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原子層堆積 (ALD) 技術による薄膜作製と原料の開発、応用

原子層堆積 (ALD) 技術による薄膜作製と原料の開発、応用

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概要

本セミナーでは、ALD技術について、原理、メカニズムから応用技術までを解説いたします。
また、薄膜形成の原理、堆積メカニズム、原料の特徴から形成された薄膜の特性・物性、適用可能な事例まで幅広く解説いたします。

開催日

  • 2023年3月29日(水) 10時00分 ～ 16時15分

修得知識

  • 半導体プロセス技術の基礎
  • 半導体デバイスの動作原理
  • ALDプロセスの基礎
  • ALDプロセスの将来
  • ALD原料の開発状況
  • ALD原料開発とCVD原料開発の違い

プログラム

第1部 ALD (原子層堆積) 技術による薄膜作製メカニズムとその応用事例

(2023年3月29日 10:00〜14:30)途中、昼休みを含む

　AIや5GなどIoT技術の進歩を支えている半導体加工技術において、高機能な薄膜を形成することは、非常に重要である。薄膜形成技術については、古くからいろいろな手法が開発され、LSI、ディスプレイ、太陽電池などのエレクトロニクスの分野で広く活用されてきた。
　本セミナーでは、近年、特に注目を浴びているALD (原子層堆積) 技術について、その基礎と応用について概説する。特に、堆積の原理や材料について詳しく紹介する。また、LSI、薄膜トランジスタ、パワーデバイスに応用した時の特長や課題についても紹介する。

  1. 薄膜形成技術
    1. 薄膜作製/加工の基礎
    2. 薄膜の評価手法
      1. 電気的評価
      2. 化学的分析手法
      3. 光学的評価手法
  2. ALD技術の基礎
    1. ALD技術の原理
    2. ALD薄膜の特長
    3. ALD技術の歴史
    4. ALD装置の仕組み
    5. ALD技術の材料
  3. ALD技術の応用
    1. パワーデバイスへの応用
    2. 酸化物薄膜トランジスへの応用
    3. MOS LSIへの応用
    4. 太陽電池への応用
  4. ALD技術の将来
    1. ALD技術の課題
    2. ALD技術の展望
    • 質疑応答

第2部 ALD原料の開発状況と新規ガリウム原料の開発事例

(2023年3月29日 14:45〜16:15)

　近年、無欠陥で段差被覆性も良く、原子層レベルで膜厚制御ができるALDが注目されている。特に、微細化の進展にともなって、半導体製造ではALDが欠かせない技術となっている。ALD用の原料は、揮発させて反応チャンバーまで輸送するという点では、CVD用の原料と同じだが、CVD原料と違って基板上で熱分解させないことが必須である。このため、ALD原料の開発には、CVD原料とは全く異なるアプローチが必要になる。
　本講座では、最近のALD原料の開発状況を説明し、CVD原料とは異なるアプローチによる開発の事例として、ガリウム原料の開発について紹介する。

  1. はじめに
  2. ALD原料の開発
    1. ALDの原理
    2. ALD装置の構造と原料供給の方法
    3. ALD原料への要求
    4. ALDに用いられる主な金属原料と非金属原料
    5. 金属原料の種類およびその特徴と課題
    6. ALD成膜できる膜
    7. 半導体製造に用いられるALD原料
    8. ALD原料の設計
    9. ALD原料の評価
    10. まとめ
  3. 開発事例
    1. 新規ガリウム原料 (プリカーサー) の開発
    2. 新規原料に対応したALDプロセスの設計
    3. プリカーサーの合成と物性の確認
    4. 成膜実験
    5. まとめ
    • 質疑応答
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講師

  • 浦岡 行治 氏
    奈良先端科学技術大学院大学 マテリアル研究プラットフォームセンター
    センター長
  • 水谷 文一 氏
    株式会社 高純度化学研究所 先端材料研究部
    取締役部長
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)
複数名
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 45,000円(税別) / 49,500円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 50,000円(税別) / 55,000円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方
  • 支払名義が企業の場合は対象外とさせていただきます。
  • 企業に属し、大学、公的機関に派遣または出向されている方は対象外とさせていただきます。

ライブ配信セミナーについて

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