技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、反応工学と熱流体解析法の基礎から解説し、CVD装置で起きている化学反応、原子層堆積 (ALD) 法について解説いたします。
また、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えることについて解説いたします。
化学気相堆積 (CVD) 法は、様々な薄膜を形成する際に広く用いられている方法である。これは、流れ、熱、反応物質の輸送だけでなく、気相・表面の化学反応が複雑に絡む現象であるため、難しく見えて来る。
そこでCVD装置で起きている化学反応を解析するために、反応工学の基礎と熱流体解析法をはじめに紹介します。原子層堆積 (ALD) 法についても考え方は同様なので、ALD装置の流れ解析についても紹介します。次に、化学反応の様子を実験的に観察・測定する方法、気相化学種や得られた膜の様子から反応の推定する方法、プラズマCVDの反応を観察し整理した例、副生成物から見えること、などを紹介します。最後に、CVDプロセスを最適化するために考えるべきことについて議論する予定です。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2025/4/25 | 半導体製造におけるプロセスインフォマティクスの活用技術 | オンライン | |
2025/5/23 | CVD・ALD法による薄膜形成技術のプロセス・反応解析と装置の設計 | オンライン | |
2025/5/29 | フレキシブルデバイス向け ハイバリアフィルムの成膜技術と最新動向 | オンライン |
発行年月 | |
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2021/3/8 | プラズマ技術 (CD-ROM版) |
2021/3/8 | プラズマ技術 |
2018/9/27 | プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例 |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |
2014/4/5 | 真空蒸着技術 技術開発実態分析調査報告書 |
1991/3/1 | 光学薄膜技術 |