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スパッタリング法による薄膜作製の基礎と機械的性質の評価
内部応力の発生原因と制御方法について詳細に解説する
スパッタリング法による薄膜作製の基礎と機械的性質の評価
大阪府 開催
会場 開催
本セミナーは終了いたしました。
概要
本セミナーでは、スパッタプロセスによる薄膜形成の基礎から解説し、スパッタ薄膜の評価と、内部応力の発生と対策・制御について詳解いたします。
開催日
- 2016年3月8日(火) 12時30分 ～ 16時30分
受講対象者
- スパッタリング・成膜に関連する技術者
- エネルギー分野
- 反射防止膜保護膜
- 透過膜太陽電池
- 光学分野
- 増透膜
- 反射防止膜
- 偏光膜
- 保護膜
- 赤外透過膜
- 赤外線フィルター
- 紫外線フィルター
- ディスプレイ
- 絶縁膜
- 透明電極
- 発光膜
- 表面処理
- 表面硬化膜
- 固体潤滑膜 など
- エネルギー分野
- スパッタリング・成膜で課題を抱えている方
修得知識
- スパッタリングによる薄膜形成の基礎知識
- 薄膜の機械的性質の評価技術
- 内部応力の発生メカニズムと対処方法
プログラム
スパッタプロセスによる薄膜形成の基礎知識を身につけて頂くとともに、スパッタ薄膜の機械的性質の評価技術について講義します。特に、実際のスパッタリングによる薄膜形成で問題になることの多い内部応力の発生原因と制御方法については詳細に解説します。
- スパッタリングによる薄膜成長の基礎
- 直流スパッタリングと高周波スパッタリング
- 金属薄膜と絶縁体薄膜
- 反応性スパッタリング
- 酸化物、窒化物などの化合物薄膜の形成
- 非平衡マグネトロンスパッタリング
- イオンアシストの利用
- どのように薄膜は形成されるのか
- 薄膜成長機構と膜構造
- 直流スパッタリングと高周波スパッタリング
- スパッタ薄膜の機械的性質の評価方法
- 引張り強さとヤング率、硬さ
- 内部応力
- 密着力
- スパッタ薄膜における内部応力発生のメカニズムとその制御
- 内部応力の発生する原因
- 種々のスパッタ薄膜の内部応力の実例
- 反応性スパッタリング法によって作製した窒化物薄膜の内部応力
- 非平衡マグネトロンスパッタリング法による薄膜の内部応力制御
- まとめ
会場
主催
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。
受講料
1名様
:
46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
割引特典について
- R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
- 1名でお申込みいただいた場合、1名につき 43,750円 (税別) / 47,250円 (税込)
- 複数名で同時にお申し込みいただいた場合、1名につき 23,139円 (税別) / 24,990円 (税込)
- 案内登録をされない方は、1名につき 46,278円 (税別) / 49,980円 (税込)
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