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シリカ微粒子をコントロールするための基礎知識と表面改質および分散制御のコツ

シリカ微粒子をコントロールするための基礎知識と表面改質および分散制御のコツ

東京都 開催

概要

本セミナーでは、用途が多岐にわたるシリカ微粒子について、シリカの基本特性と表面評価法、表面改質法、分散系の評価と調製方法を分かりやすく解説いたします。

開催日

  • 2017年5月29日(月) 13時00分 16時30分

受講対象者

  • シリカ微粒子に関連する技術者、開発者、製造担当者、品質管理担当者

修得知識

  • シリカの基礎
  • シリカ表面の構造と特性
  • 表面水酸基の評価法
  • 化学的表面改質法とその評価法
  • 微粒子の分散の基礎
  • 添加物や表面改質によるシリカ微粒子の分散

プログラム

 コロイダルシリカや乾式微粉末シリカに代表されるシリカ微粒子は、広い分野で様々な用途に使用されている。シリカ微粒子は、比表面積が大きく、吸着剤としての利用や溶媒あるいは高分子ポリマー中へ分散させるフィラーとしての利用などには、シリカ表面や界面に関する知識が必要不可欠である。
 セミナーでは、シリカ表面の特性とその評価、化学的表面改質の手法とその評価、微粒子の液中への分散の基礎、シリカ微粒子の液中への分散制御を解説する。

  1. シリカの構造と特性・製法
    1. シリカの構造と特性
      • シリカの基本構造
      • シリカへの水蒸気吸着
      • シリカの用途と使用形態と機能)
    2. シリカ微粒子の製法
      • Breaking – DownとBuilding – Upプロセス
      • 粉砕法、気相法、液相法
      • 微粒子製造法の比較
  2. シリカ表面の評価法
    1. 表面水酸基の性質
      • 表面水酸基の生成要因
      • 表面水酸基のタイプ
      • 表面水酸基の4つの役割
      • 加熱による表面水酸基量の変化
    2. 表面水酸基の定性と定量
      • 表面水酸基の定量法の概要
      • 赤外吸収スペクトル法の特徴
      • 赤外吸収スペクトル法の種類
      • self – supporting法
      • 拡散反射法
      • 加熱による表面水酸基タイプの変化
      • 29Si固体高分解能NMR法、
      • 化学反応による定性・定量法
      • 重水置換法
  3. 表面改質法とその評価
    1. 表面改質法の分類
    2. 化学的改質法
      • 改質剤選択のポイント
      • 気相法、液相法
      • アルコールによる改質・
      • アルキルクロロシランによる改質
      • アルキルアルコキシシラン[シランカップリング剤]による改質
    3. 表面改質基の定性と定量
      • 分光法、分解・燃焼法
    4. 表面エネルギーとその評価
      • 表面エネルギーとは?
      • 表面エネルギー測定法
      • インバースガスクロマトグラフィーによる表面エネルギー評価、
      • 表面改質による表面エネルギーの変化
  4. 微粒子の分散と凝集の基礎
    1. 固液分散系における分散・凝集の支配因子
      • 粒子径の影響
      • 帯電の影響
      • 界面活性剤・高分子の吸着の影響
      • プロトンの授受による帯電、
      • 酸化物のゼータ電位と等電点
    2. 液中での粒子の帯電
      • 電気二重層
      • DLVO理論
      • ゼータ電位におよぼす塩の影響、
      • 高分子吸着による分散・凝集
    3. ポリマー中の無機粒子分散系における界面
  5. 微粒子分散系の調製と評価
    1. シリカ/液体分散系の調製と評価法
      • 液中における分散の評価法
      • 分散剤として用いられる化合物の分類
      • イオン性界面活性剤の添加による凝集と分散
      • 高分子の添加による凝集と分散
      • 表面改質によるゼータ電位の制御
      • 有機溶媒への分散と表面改質、機械的分散
      • 分散嗜好性評価
      • 浸漬熱測定による表面改質微粒子の評価
    2. シリカ/ポリマー分散系
      • ポリマー中への分散法
      • 浸漬熱測定による疎水性評価
    • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 武井 孝
    首都大学東京 大学院 都市環境科学研究科 分子応用化学域
    准教授

会場

大田区産業プラザ PiO

6F C会議室

東京都 大田区 南蒲田1-20-20
大田区産業プラザ PiOの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 41,040円 (税込)
複数名
: 20,000円 (税別) / 21,600円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 20,000円(税別) / 21,600円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 38,000円(税別) / 41,040円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 40,000円(税別) / 43,200円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 64,800円(税込)
  • 受講者全員が会員登録をしていただいた場合に限ります。
  • 同一法人内(グループ会社でも可)による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
講演順序・プログラムは変更となる場合がございます。予めご了承ください。

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