特許情報分析 (パテントマップ) から見た

半導体露光装置技術開発実態分析調査報告書

～テーマ別動向予測シリーズ～

概要

本調査報告書は、半導体露光装置に関するパテントマップ、パテントチャートを作成し、技術開発動向、最近の注目技術など具体的なデータを提供しております。

ご案内

1.調査目的

「半導体露光装置」に関する公開件数、発明者、および特許分類などに対し、時系列推移、技術分布図など様々な観点から分析したパテントマップおよび、パテントチャートを作成し、
① どの関連企業にどのような技術の公開があるか、
② 各企業の技術開発動向はどのように推移しているか、
③ 最近注目する技術は何なのか、
④ 各企業間の連携状況はどのようになっているか
等を明確にして、今後の開発の指針決定に役立てようとするものである。

2.特許情報の収集と処理:

本調査報告書は、「半導体露光装置」に関する過去10年間 (国内公開日:2001年～2010年) に及ぶ公開特許について、「特許検索ASPサービスSRPARTNER」 ( (株) 日立情報システムズ製) を使用し、検索、収集した。報告書作成にはパテントマップ作成支援ソフト「パテントマップEXZ」 (インパテック (株) 製) を使用した。特許情報公報の総数は39,296件である。

3.報告書の構成:

本報告書は、次の三つの部分から構成されている。

Ⅰ. パテントマップ編
- A.全般分析
- B.詳細 (出願人、特許分類、キーワード) 分析
  ※キーワード (発明の名称、要約、請求の範囲から抽出) においては、
  下記3グループの観点からも分析を行った。
  - ①露光種類系キーワード (紫外線露光・光露光、密着露光など13個)
  - ②露光制御系キーワード (光線、露光量など13個)
  - ③手段・装置系キーワード (基板処理手段・装置など20個)
  - ④目的・効果系キーワード (高精度、容易など18個)
  - ⑤基板系キーワード (ガラス基板、シリコン基板など13個)
Ⅱ. パテントチャート編
Ⅲ. 総括コメント

4.本報告書の特徴

「半導体露光装置」に関する技術動向が分かりやすく把握できる
パテントマップおよびパテントチャートで視覚的に理解しやすい
パテントマップViewer (添付ソフト) により、パテントマップおよびパテントチャートの当該部分に含まれる特許の詳細内容を調べることができる

