技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

酸化ガリウムの基礎とパワーデバイスの開発動向

酸化ガリウムの基礎とパワーデバイスの開発動向

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、酸化ガリウムのバルク製造技術、エピタキシャル膜成長技術、デバイス開発の進展について解説いたします。

開催日

  • 2024年5月16日(木) 13時00分 16時00分

修得知識

  • デバイス開発に向けた酸化ガリウム材料のメリット、デメリット
  • 酸化ガリウムデバイスの各種応用
  • 酸化ガリウムデバイスのデバイス作製技術
  • 基板作製、エピタキシャル膜成長、デバイス開発の各種要素技術の開発

プログラム

 喫緊の課題である地球温暖化を防ぐために世界中で低炭素社会実現を目指した取り組みが行われています。エレクトロニクス分野では、電力変換の高効率化が必要不可欠であり、そのためにはシリコンデバイスを超える高性能なパワーデバイスが必須です。
 日本発のパワーデバイス材料である酸化ガリウムは、その材料特性の持つ利点から炭化ケイ素デバイスや窒化ガリウムデバイスを凌ぐ高効率パワーデバイスの実現が期待されています。また、シリコン同様に融液成長法によりバルク製造が可能なため、安価に大口径単結晶基板を得られる可能性があり、コスト面においても大きなアドバンテージを持つと考えられます。
 さらに、酸化ガリウムデバイスは、高温、放射線、腐食性ガス環境にも耐えうる物性から極限環境におけるIoTを実現するデバイスとしての応用へも期待されています。
 本講演では、酸化ガリウムのバルク製造技術、エピタキシャル膜成長技術、デバイス開発の進展について解説します。

  1. パワーデバイスとそれを取り巻く背景
    1. パワーデバイスの役割
    2. なぜワイドバンドギャップ半導体?
    3. パワーデバイスの世界市場予測
    4. 酸化ガリウムとその他パワーデバイス材料の比較
    5. 酸化ガリウムデバイスの応用分野
  2. 単結晶バルク製造技術
    1. 融液成長技術の紹介
    2. Edge-defined Film – fed Growth (EFG) 法
    3. 単結晶バルク育成の新しい試みの紹介
      (Oxide Crystal growth from Cold Crucible (OCCC) 法)
  3. エピタキシャル薄膜成長技術
    1. 分子線エピタキシー法 (MBE法)
    2. ハライド気相成長法 (HVPE法)
    3. 有機金属化学気相成長法 (MOCVD法)
  4. デバイス作製プロセスと要素技術
    1. ショットキーコンタクト
    2. イオン注入
    3. ドライ、ウェットエッチング
    4. ウエハボンディング
  5. パワーデバイス開発
    1. ショットキーバリアダイオード (SBD) の動作原理
    2. 高耐圧化技術
    3. 電界効果トランジスタ (MOSFET) の動作原理
    4. 横型MOSFET
    5. 縦型MOSFET
    6. エンハンスメントモードMOSFET
  6. 極限環境デバイス開発
    1. 極限環境とは?
    2. ガンマ線耐性
    3. 高周波MOSFET
  7. まとめ
    1. 2012年からこれまでの酸化ガリウム研究開発
    2. 実用化への道筋
    • 質疑応答

講師

  • 上村 崇史
    国立研究開発法人 情報通信研究機構 未来ICT研究所 小金井フロンティア研究センター グリーンICTデバイス研究室
    主任研究員

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。

これから開催される関連セミナー