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次世代リソグラフィ技術の最新動向と今後の展望

次世代リソグラフィ技術の最新動向と今後の展望

～EUVリソグラフィ等の各要素技術、メタルレジスト・ブロック共重合体等の微細加工材料～
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    • 概要

    本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、EUVリソグラフィーの基礎からEUVフォトプロセスの最適化と評価、最新のメタルレジストについて解説いたします。

    開催日

    • 2025年12月23日(火) 13時00分 ～ 17時00分

    受講対象者

    • 紫外線硬化樹脂に関連する技術者、開発者、研究者
      • ナノインプリント
      • 電子部品・光学部品などの接着・乾燥
      • 印刷インキの乾燥
      • 塗料・塗装コーティング剤の乾燥・硬化
      • 光ファイバ等の保護コーティング
      • 光造形
      • 3Dプリンター
      • ジェルネイル等の装飾品 など
    • 紫外線硬化樹脂の初心者、これからUV硬化性樹脂の開発に携わる方
    • 紫外線硬化処理で課題を抱えている方

    修得知識

    • 次世代リソグラフィの技術動向
    • レジスト材料開発
    • 半導体の微細化と極端紫外線 (EUV) の基礎
    • EUV化学増幅型レジストシステムと反応機構
    • メタルレジストの基礎
    • ブロック共重合体による自己組織化リソグラフィ
    • 電子線リソグラフィの基礎
    • ナノインプリントリソグラフィの基礎

    プログラム

    　コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現された。半導体微細加工技術であるEUVリソグラフィは、今後デジタル社会の構築において三次元微細加工技術と並んで極めて重要である。今後も更なる微細加工技術が要求されており、High-NAEUVリソグラフィなどをはじめ、次世代リソグラフィ技術が検討されている。
    　本セミナーでは、EUVリソグラフィ技術を中心に、近年活発に研究開発がなされている次世代リソグラフィ技術におけるそれぞれの原理、技術動向、他のリソグラフィ技術と比較した際の優位点をはじめ、実用化・普及の可能性、その微細加工材料などに関する最新動向について概説するとともに、我々の最新の成果を解説する。

    1. はじめに
      1. リソグラフィ技術の変遷
      2. EUVリソグラフィの現状と課題
      3. EUVリソグラフィレジスト評価システム
      4. 次世代リソグラフィ技術の動向
    2. EBリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
      1. 電子ビームリソグラフィの位置づけ
      2. 電子ビームの散乱と阻止能
      3. 電子線レジスト
        1. 電子線レジストの種類
        2. 化学増幅型レジストの酸発生機構
        3. ラインエッジラフネス (LER) の原因の解明
        4. 反応機構に基づいたEBリソグラフィ用単一成分化学増幅型レジスト
    3. EUVリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
      1. EUVリソグラフィの基礎
      2. EUVリソグラフィの現状と課題
      3. EUVレジスト
        1. EUVレジストの種類
        2. EUVリソグラフィ用レジスト材料の要求特性
        3. EUV化学増幅型レジストの反応機構とEBレジスト設計指針との違い
        4. EUV化学増幅型レジストの問題点
      4. EUVメタルレジスト開発
        1. EUVリソグラフィ用メタルレジストの概要
        2. 放射線による金属ナノ粒子の形成メカニズムに基づいた有機無機ハイブリッドパターン形成
        3. メタル化合物の添加によるEUVレジストの高感度化
        4. メタルレジスト材料の性能評価
        5. セラミックスレジストの性能評価
      5. 次世代EUVリソグラフィの技術動向と今後の展望
        • High-NA
        • Hyper NA
        • EUV-FEL
        • Beyond EUV
    4. ブロック共重合体を用いた自己組織化リソグラフィ技術の基礎と動向
      1. ブロック共重合体の基礎
      2. 電子線誘起反応によるブロック共重合体のラメラ配向制御
      3. 新規ブロック共重合体の合成と評価
    5. ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
      1. ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎
      2. ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
    6. おわりに
      • 質疑応答
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    講師

    • 山本 洋揮 氏
      国立研究開発法人 量子科学技術研究開発機構 高崎量子応用研究所 先端機能材料研究部
      プロジェクトリーダー (上席研究員)
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    主催

    サイエンス＆テクノロジー 株式会社
    お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

    お問い合わせ

    本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
    (主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

    受講料

    1名様
    : 34,400円 (税別) / 37,840円 (税込)
    複数名
    : 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込)

    複数名受講割引

    • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。
      • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 34,400円(税別) / 37,840円(税込)
      • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
      • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
    • 同一法人内 (グループ会社でも可) による複数名同時申込みのみ適用いたします。
    • 請求書は、代表者にご送付いたします。
    • 請求書および領収書は1名様ごとに発行可能です。
      申込みフォームの通信欄に「請求書1名ごと発行」とご記入ください。
    • 他の割引は併用できません。
    • サイエンス&テクノロジー社の「2名同時申込みで1名分無料」価格を適用しています。

    アカデミー割引

    教員、学生および医療従事者はアカデミー割引価格にて受講いただけます。

    • 1名様あたり 10,000円(税別) / 11,000円(税込)
    • 企業に属している方(出向または派遣の方も含む)は、対象外です。
    • お申込み者が大学所属名でも企業名義でお支払いの場合、対象外です。

    ライブ配信セミナーについて

    • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
    • お申し込み前に、 Zoomのシステム要件 と テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
    • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
    • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
    • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
    • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
    • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
    • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
    • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
    • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
      万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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