パテントマップ実例、および本文中の実際のページ例

A. 全般分析
- A-1. 全体の技術開発ライフサイクル
- A-2. 公開件数の推移 (年次と累計)
- A-3. 出願人数の推移 (年次と累計)
- A-4. 新規発明者数の推移 (年次と累計)
- A-5. 新規FIメイングループ分類数の推移 (年次と累計)
- A-6. 新規FIサブグループ分類数の推移 (年次と累計)
- A-7. 新規Fターム分類数の推移 (年次と累計)
- A-8. 出願人別公開件数ランキング (上位100)
- A-9. 発明者別公開件数ランキング (上位50)
- A-10. FIメイングループ分類別公開件数ランキング (上位50)
- A-11. FIサブグループ分類別公開件数ランキング (上位100)
- A-12. Fタームテーマコード分類別公開件数ランキング (上位50)
- A-13. Fターム分類別公開件数ランキング (上位100)
- A-14. 1位Fタームテーマコード (5F146) の技術分類別件数 (観点×数字)
- A-15. 2位Fタームテーマコード (2H025) の技術分類別件数 (観点×数字)
- A-16. 発明者別公開件数グロスランキング (上位20)
- A-17. 出願人別参入・撤退状況 (最近40、公開件数5件以上)
- A-18. FIメイングループ分類別出現・消失状況 (公開件数上位40)
- A-19. FIサブグループ分類別出現・消失状況 (公開件数上位40)
- A-20. Fターム分類別出現・消失状況 (最近40、公開件数5件以上)
- A-21. 出願人別公開件数伸長率 (上位50、件数差15件以上)
- A-22. 発明者別公開件数伸長率 (上位50、件数差35件以上)
- A-23. FIメイングループ分類別公開件数伸長率 (上位50、件数差7件以上)
- A-24. FIサブグループ分類別公開件数伸長率 (上位50、件数差10件以上)
- A-25. Fターム分類別公開件数伸長率 (上位50、件数差600件以上)
- A-26. FIメイングループ分類別発明者数伸長率 (上位50、発明者数差20名以上)
- A-27. FIサブグループ分類別発明者数伸長率 (上位50、発明者数差25名以上)
- A-28. Fターム分類別発明者数伸長率 (上位50、発明者数差500名以上)
B. 詳細 (出願人、特許分類、キーワード) 分析
- B-1. 上位20出願人比較分析
  - B-1-1. 公開件数比較 (期間着目:2期間+全体)
  - B-1-2. 公開件数の推移 (累計)
  - B-1-3. 共同出願人数の推移 (累計)
  - B-1-4. 新規発明者数の推移 (累計)
  - B-1-5. 新規FIメイングループ分類数の推移 (累計)
  - B-1-6. 新規FIサブグループ分類数の推移 (累計)
  - B-1-7. 新規Fターム分類数の推移 (累計)
  - B-1-8. 新規キーワード数の推移 (累計)
  - B-1-9. 上位20FIメイングループ分類との公開件数相関
  - B-1-10. 上位20FIサブグループ分類との公開件数相関
  - B-1-11. 上位20Fターム分類との公開件数相関
  - B-1-12. Fタームテーマコード分類ランキング2位と3位における公開件数比較
  - B-1-13. 種類系キーワードとの公開件数相関
  - B-1-14. 露光制御系キーワードとの公開件数相関
  - B-1-15. 手段・装置系キーワードとの公開件数相関
  - B-1-16. 目的・効果系キーワードとの公開件数相関
  - B-1-17. 基板系キーワードとの公開件数相関
  - B-1-18. 露光種類系キーワードとの発明者数相関
  - B-1-19. 露光制御系キーワードとの発明者数相関
  - B-1-20. 手段・装置系キーワードとの発明者数相関
  - B-1-21. 目的・効果系キーワードとの発明者数相関
  - B-1-22. 基板系キーワードとの発明者数相関
  - B-1-23. 公開件数占有率
  - B-1-24. 公開件数の伸びと1位Fターム分類[2H025AB16]に関する構成率比較
  - B-1-25. 発明者数*FIサブグループ分類数の比較
- B-2. 上位5出願人個別分析
  - B-2-1-*. FIサブグループ分類別公開件数ランキング (上位50)
  - B-2-2-*. Fターム分類別公開件数ランキング (上位50)
  - B-2-3-*. FIサブグループ分類別公開件数の推移 (上位20、累計)
  - B-2-4-*. Fターム分類別公開件数の推移 (上位20、累計)
  - B-2-5-*. FIサブグループ分類別出現・消失状況 (最近40)
  - B-2-6-*. キーワード別出現・消失状況 (最近40、公開件数5件以上)
  - B-2-7-*. 独自FIサブグループ分類別公開件数ランキング
  - B-2-8-*. 独自キーワード別公開件数ランキング (上位50)
  - B-2-9-*. 共同出願人との連携
    注:*は、上位5出願人が該当。
- B-3. ニコン、キヤノン2社分析
  - B-3-1. 2社の上位10FIサブグループ分類別公開件数の推移 (年次)
  - B-3-2. 2社のニコン上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
  - B-3-3. 2社のキヤノン上位10FIサブグループ分類別公開件数比較
  - B-3-4. 2社のFIサブグループ分類別出現・消失状況 (公開件数上位20)
  - B-3-5. 2社のFターム分類別出現・消失状況 (公開件数上位20)
  - B-3-6. ニコンの公開件数伸長率変遷
  - B-3-7. キヤノンの公開件数伸長率変遷
  - B-3-8. 2社とFターム分類 (上位20) との公開件数相関
  - B-3-9. Fターム分類別公開件数グロスランキング (上位10)
- B-4. 上位特許分類分析
