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スラリーの設計,評価,分散技術と条件の最適化

スラリーの設計,評価,分散技術と条件の最適化

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、高品質なスラリーを調製するための分散・安定化技術を解説いたします。

開催日

  • 2013年7月25日(木) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • 以下、関連企業の技術者、研究者
    • 界面化学
    • 化粧品
    • 食品
    • 印刷 (インク・塗料・トナー)
    • 薬品 など
  • 水系および非水系における微粒子を扱っている技術者
  • 微粒子分散を基礎から学びたい方

修得知識

  • スラリーの分散・凝集の基礎
  • スラリーの最適化
  • 粒子の調製方法

プログラム

 本セミナーでは、高品質なスラリーを調製するための分散・安定化技術を解説します。
 はじめに、スラリー中に含まれる粒子について、測定方法による様々な粒子径や粒子間に働く付着力や反発力などの基礎知識について概説した後、吸着に関する一般的な理論、スラリーの分散性の一般的な評価方法である沈降法や粒度分布測定、および、ゼータ電位測定法について解説します。
 次に、スラリー中に含まれる粒子、特に球状粒子についてポリマーとシリカの調製方法を詳解し、最後に、スラリーの分散・安定化に対するいくつかの事例について、吸着による粒子表面の制御だけでなく、溶媒の影響や攪拌などの機械的な混合操作の影響についても、分かりやすく解説します。

  1. はじめに (本セミナーの概要)
  2. 粒子と分散・凝集の基礎知識
    1. 粉体とは? (固体でありながら固体でない)
    2. 粒子の大きさ (様々な粒子径)
    3. 粒子間に働く付着力
    4. 流動特性 (粉の流れやすさの理論)
    5. DLVO理論の基礎 (スラリー安定性の基礎理論)
  3. スラリー中の粒子分散の設計および評価方法
    1. スラリーとコロイド
    2. 粒子表面と溶媒との親和性 (水系・有機溶媒系)
    3. 界面活性剤,水溶性高分子の吸着
    4. 微粒子沈降法 (市販装置の紹介と簡易測定法)
    5. ゼータ電位の測定 (水系・有機溶媒系)
  4. 粒子の調製方法
    1. 高分子ミクロスフェアーの調製
    2. 単分散シリカ粒子の調製
    3. コーティングによる粒子表面の改質方法
  5. スラリーの分散・安定の最適化技術
    1. 粒子の帯電による分散効果
    2. 有機溶媒中に含まれる微量水のゼータ電位への影響
    3. 高分子の吸着による分散効果
    4. 攪拌操作よる容器形状の影響
    5. ビーズミルによるスラリーの分散効果
  6. おわりに (まとめと今後の展望)

  • 質疑応答・名刺交換

講師

  • 木俣 光正
    山形大学 学術研究院 システム創成工学分野
    教授

会場

連合会館

402

東京都 千代田区 神田駿河台三丁目2-11
連合会館の地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 42,667円 (税別) / 44,800円 (税込)
複数名
: 35,667円 (税別) / 37,450円 (税込)

複数名同時受講の割引特典について

  • 2名で参加の場合、1名につき 7,350円割引
  • 3名で参加の場合、1名につき 10,500円割引 (同一法人に限ります)
本セミナーは終了いたしました。

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