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かご型シルセスキオキサン (POSS) の基礎と機能材料の創出への応用

かご型シルセスキオキサン (POSS) の基礎と機能材料の創出への応用

東京都 開催 会場 開催
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概要

本セミナーではかご型シルセスキオキサンについて、その特徴、合成法、および応用例とともに工業的利用の可能性について解説いたします。

開催日

  • 2013年10月17日(木) 13時00分 ～ 16時30分

受講対象者

  • かご型シルセスキオキサンに関わる研究者、技術者

修得知識

  • かご型シルセスキオキサン (POSS) の基礎
  • かご型シルセスキオキサンの合成法
  • POSSのこれまでの利用・応用例

プログラム

　シルセスキオキサンは優れた熱特性、電気特性、光学特性を有することから注目されており、その構造は、かご型、ラダー型、ランダム型に大別される。この中で、かご型シルセスキオキサン (POSS) は分子レベルで構造が制御されたシルセスキオキサンであり、産業界からも注目されている低次元無機ナノ構造体である。 本セミナーではかご型シルセスキオキサンについて、その特徴、合成法、および応用例とともに工業的利用の可能性について、我々の研究例を中心に紹介し、次世代材料として何が期待できるかを考える。

  1. かご型シルセスキオキサン (POSS) の基礎
    1. シルセスキオキサンの概要
    2. かご型シルセスキオキサン (POSS) とは
    3. 不完全かご型シルセスキオキサンとは
    4. ダブルデッカー型シルセスキオキサンとは
    5. その他のかご構造を有するシロキサン誘導体
  2. 合成法
    1. 代表的なPOSSの合成法
    2. 不完全かご型シルセスキオキサンの合成法
    3. かご構造組換えによる合成法
    4. テトラエトキシシラン (TEOS) を原料としたオクタアニオンの合成
  3. POSSのこれまでの利用・応用例
    1. 高分子の耐熱性・機械的特性向上
      1. フィラーとした利用
      2. POSS含有モノマーを用いた共重合体
      3. 熱硬化性樹脂への利用
    2. フォトパターニング
    3. 医療材料
      1. MRI造影剤
  4. 単一分子かご型シルセスキオキサン材料への展開
    1. 構造の明確なかご型シルセスキオキサンのみからなる光学的透明膜作製の意義
    2. 具体例
      1. ダンベル型POSS誘導体
      2. スター型POSS誘導体
      3. 発光性ダンベル型POSS誘導体
      4. 単一分子POSS誘導体からなる透明膜の屈折率
  5. かご型シルセスキオキサン (POSS) 核デンドリマー
    1. 従来のデンドリマーと何が違うか
    2. POSS核デンドリマーの溶液特性
    3. POSS核デンドリマーで構成される固体材料
      1. 単一成分有機無機ハイブリッド材料であるPOSS核デンドリマー
      2. 固体電解質への応用
      3. 電荷移動錯体と組合わせた塗布型導電膜への応用
      4. 今後の可能性
  6. 主鎖型POSSポリマー
    1. 主鎖型POSSポリマーとは
    2. 合成法
    3. 何が期待されるか
  7. まとめと展望
    • 質疑応答・名刺交換
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講師

  • 中 建介 氏
    京都工芸繊維大学 大学院工芸科学研究科 物質工学部門 応用錯体化学分野
    教授
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会場

品川区立総合区民会館 きゅりあん

5F 第1講習室

東京都 品川区 東大井5丁目18-1
品川区立総合区民会館 きゅりあんの地図
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主催

サイエンス＆テクノロジー 株式会社
お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 38,000円 (税別) / 39,900円 (税込)
複数名
: 31,000円 (税別) / 32,550円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
  • 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
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