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クリーンルームの基礎とクリーン化対策

クリーンルームの基礎とクリーン化対策

~作業員管理・教育、清掃、局所クリーン化~
東京都 開催 会場 開催 演習付き 個別相談付き

概要

本セミナーでは、クリーンルームについて基礎から解説し、実験・実測・経験に基づいて発塵の原因、汚染対策、清掃、局所クリーン化をわかりやすく解説いたします。

開催日

  • 2012年10月26日(金) 10時30分 16時30分

受講対象者

  • クリーンルーム管理、実務の担当者
    • 工業用途
      • 精密機械
      • 半導体製造
      • 電子機器・エレクトロニクス
      • 液晶工場
      • ガラス・光学加工
      • プラスチック成形
      • 塗装
      • フィルム加工
    • 医療用途
      • 研究室
      • 無菌室
      • 手術室
    • 食品用途
      • 調理場
      • 製造ライン
    • 製薬工場
    • バイオハザード施設
    • 動物実験施設
    • RI (環境) 施設

修得知識

  • クリーンルームの基礎
  • 良品率向上のためにやるべきこと、やってはいけないこと
  • より良いクリーン環境の実現と維持の方法
  • クリーンスーツ等の具体的管理方法
  • クリーンルームの作業員の教育
  • クリーンルームの省エネルギーのアプローチ
  • クリーンルーム関連規格の最新動向、参考文献

プログラム

 クリーン化技術に携わる、初級から中級までの全ての方々を対象に、基礎~中級までの内容を解説します。
 理論のほか、実験・実測・経験に基づいて、わかりやすく説明します。例題も行い、具体例・図・表・写真も多く示します。質問は随時受け付けます。専門用語は進行に伴い随時説明します。
 内容の柱は以下の4つです。

  • 1. 発塵の原因
  • 2. クリーンルームの適正な状態の維持・管理 (汚染対策)
  • 3. 清掃
  • 4. 局所クリーン化
  1. クリーンルームの基礎
    1. 清浄度のイメージをつかむ
    2. 種類・形式・変遷
  2. クリーンルーム内の汚染物質 [塵埃]
    1. 塵埃の性質
      1. 気流との関係、拡散範囲
      2. [演習]空気中での微小粒子の移動
      3. クリーンルームでの、瞬時/連続・点発塵による塵埃拡散 (汚染範囲)
    2. 人・物からの発塵
      1. 拡散範囲、内圧変動、摺動発塵
      2. 製品と人と製造装置の位置関係
      3. 衣類の摺動による発塵
      4. 人からの発塵
  3. クリーンルーム内の作業員管理と教育
    1. クリーンルームの4原則
    2. クリーンスーツ着衣人体からの発塵機構
      1. クリーン手袋からの発塵
      2. クリーンスーツ内の圧力変動
      3. クリーンスーツを通しての発塵
      4. [演習]人体からの塵埃拡散範囲
    3. 人の位置取り・適正な動作について
    4. クリーンスーツの選定、洗濯頻度
      1. クリーンスーツ選定の要件
      2. クリーンスーツのフィルタ効率と運動発塵量との関係
      3. クリーンスーツの劣化
    5. クリーン手袋は上か下か?
    6. エアシャワーの効果
  4. さらなる清浄化への指針 (対策)
    1. 微小塵埃/ミスト/気流を把握 → そして対策へ
    2. 普遍的な対策コンセプト
    3. 除去/抑制の手順と考え方
  5. クリーンルームの清掃
    1. 清掃の種類と方法
    2. 各部位の清掃方法・頻度、特定表面の清掃
    3. 注意点
  6. 局所高清浄度域の確保と維持
    1. 給排気バランスと流線の制御
    2. クリーンベンチ内とその周辺気流の制御
    3. FFU吹出しゾーン内の清浄度確保と維持
  7. クリーンルームの国内外関連規格の最新動向
    • ISO規格
    • JIS規格
    • JACA指針など
  8. 参考文献紹介
    • 初級~上級まで、主要なものを表紙画像と内容も含め紹介
    • 質疑応答・名刺交換

会場

タイム24ビル
東京都 江東区 青海2丁目4-32
タイム24ビルの地図

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 47,600円 (税別) / 49,980円 (税込)

割引特典について

  • R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
    • 1名でお申込みいただいた場合、1名につき47,250円 (税込)
    • 2名同時にお申し込みいただいた場合、2人目は無料 (2名で49,980円)
    • 案内登録をされない方は、1名につき49,980円 (税込)
本セミナーは終了いたしました。

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