  - B-4-1. FIメイングループ分類別公開件数比較 (上位20) (期間着目:2期間+全体)
  - B-4-2. FIサブグループ分類別公開件数比較 (上位20) (期間着目:2期間+全体)
  - B-4-3. Fターム分類別公開件数比較 (上位20) (期間着目:2期間+全期間)
  - B-4-4. FIメイングループ分類別公開件数の推移 (上位20、累計)
  - B-4-5. FIサブグループ分類別公開件数の推移 (上位20、累計)
  - B-4-6. Fターム分類別公開件数の推移 (上位20、累計)
  - B-4-7. FIメイングループ分類別出願人数の推移 (上位20、年次)
  - B-4-8. FIサブグループ分類別出願人数の推移 (上位20、年次)
  - B-4-9. Fターム分類別出願人数の推移 (上位20、年次)
  - B-4-10. FIメイングループ分類別発明者数の推移 (上位20、年次)
  - B-4-11. FIサブグループ分類別発明者数の推移 (上位20、年次)
  - B-4-12. Fターム分類別発明者数の推移 (上位20、年次)
  - B-4-13. FIメイングループ分類別公開件数占有率 (公開件数上位20)
  - B-4-14. FIサブグループ分類別公開件数占有率 (公開件数上位20)
  - B-4-15. Fターム分類別公開件数占有率 (公開件数上位20)
- B-5. 特定特許分類分析
  - B-5-1. 特定FIサブグループ分類の公開件数の推移 (年次)
  - B-5-2. 特定Fターム分類の公開件数の推移 (年次)
  - B-5-3. 特定FIサブグループ分類の新規出願人数の推移 (年次)
  - B-5-4. 特定Fターム分類の新規出願人数の推移 (年次)
  - B-5-5. 特定FIサブグループ分類の新規発明者数の推移 (累計)
  - B-5-6. 特定Fターム分類の新規発明者数の推移 (累計)
  - B-5-7. 特定FIサブグループ分類H01L21/30の公開件数伸長率変遷
  - B-5-8. 特定FIサブグループ分類G03F7/20の公開件数伸長率変遷
  - B-5-9. 特定Fターム分類2H025AB16の公開件数伸長率変遷
  - B-5-10. 特定Fターム分類5F146BA03の公開件数伸長率変遷
  - B-5-11. 特定FIサブグループ分類H01L21/30の出願人別公開件数ランキング (上位50)
  - B-5-12. 特定FIサブグループ分類G03F7/20の出願人別公開件数ランキング (上位50)
  - B-5-13. 特定Fターム分類2H025AB16の出願人別公開件数ランキング (上位50)
  - B-5-14. 特定Fターム分類5F146BA03の出願人別公開件数ランキング (上位50)
- B-6. キーワード分析
  - B-6-1. キーワード別公開件数ランキング (上位100)
  - B-6-2. キーワード別出現・消失状況 (最近200、公開件数10件以上)
  - B-6-3. キーワード別公開件数の伸長率 (上位50、件数差30件以上)
  - B-6-4. 露光種類系キーワードの公開件数の推移 (累計)
  - B-6-5. 露光制御系キーワードの公開件数の推移 (累計)
  - B-6-6. 手段・装置系キーワードの公開件数の推移 (累計)
  - B-6-7. 目的・効果系キーワードの公開件数の推移 (累計)
  - B-6-8. 基板系キーワードの公開件数の推移 (累計)
  - B-6-9. 露光種類系キーワードの出願人数の推移 (累計)
  - B-6-10. 露光制御系キーワードの出願人数の推移 (累計)
  - B-6-11. 手段・装置系キーワードの出願人数の推移 (累計)
  - B-6-12. 目的・効果系キーワードの出願人数の推移 (累計)
  - B-6-13. 基板系キーワードの出願人数の推移 (累計)
  - B-6-14. 露光種類系キーワードの新規発明者数の推移 (累計)
  - B-6-15. 露光制御系キーワードの新規発明者数の推移 (累計)
  - B-6-16. 手段・装置系キーワードの新規発明者数の推移 (累計)
  - B-6-17. 目的・効果系キーワードの新規発明者数の推移 (累計)
  - B-6-18. 基板系キーワードの新規発明者数の推移 (累計)
  - B-6-19. 露光種類系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
  - B-6-20. 露光制御系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
  - B-6-21. 手段・装置系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
  - B-6-22. 目的・効果系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
  - B-6-23. 基板系キーワードの公開件数の伸びと構成率比較
  - B-6-24. 露光種類系キーワードと露光制御系キーワードの公開件数相関
  - B-6-25. 露光種類系キーワードと手段・装置系キーワードの公開件数相関
  - B-6-26. 露光種類系キーワードと目的・効果系キーワードの公開件数相関
  - B-6-27. 露光種類系キーワードと基板系キーワードの公開件数相関
  - B-6-28. 露光制御系キーワードと手段・装置系キーワードの公開件数相関
  - B-6-29. 露光制御系キーワードと目的・効果系キーワードの公開件数相関
  - B-6-30. 露光制御系キーワードと基板系キーワードの公開件数相関
  - B-6-31. 手段・装置系キーワードと目的・効果系キーワードの公開件数相関
  - B-6-32. 手段・装置系キーワードと基板系キーワードの公開件数相関
  - B-6-33. 目的・効果系キーワードと基板系キーワードの公開件数相関

