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革新的な発明を生み出すためのリエゾン活動と知財教育の進め方

革新的な発明を生み出すためのリエゾン活動と知財教育の進め方

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、知的財産部のマンパワー不足や多忙な業務の中での効率的な業務推進のポイントを伝授いたします。

開催日

  • 2017年2月21日(火) 10時30分 16時30分

プログラム

第1部 知財部門における有効なリエゾン活動とは

(2017年2月21日 10:30〜12:30)

  1. 経営における知財の役割・位置づけ
  2. 企業の知財部門の役割
  3. 企業の経営資源としての知的財産と付加価値
  4. 研究開発活動と知的財産活動の同期化
  5. 有効なリエゾン活動とは
    • 聞き取りのポイント
    • コミュニケーション
  6. 今後求められる知財担当者像 など
    • 質疑応答

第2部 大王製紙におけるリエゾン活動と知財教育

(2017年2月21日 13:15〜14:45)

  1. 特許の現状について
  2. 特許出願・権利化戦略
    1. 発明の特許出願率
    2. 特許の自社実施率
    3. グローバル出願率
    4. 早期権利化率
    5. 総合特許登録率
  3. リエゾン活動と知財教育
    1. 研究者、エンジニア等へのヒアリング
    2. 特許提案の推進、知財知識の普及
    3. パテントリエゾンマンの業務への取り組みや対応の仕方
    4. 知財教育
    • 質疑応答

第3部 より戦略的な特許提案につなげるためのパテントリエゾンの実際

(2017年2月21日 15:00〜17:00)

  1. 知的財産部門の現状
  2. パテントリエゾン活動の実際
  3. 研究者へのヒアリングの難しさ
  4. 権利化できそうな発明の発掘
  5. 特許提案の推進
  6. 特許の有効利用のためのマネジメントの在り方
  7. 知財教育への取り組み事例
    • 質疑応答

講師

  • 新井 信昭
    知財コミュニケーション研究所
    代表
  • 萬 秀憲
    よろず知財戦略コンサルティング
    代表
  • 高橋 透
    株式会社ニューチャーネットワークス
    代表取締役

会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 59,400円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 54,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 50,000円(税別) / 54,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 59,400円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 108,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 162,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。
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