技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー

ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ

ウェットエッチングの基礎と形状コントロール及びトラブル対策とノウハウ

オンライン 開催 個別相談付き

概要

本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説いたします。
また、日頃の技術開発やトラブル相談に個別に応じます。

開催日

  • 2023年6月22日(木) 13時00分 16時30分

受講対象者

  • ウェットエッチング業務に携わる技術者
    • 電子デバイス
    • プリント基板
    • 薬剤
    • 装置 等

修得知識

  • ウェットエッチングの基礎メカニズム
  • コントロール要因
  • 形状制御技術

プログラム

 ウェットエッチングは工業的にも歴史が古く、かつ、高周波プリント基板やLSIおよび液晶デバイスなどの様々な先端分野で主力の加工技術となっています。また、ウェットエッチングは、量産性やコスト性および設備の簡易さに優れており、かつ、エッチングと同時にウェット洗浄も行えるという特長を有しています。しかし、ウェットエッチングには、濡れ性制御、反応性コントロール、界面密着制御、マスク耐性などの様々な要因が関わっており、高精度化のためには、それぞれを最適化することが必要です。近年では、ウェットエッチングによるアンダーカット形状の高精度化が求められています。
 本セミナーでは、ウェットエッチングの基礎メカニズムに重点を置きながら、エッチングの高精度化、トラブル対策についても解説します。表面エネルギー解析や応力歪み解析による界面設計についても解説します。日頃の技術開発やトラブル相談にも個別に応じます。

  1. ウェットエッチングの基礎
    1. ウェットエッチングの産業応用
      • 半導体
      • 液晶
      • プリント基板
      • 5G応用
    2. 加工技術としての位置づけ
      • 設計値とシフト量
    3. 基本プロセスフロー
      • 前処理
      • 表面洗浄
      • エッチング液
      • マスク除去
      • 洗浄
    4. プロセス支配要因
      • 濡れ
      • 律速
      • 反応速度
      • エッチング機構
    5. 超純水
      • 機能水
      • 帯電防止
      • 酸化防止
      • 水素水
    6. 等方性エッチング
      • アンダーカット
    7. 結晶異方性エッチング
      • 結晶方位依存性
    8. 表面エネルギー理論による界面浸透解析
      • 拡張エネルギーS
      • 円モデル
    9. 処理装置
      • 液循環
      • ディップ
      • シャワー
      • スピンエッチ
      • フィルタリング
  2. 被加工表面の最適化 (表面被膜、汚染、欠陥の影響)
    1. 被加工膜の材質依存性
      • Cu
      • Al
      • Si
      • ガラス
    2. 表面汚染
      • 大気中放置
      • 自然酸化
    3. 表面前処理
      • 疎水化
      • 親水化
  3. エッチングマスク
    1. マスク剤の選定
      • レジスト膜
      • 無機膜
    2. マスク剤の最適化
      • マスク形成と高精度化
    3. マスクの形状劣化
      • 熱だれ
      • 転写特性
    4. マスク内の応力分布と付着強度
      • 応力集中と緩和理論
  4. アンダーカット形状コントロール
    1. 支配要因
      • 界面濡れ性
      • 応力集中
      • 液循環
      • マスク耐性
    2. 形状コントロール
      • エッチングラインの高精度化
    3. 高精度形状計測
      • 断面SEM
      • 定在波法
      • 光干渉法
      • X線CT
  5. トラブル要因と解決方法 (最短の解決のために)
    1. マスクパターンの剥離
      • 付着エネルギーWa及び剥離要因
    2. エッチング液の濡れ不良
      • ピンニング不良
    3. エッチング開始点の遅れ
      • コンタクトラインのVF変形
    4. ホールパターンの気泡詰まり
      • 界面活性剤
    5. エッチング表面の荒れ
      • 気泡
      • 異物
    6. 金属汚染
      • RCA洗浄
    7. 液中酸化
      • 溶存酸素
    8. 再付着防止
      • DLVO理論
      • ゼータ電位
    9. 乾燥痕
      • マランゴニー対流
      • IPA蒸気乾燥
  6. 質疑応答
    • 日頃の技術開発およびトラブル相談に個別に応じます

主催

お支払い方法、キャンセルの可否は、必ずお申し込み前にご確認をお願いいたします。

お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 45,000円 (税別) / 49,500円 (税込)
複数名
: 22,500円 (税別) / 24,750円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

案内割引・複数名同時申込割引について

R&D支援センターからの案内登録をご希望の方は、割引特典を受けられます。
案内および割引をご希望される方は、お申込みの際、「案内の希望 (割引適用)」の欄から案内方法をご選択ください。

「案内の希望」をご選択いただいた場合、1名様 42,000円(税別) / 46,200円(税込) で受講いただけます。
複数名で同時に申込いただいた場合、1名様につき 22,500円(税別) / 24,750円(税込) で受講いただけます。

  • R&D支援センターからの案内を希望する方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 42,000円(税別) / 46,200円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 67,500円(税別) / 74,250円(税込)
  • R&D支援センターからの案内を希望しない方
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 45,000円(税別) / 49,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 90,000円(税別) / 99,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 135,000円(税別) / 148,500円(税込)

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境テストミーティングへの参加手順 をご確認いただき、 テストミーティング にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は、PDFファイルをダウンロードいただきます。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • ご視聴は、お申込み者様ご自身での視聴のみに限らせていただきます。不特定多数でご覧いただくことはご遠慮下さい。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
本セミナーは終了いたしました。

これから開催される関連セミナー