技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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本セミナーでは、EUVリソグラフィについて取り上げ、レジスト、マスク、ペリクル、光源など、各要素技術の開発動向と課題解決へ向けた取り組みについて詳解いたします。
(2022年3月10日 10:00〜12:00)
兵庫県立大学 高度産業科学技術研究所 極端紫外線リソグラフィー研究開発センターでは1996年よりEUVリソグラフィーの基盤技術開発に精力的に取り組んで来ました。これまで4つの国家プロジェクトに約20年間参画・先導し、また、多くの国内外の企業と共同研究を進めて参りました。
EUVリソグラフィー (EUVL) 技術は2020年よりスマートフォン、タブレット等のロジックデバイスの量産技術として本格的な量産技術として採用されており、EUVLの先端研究の現状、課題について解説します。また、次世代の半導体の量産に向けて多くのEUVL技術課題があり、この課題解決に向けては黎明期での開発の内容を知った上で課題可決に取り組む必要があります。このため、EUVL黎明期を解説するとともに、課題解決に向けた取り組み内容を紹介します。
一方で、我が国の経済活性化には半導体技術の進展が不可欠であり、併せて国の安全保障と密接に絡む技術です。この意味においても、半導体前半工程である半導体微細加工技術が果たす役割が未だに強い状況です。世界に於ける日本の半導体技術覇権に向けた問題点・課題についても触れたいと存じます。
(2022年3月10日 13:00〜14:30)
昨今、私たちは新たなデジタル社会を迎え入れようとしている。世の中で頻繁にその言葉を耳にするIOT、AI、Society 5.0等の発展に対し、さらなる電子デバイスの高速化、大容量化、省電力化が求められている。そのために不可欠なのがリソグラフィの微細化であり、その実現にはフォトレジスト材料の開発が必須である。
フォトレジスト材料の微細化の歴史および究極の微細化であるEUVリソグラフィ用フォトレジスト材料の開発について解説する。
(2022年3月10日 14:45〜16:15)
AI, IoT, EV,次世代ディスプレイ,スマートシティー,省エネなどSDGsを意識した活動が盛んになってきました。COVID – 19の影響からかスマートフォンやノートパソコンも活況。いまや「半導体」という言葉を「半導体不足」という言葉とともに聞かない日はありません。「産業のコメ」と呼ばれた半導体素子はいまや「産業のブレイン」と言われるまでになりました。EUVリソグラフィー登場し,半導体素子の高性能化・省エネ化が加速しています。
本講座では,EUVリソグラフィーの露光と光源について平易にお話する予定です。
日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。
| 開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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| 発行年月 | |
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| 2021/6/29 | UV硬化樹脂の開発動向と応用展開 |
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| 2021/4/30 | 建築・住宅用高分子材料の要求特性とその開発、性能評価 |
| 2021/1/29 | 高分子材料の絶縁破壊・劣化メカニズムとその対策 |
| 2020/11/30 | 高分子の成分・添加剤分析 |
| 2020/11/30 | 高分子の延伸による分子配向・結晶化メカニズムと評価方法 |
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