録日:2025年2月20日 ※映像時間:約4時間20分)
半導体用レジスト技術の基礎から解説し、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセス、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説します。
半導体、LCD等の電子デバイス製造では、成膜、パターン作製 (レジスト塗布、露光、現像) 、エッチング、レジスト剥離、洗浄等のプロセスを複数回繰り返すことにより、基板上に微細素子がパターンニングされたトランジスタが形成される。これらの工程はリソグラフィー工程と呼ばれ、おおよそ20回から30回繰り返されることになる。
本講演では、特にレジスト材料 (感光性樹脂) ・プロセスについて解説するとともに、ノボラック系ポジ型レジスト、及び化学増幅系3成分 (ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤) ポジ型レジストのそれぞれの化学成分とレジスト特性との関係について解説する。レジスト剥離 (除去) 技術 については、環境に優しい新規な技術として、活性種として水素ラジカル、湿潤オゾン、マイクロバブル水を用いた技術について解説する。
また、元デバイスメーカーにいた者の視線で、レジストメーカーに原料を提供する素材メーカーにおけるレジスト評価法の具体的な手法について丁寧に解説したい。
(収録日:2024年12月17日 ※映像時間:約4時間24分)
フォトレジスト材料の開発は、G線、i線、KrFおよびArFエキシマーレーザーと、露光システムの変遷により、そのレジスト材料の骨格を変化させ、露光システムに対応したレジスト材料が開発されてきた。現在、極端紫外線 (EUV) 露光システムが実用段階として運用されようとしている。しかしながら、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるレジスト材料が開発されていない。
本テーマでは、これまで開発されてきたレジスト材料の基本的な構造を紹介しながら、レジスト材料の合成方法について、基本的な合成方法から最新の合成例について解説する。さらに、分子レジストや化学増幅型レジストの原理や合成方法について解説し、EUV用レジスト材料の研究開発例を紹介し、それらの問題点、および今後の分子設計方法について解説する。
(収録日:2025年1月31日 ※映像時間:約2時間59分)
フォトリソグラフィ技術の進化は、半導体集積回路の集積度向上を支えてきました。最先端の極端紫外線 (EUV) リソグラフィによって20 nm以下の線幅まで解像可能となり、微細化による半導体製品の高性能化のトレンドは継続するとみられます。しかし、EUVリソグラフィには特有の課題があり、レジスト材料等の最適化が進められています。
本講演では、微細加工技術の基礎から始まり、フォトリソグラフィ技術の原理や特長、さらに最新のEUVリソグラフィ技術について、光と物質の相互作用に基づいて詳しく解説します。
EUVリソグラフィの装置やレジスト、フォトマスクなどの要素技術から応用事例までを網羅し、最後にフォトリソグラフィ技術の課題と今後の展望について紹介します。これにより、微細加工分野における最先端技術の理解を深めていただくことを目的としています。
教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
|---|---|---|---|
| 2025/12/19 | プラスチックフィルムの種類、添加剤、 製膜、応用、評価 | オンライン | |
| 2025/12/19 | シランカップリング剤の基礎、反応メカニズム、各種応用、その評価 | オンライン | |
| 2025/12/19 | 二軸スクリュ押出機を用いたリアクティブプロセシング技術の基礎から応用へ | 東京都 | 会場・オンライン |
| 2025/12/19 | 架橋剤を使うための実際的知識 | オンライン | |
| 2025/12/19 | 高剪断成形加工技術の原理・新材料創製・量産化 | オンライン | |
| 2025/12/19 | 架橋技術によるポリマーの性能向上と物性・特性改良方法 | オンライン | |
| 2025/12/19 | マテリアルズ・プロセスインフォマティクスの基礎とポリマー材料設計への応用 | オンライン | |
| 2025/12/19 | 半導体製造装置・材料の技術トレンド、ニーズと求められる戦略 | オンライン | |
| 2025/12/22 | 高感度化フォトレジスト材料の合成・設計・開発技術 | オンライン | |
| 2025/12/22 | 光学用透明樹脂の基礎、屈折率制御および光吸収・散乱メカニズムと高透明化 | オンライン | |
| 2025/12/22 | 熱分析の基礎、応用と測定・解析技術 | オンライン | |
| 2025/12/22 | 高剪断成形加工技術の原理・新材料創製・量産化 | オンライン | |
| 2025/12/22 | マテリアルズ・プロセスインフォマティクスの基礎とポリマー材料設計への応用 | オンライン | |
| 2025/12/22 | リビング重合の基礎知識とリビングラジカル重合を用いた応用技術 | オンライン | |
| 2025/12/23 | エポキシ樹脂のフィルム化と接着性の向上、分析・評価 | オンライン | |
| 2025/12/23 | 次世代リソグラフィ技術の最新動向と今後の展望 | オンライン | |
| 2025/12/23 | EUの包装・包装廃棄物規則 (PPWR) の動向と日本への影響 | オンライン | |
| 2025/12/23 | 高分子の延伸における分子配向・配向結晶化と物性制御のメカニズム | オンライン | |
| 2025/12/24 | 高分子・ポリマー材料の合成、重合反応の基礎、プロセスと工業化・実用化のための総合知識 | オンライン | |
| 2025/12/25 | プラスチック・ゴムにおける劣化の調べ方・耐久性評価法・寿命予測法 | 東京都 | 会場・オンライン |
| 発行年月 | |
|---|---|
| 2022/5/31 | 自動車マルチマテリアルに向けた樹脂複合材料の開発 |
| 2022/5/30 | 世界のバイオプラスチック・微生物ポリマー 最新業界レポート |
| 2021/12/24 | 動的粘弾性測定とそのデータ解釈事例 |
| 2021/7/30 | 水と機能性ポリマーに関する材料設計、最新応用 |
| 2021/7/28 | プラスチックリサイクル |
| 2021/6/29 | UV硬化樹脂の開発動向と応用展開 |
| 2021/5/31 | 重合開始剤、硬化剤、架橋剤の選び方、使い方とその事例 |
| 2021/5/31 | 高分子材料の劣化・変色対策 |
| 2021/4/30 | 建築・住宅用高分子材料の要求特性とその開発、性能評価 |
| 2021/1/29 | 高分子材料の絶縁破壊・劣化メカニズムとその対策 |
| 2020/11/30 | 高分子の延伸による分子配向・結晶化メカニズムと評価方法 |
| 2020/11/30 | 高分子の成分・添加剤分析 |
| 2020/10/30 | ポリウレタンを上手に使うための合成・構造制御・トラブル対策及び応用技術 |
| 2020/9/30 | 食品容器包装の新しいニーズ、規制とその対応 |
| 2020/3/31 | 自己修復材料、自己組織化、形状記憶材料の開発と応用事例 |
| 2020/1/31 | 添加剤の最適使用法 |
| 2019/12/20 | 高分子の表面処理・改質と接着性向上 |
| 2019/10/31 | UV硬化技術の基礎と硬化不良対策 |
| 2019/1/31 | マテリアルズ・インフォマティクスによる材料開発と活用集 |
| 2018/11/30 | エポキシ樹脂の高機能化と上手な使い方 |