技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

工業洗浄のプロセス管理と残存汚れの定量評価

工業洗浄のプロセス管理と残存汚れの定量評価

東京都 開催 会場 開催

開催日

  • 2015年4月9日(木) 10時30分 16時00分

修得知識

  • 洗浄ラインの安定運用を左右する装置の精度管理、評価の信頼性
  • 環境・材料に適した水系洗浄剤の事例

プログラム

第1部 洗浄工程管理のポイント・洗浄剤濃度管理とコンタミ管理

(2015年4月9日 10:30〜12:00)

洗浄ラインを安定して運用するには、使用する洗浄剤・洗浄装置と同様に、洗浄工程の管理が性能を左右する。工程管理の一環として洗浄液濃度や液中のコンタミをどのようにモニタリング・調整するかを説明する。

  1. 会社紹介
    1. 製品ラインナップ
    2. グローバル展開
    3. 技術サポート
  2. 洗浄剤分類
    1. 溶剤系
    2. 水系
    3. 無機系その他
  3. 溶剤系洗浄剤の問題点
    1. 溶剤系の分類ハロゲン系・アルコール系・炭化水素系等
    2. 溶剤の安全・環境性
    3. VOC規制の状況
  4. 水系洗浄の定義と技術
    1. 水系定義の分類
    2. 界面活性剤洗浄のメカニズム
    3. MPC洗浄のメカニズム
    4. その他
  5. 洗浄液の選定方法
    1. 洗浄性
    2. 材料適合性
    3. プロセス要望・設備選定
  6. 洗浄液ライン管理項目と測定方法
    1. 濃度・水分
    2. pH
    3. 電気伝導度
    4. Brix
    5. その他の分析
  7. 洗浄工程管理項目
    1. 温度
    2. 洗浄剤成分
    3. コンタミ成分
    4. 時間
    5. 撹拌
  8. 洗浄液バスライフ判断
    1. 液分析からの推定
    2. 被洗浄物のチェック
    3. 事前試験によるデータ取り
  9. 洗浄性向上・バスライフ延長
    1. 洗浄液パラメータ調整
    2. 工程・装置上の工夫
    • 質疑応答・個別質問・名刺交換

第2部 洗浄後に残る残存汚れの定量評価方法と評価事例

(2015年4月9日 12:45〜14:15)

第3部 パーティクルカウンタによる洗浄プロセスの管理・評価

(2015年4月9日 14:30〜16:00)

  1. 洗浄プロセスにおける液中ナノ粒子測定
    1. パーティクルカウンタによる洗浄プロセスの管理評価
    2. 市場の要求
    3. 液中ナノ粒子測定の現状
  2. 液中パーティクルカウンタ
    1. 液中パーティクルカウンタの原理・特性
      1. 純水、薬液中粒子用液中パーティクルカウンタ
      2. ポリマー溶液用液中パーティクルカウンタ
    2. 液中パーティクルカウンタに関わる規格関係
      1. ISO/ISO
      2. SEMI規格
      3. 粒子脱離法による洗浄度評価手法
  3. 洗浄プロセスにおける粒子測定
    1. 測定試料のサンプリング方法
    2. サンプリング測定における課題と対応
    3. 測定例と測定結果の評価
    • 質疑応答・個別質問・名刺交換

講師

  • ゼストロンジャパン (株) セールスエンジニア 八尋 大輔 氏
  • 宮城県産業技術総合センター 担当者
  • リオン (株) 環境機器事業部 開発部 主席技師 近藤 郁 氏
  • 八尋 大輔
    ゼストロンジャパン 株式会社
    セールスエンジニア
  • 近藤 郁
    リオン 株式会社 環境機器事業部 開発部
    主席技師

会場

株式会社 技術情報協会
東京都 品川区 西五反田2-29-5 日幸五反田ビル8F
株式会社 技術情報協会の地図

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 59,400円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 54,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、
    1名あたり 50,000円(税別) / 54,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 59,400円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 108,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 162,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー

開始日時 会場 開催方法
2024/4/26 洗浄技術と洗浄プロセス最適化の総合知識 オンライン
2024/4/26 超音波洗浄の基礎と効果的な活用方法 オンライン
2024/5/14 洗浄技術と洗浄プロセス最適化の総合知識 オンライン
2024/5/21 GMP工場の設備設計および維持管理のポイント オンライン
2024/5/22 医療機器 洗浄バリデーションセミナー オンライン
2024/5/23 医薬品 洗浄バリデーションセミナー オンライン
2024/5/30 半導体製造におけるシリコンウェーハのクリーン化技術・洗浄技術 オンライン
2024/5/30 半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法 オンライン
2024/5/31 GMP工場の設備設計および維持管理のポイント オンライン
2024/6/13 半導体洗浄の基礎と洗浄機内の流れ・反応および洗浄法の評価方法 オンライン
2024/6/24 リスクマネジメント/ワーストケースアプローチに基づく洗浄バリデーション実施 (残留限度値・DHT/CHT設定など) と残留物の評価法 オンライン
2024/6/26 生産移行後のトラブルを未然に防ぐための製造設備および支援設備のバリデーション 東京都 会場・オンライン
2024/7/4 リスクマネジメント/ワーストケースアプローチに基づく洗浄バリデーション実施 (残留限度値・DHT/CHT設定など) と残留物の評価法 オンライン
2024/7/18 超音波洗浄の基礎・メカニズムから効果的な活用方法 オンライン
2024/7/23 半導体デバイスの物理的洗浄手法 オンライン
2024/7/26 超音波洗浄の基礎・メカニズムから効果的な活用方法 オンライン
2024/8/19 半導体デバイスの物理的洗浄手法 オンライン
2024/8/23 半導体ウェット洗浄技術の基礎と乾燥技術および最先端技術 オンライン