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半導体製造における洗浄技術・装置の最新動向と今後の展望

半導体製造における洗浄技術・装置の最新動向と今後の展望

オンライン 開催

視聴期間は2024年10月11日〜21日を予定しております。
お申し込みは2024年10月18日まで承ります。

概要

本セミナーでは、半導体製造における枚葉式洗浄機とバッチ式洗浄機の流れについて可視化観察例等を流れの特徴と問題点を考察を踏まえながら解説いたします。

開催日

  • 2024年10月18日(金) 10時30分 2024年10月21日(月) 16時15分

受講対象者

  • 半導体洗浄技術を構成している要素・要点を知りたい技術者
  • 半導体洗浄技術の課題を理解しているが、その解決方法を模索している技術者

修得知識

  • 半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎
  • 半導体製造における汚染制御と歩留改善に洗浄技術が重要であること
  • 最新の洗浄液技術
  • 半導体装置市場における洗浄装置の位置づけ
  • 半導体製造工程における洗浄プロセスの役割とその重要性
  • 半導体洗浄プロセスや洗浄方法の種類や特徴についての知識
  • デバイス構造の変化に伴い洗浄プロセスに求められる技術とその開発動向

プログラム

第1部 半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題

 半導体製造において、各種汚染は歩留低下を引き起こします。序論として汚染が半導体デバイスにおよぼす影響を示します。それを踏まえて、半導体洗浄に関して説明します。従来の洗浄から最近の洗浄、目的別洗浄について詳細を説明します。洗浄以外の汚染制御技術に関して紹介します。最後に次世代の汚染制御の問題点と洗浄乾燥技術について解説します。

  1. 序論: 汚染が半導体デバイスに与える影響
    1. クリーン化の重要性
    2. 金属汚染 (Fe, Cu等) およびナノパーティクル
    3. 分子汚染
      • NH3
      • アミン
      • 有機物
      • 酸性成分
    4. 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術
  2. 洗浄技術
    1. RCA洗浄
    2. 各種洗浄液と洗浄メカニズム
      • 薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
    3. 洗浄プロセスの動向
    4. 乾燥技術
    5. 最先端の洗浄技術とその問題点
  3. その他の汚染制御技術
    1. 工場設計
    2. ウェーハ保管、移送方法
  4. 次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
    1. 新洗浄乾燥技術
      • SCCO2洗浄乾燥
      • PK剤乾燥
    2. 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

第2部: 半導体洗浄プロセス・技術・装置の最新開発動向

 活況を呈する半導体業界において、半導体製造装置産業は大きな役割を担っています。
 本セミナーでは、半導体業界における製造装置メーカーの位置づけ、その中で洗浄装置の役割を確認します。その上で半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明し、洗浄対象物や洗浄原理についても解説します。今後ますます複雑化すると予想される半導体製造工程において、洗浄プロセスに求められる技術の概要や最新の開発状況にも触れていきます。また、今回「洗浄」だけでなく「乾燥」にも焦点を当て、その課題や技術トレンドについて紹介する予定です。

  1. はじめに
  2. 半導体製造装置市場の動向と洗浄装置の位置づけ
  3. 洗浄装置に求められる技術課題
  4. 最新半導体洗浄装置開発の紹介

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 25,000円 (税別) / 27,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

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「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 25,000円(税別) / 27,500円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 75,000円(税別) / 82,500円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)

アーカイブ配信セミナー

  • 当日のセミナーを、後日にお手元のPCやスマホ・タブレッドなどからご視聴・学習することができます。
  • 配信開始となりましたら、改めてメールでご案内いたします。
  • 視聴サイトにログインしていただき、ご視聴いただきます。
  • 視聴期間は2024年10月11日〜21日を予定しております。
    ご視聴いただけなかった場合でも期間延長いたしませんのでご注意ください。
本セミナーは終了いたしました。

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