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半導体製造における半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

半導体製造における半導体洗浄技術の基礎知識および技術トレンド

オンライン 開催

概要

本セミナーでは、半導体洗浄の装置・薬液の種類といった基礎的な内容から、次世代半導体の洗浄課題、洗浄・乾燥の最新技術について解説いたします。

開催日

  • 2024年4月18日(木) 13時00分 16時00分

修得知識

  • 半導体製造における洗浄の役割
  • 半導体洗浄に使用される装置・薬液種類・洗浄原理
  • 先端半導体に要求される洗浄技術の課題
  • 最新の半導体洗浄技術

プログラム

 半導体製造において、品質/歩留まりを向上するために洗浄は欠かすことができない工程です。その洗浄技術の基礎から先端半導体向け最新技術までを本セミナーで解説します。
 まずは、半導体洗浄の装置種類や薬液種類に関する基礎的な内容を詳しく説明します。これにより、洗浄対象物や洗浄原理が理解できます。
 その後、次世代半導体の構造や材料の変化に伴う洗浄課題に触れていきます。最先端の半導体の洗浄が従来の半導体洗浄に比べ難易度が高い理由について解説します。
 また洗浄後は、濡れたウエハ表面をデバイスに悪影響なく乾かす必要があるため、乾燥も重要なプロセスです。本セミナーでは、「洗浄」と「乾燥」の2つのテーマに対する過去から最新にわたる技術トレンドを紹介します。

  1. なぜ半導体洗浄が必要か
    1. 基本的な半導体製造プロセス
    2. 半導体製造における洗浄の位置づけ
    3. 洗浄対象物
  2. どのように半導体洗浄を行うか
    1. 洗浄装置の種類
    2. 洗浄薬液の種類
    3. 洗浄原理
  3. 次世代半導体の洗浄
    1. 半導体デバイスのトレンド
    2. 洗浄の技術的課題
    3. 洗浄装置に求められる機能
  4. 洗浄の技術トレンド
    1. 過去の洗浄技術
    2. 最新の洗浄技術
  5. 乾燥の技術トレンド
    1. 過去の乾燥技術
    2. 最新の乾燥技術
  6. まとめ

主催

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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

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    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
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    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

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