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無機系選択的ガス分離膜技術の最前線!

無機系選択的ガス分離膜技術の最前線!

~二酸化炭素・水素・炭化水素などの選択的分離からプロセス化の可能性~
東京都 開催

開催日

  • 2014年7月31日(木) 13時00分 16時30分

修得知識

  • 無機系分離膜の基礎知識および評価方法の基礎
  • 分離ふるいシリカ膜の製膜ノウハウ
  • ゼオライト膜合成の基礎と透過機構
  • 各種分離系における最新分離技術
  • 無機系分離膜のプロセス化へのポイント

プログラム

 省エネルギー分離技術として膜分離法が注目されています。近年では、ゼオライトやシリカなどを膜素材とした無機系分離膜の開発が、プロセス化レベルにまで進んで来ています。
 ここでは、当研究室の取り組みを中心に無機系分離膜の最先端の分離性能および製膜ノウハウについて講演いたします。
 水素、二酸化炭素といった無機ガスの分離やメタン、エタンからデカンといった多種の炭化水素分離に関する様々な膜の情報を丁寧に説明する予定です。さらに、それら分離膜のプロセス化の可能性について解説する予定です。

  1. 無機分離膜の基礎
    1. 無機分離膜の基礎知識
    2. 無機分離膜の評価方法
  2. 分子ふるいシリカ膜
    1. 製膜方法の基礎
    2. 対向拡散CVD法
    3. 水素系
    4. メタン/エタン系
    5. プロパン/プロピレン系
    6. ベンゼン/シクロヘキサン系
    7. デカン/テトラリン系
    8. 逆浸透分離
  3. 脱水用ゼオライト膜
    1. 製膜方法の基礎
    2. MOR膜
    3. SOD膜
  4. その他の無機分離膜
    1. 二酸化炭素系
    2. VOC系
  5. 無機分離膜のプロセス化
    1. 適応可能プロセス
    2. ケーススタディ
    3. まとめ
  6. 総まとめ&総括質疑
  • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 野村 幹弘
    芝浦工業大学 工学部 応用化学科
    教授

会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

5F 第1講習室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
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主催

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お問い合わせ

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受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 41,040円 (税込)
複数名
: 20,000円 (税別) / 21,600円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名同時申込みで1名分無料
    • 1名あたり定価半額の20,000円(税別) / 21,600円 (税込)
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    • 同一法人内(グループ会社でも可)による2名同時申込みのみ適用いたします。
    • 3名様以上のお申込みの場合、上記1名あたりの金額で受講できます。
    • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
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本セミナーは終了いたしました。
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