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流動場での、高分子の結晶化・挙動と成形プロセス中での結晶化解析

入門

流動場での、高分子の結晶化・挙動と成形プロセス中での結晶化解析

~フィルム成形・溶融成形プロセス中での解析~
東京都 開催 会場 開催

開催日

  • 2015年7月23日(木) 13時00分 16時30分

受講対象者

  • 高分子材料を扱う技術者
  • 高分子材料の加工に関連する技術者

修得知識

  • 結晶化速度論
    • 結晶化速度と温度の関係
    • 結晶化速度に及ぼす分子配向の影響
  • 分子配向形成論
    • 応力―光学則
    • 流動誘起結晶化と結晶化に伴う自発的配向形成
  • ポリマー種による成形条件の選び方と分子配向、結晶化挙動の関係
  • 絡みあいの影響についての事例
  • 複合成形における高次構造形成におよぼす成分間の運動力学的相互作用

プログラム

成形プロセスにおける高分子の結晶化挙動は静置場とは全く違った様相を呈する。結晶化速度は流動の影響で数千倍・数万倍になり、一方、結晶化の核剤はほとんど役に立たない。さらに、結晶化により溶けたものが固化することを考慮しないと、成形プロセスの流動場の解析が成り立たない。 本講では、多くの事例を交えながら、実際のものづくりの場での高分子の結晶化の本質的な考え方について述べる。
  1. 成形プロセス中の結晶化の基礎
    1. 冷却過程での結晶化
      • 準静的扱い
      • アブラミの式の非等温系への拡張
      • 結晶化潜熱の発生速度と冷却速度
      • 準静的扱いの限界
      • 核形成・成長
    2. 流動場での結晶化
      • 応力-光学則、結晶化速度の配向度依存性、流動の記憶効果
      • シシーケバブ構造形成
  2. 成形プロセス中の結晶化の解析事例
    1. オンライン計測手法
      • 温度計測
      • 応力計測
      • 速度計測
      • 複屈折計測
      • X線回折測定
    2. 溶融紡糸過程の解析
      • 温度測定による配向結晶化速度解析
      • 複屈折計測による結晶化挙動の推定
      • 広角X線回折測定による結晶化挙動解析
    3. フィルム成形過程
      • 一軸伸長過程・二軸伸長過程の結晶化
      • 面配向
    4. 溶融成形過程の移動現象論と高次構造形成
      • 高次構造形成を伴う系のモデル化
      • 熱収支
      • 構成則への影響
    • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 鞠谷 雄士
    東京工業大学 物質理工学院
    特任教授

会場

大田区産業プラザ PiO

6F C会議室

東京都 大田区 南蒲田1-20-20
大田区産業プラザ PiOの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 41,040円 (税込)
複数名
: 20,000円 (税別) / 21,600円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 20,000円(税別) / 21,600円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 38,000円(税別) / 41,040円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 40,000円(税別) / 43,200円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 60,000円(税別) / 64,800円(税込)
  • 受講者全員が会員登録をしていただいた場合に限ります。
  • 同一法人内(グループ会社でも可)による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
    申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」と記入ください。
  • 他の割引は併用できません。
本セミナーは終了いたしました。

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