技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、半導体産業について取り上げ、フォトレジスト材料の基礎から、現役フォトレジストサプライヤー目線の最新のEUVレジストの課題と開発状況について解説いたします。
昨今、私たちは新たなデジタル社会に直面、半導体の重要性が以前にも増して重要となっており、一般のニュースでも毎日のように半導体という言葉を耳にする。IOT、AI、Society5.0等の発展のためには、さらなるデバイスの高速化、大容量化、省電力化が求められており、そのためにはトランジスタ配線の微細化が不可欠である。それを支えているのがリソグラフィの微細化であり、フォトレジスト材料が鍵技術となっている。究極の微細化として期待されたEUVリソグラフィは、35年の時を経て2019年に実用化された。
地政学的観点からも半導体は日本にとって重要なピースとなり政府の半導体への取り組みも前のめりである。現在半導体材料に従事する方、今後従事するであろう方々にとってフォトレジスト開発の流れを知ることは、さらなる発展に対して非常に有用であると思われる。さらなる発展の期待をこめて、過去を振り返りながら現在の課題について解説する。
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開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/8/19 | 半導体パッケージの伝熱経路、熱モデルと熱設計・シミュレーション技術 | オンライン | |
2025/8/20 | 半導体技術の全体像 | オンライン | |
2025/8/20 | 半導体パッケージの伝熱経路、熱モデルと熱設計・シミュレーション技術 | オンライン | |
2025/8/21 | 半導体技術の全体像 | オンライン | |
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2025/9/26 | 先進半導体パッケージの技術動向と三次元集積化プロセス開発の道程 | オンライン |
発行年月 | |
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1985/12/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅰ) |
1985/11/1 | アナログIC/LSIパターン設計 (Ⅱ) |