Ⅱ. パテントチャート編

C-1. 小松製作所の時系列チャート分析 (2009年～2010年)
C-2. 三菱電機の時系列チャート分析 (2009年～2010年)
C-3. 小松製作所の上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析 (2009年～2010年)
C-4. 三菱電機の上位3FIメイングループ分類と上位3発明者のマトリクスチャート分析 (2009年～2010年)

Ⅲ. 総括コメント

参考資料

資料1 : 出願人統合リスト
資料2 : パテントマップ・パテントチャートの種別と見方
資料3 : パテントマップ Viewer (添付ソフト) の使い方

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出版社

株式会社パテントテック社

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お問い合わせ

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(出版社への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

体裁・ページ数

A4判簡易製本 (Viewerソフトウェア添付) 244ページ

ISBNコード

ISBN978-4-904967-74-4

発行年月

2011年11月

販売元

tech-seminar.jp

価格

66,818円 (税別) / 73,500円 (税込)

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開始日時		開催方法
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2026/10/21	生成AIを活用した知財実務の実践講座	オンライン
2026/10/21	シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向	オンライン
2026/10/21	医療機器と体外診断用医薬品業界における事業開発戦略	オンライン
2026/10/21	レオロジーを特許・権利化するための基礎科学、測定技術、出願戦略	オンライン

発行年月
2024/4/15	テンセント (騰訊Tencent) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版) (CD-ROM版)
2024/4/15	テンセント (騰訊Tencent) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版)
2024/3/29	後発で勝つための研究・知財戦略と経営層への説明・説得の仕方
2024/3/11	アリババ (阿里巴巴 Alibaba) 〔中国特許および日本特許〕技術開発実態分析調査報告書 (日本語版) (CD-ROM版)
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2024/2/26	EUV (極端紫外線) 露光装置技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
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2023/9/29	先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
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2022/10/31	半導体製造におけるウェット/ドライエッチング技術
2022/7/29	費用対効果に基づく外国特許出願国の選び方・進め方
2022/6/13	パワー半導体〔2022年版〕 (CD-ROM版)
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2022/4/4	軸受6社技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版)
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2019/5/31	医薬品モダリティの特許戦略と技術開発動向
2019/4/1	軸受の保持器技術開発実態分析調査報告書

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