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ナノインプリントのメカニズムと材料、プロセスの最適化

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ナノインプリントのメカニズムと材料、プロセスの最適化

～材料・プロセスの最適設計、欠陥対策、応用事例～
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概要

本セミナーでは、ナノインプリントについて基礎から解説し、欠陥を抑え、離型性を高めるための最適な材料設計、プロセス技術について詳解いたします。

開催日

  • 2020年12月11日(金) 10時00分 ～ 17時00分

プログラム

第1部 ナノインプリントのメカニズムと微細構造の作製技術

(2020年12月11日 10:00〜15:15) (途中 昼食休憩を含む)

　ナノインプリントによる微細成型に関するメカニズムの基礎をしっかり理解します.そのうえで、使用される樹脂やモールドについての知識や、プロセス・材料の最適設計、さらには欠陥対策等を理解します.また、三次元構造の作成技術等様々な可能性を秘めたシーズについて紹介し、さらに応用展開について最新の動向に触れながら理解を深めます.

  1. ナノインプリント法の概要
    1. ナノインプリントの歴史と特徴
      1. ナノインプリントの歴史と解像性
      2. ナノインプリントの要件と特徴
      3. ナノインプリントの研究開発動向
  2. 熱ナノインプリントの基礎
    1. 熱ナノインプリントの原理・特徴と長短所
    2. 樹脂の粘弾性と成型性
    3. 形状依存性
    4. 成形速度依存性
    5. 残留応力
    6. 熱ナノインプリントプロセスの最適化
    7. 熱ナノインプリント用樹脂への要求特性
  3. 光ナノインプリントの基礎
    1. 光ナノインプリントの原理・特徴と長短所
    2. 樹脂の流動と充填
    3. UV照射とパターンサイズ
    4. UV硬化の基礎と材料特性
    5. 光ナノインプリントプロセスの最適化
    6. 光ナノインプリント用樹脂への要求特性
  4. 多様な材料を用いたナノインプリントとその特徴
    1. ガラス材料のナノインプリント
    2. 金属材料のナノインプリント
    3. 生分解樹脂、有機半導体のナノインプリント
  5. ナノインプリントにおける樹脂の分子挙動
    1. ナノインプリントの分子動力学解析
    2. 樹脂充填と分子挙動
    3. 成型と離型の分子量依存性
  6. モールド技術
    1. モールド作製の基礎
    2. 曲面モールドの作製
    3. レプリカ作製方法
      1. Ni電鋳によるレプリカ作製
      2. シリコンゴム材料によるレプリカ作製
      3. シリカガラス系材料によるレプリカ作製
      4. その他の方法
  7. 離型技術
    1. 離型の基本メカニズム
      1. 破壊力学によるシミュレーション
      2. 離型のメカニズムとレジストの密着力、摩擦力
      3. モールド側壁傾斜角と離型性
      4. モールドの離型方法と離型性
        • 垂直離型
        • 傾斜離型
        • ピール離型
        • ロール離型
      5. モールド/レジストの弾性率比と離型性
      6. モールドの剛性と離型性
    2. 離型欠陥の低減
      1. 離型剤による離型性改善
      2. 偏析剤による離型性改善
      3. 離型方法による離型性改善
      4. 熱ナノインプリントとUVナノインプリントの離型性
  8. 樹脂の収縮
    1. 樹脂収縮の影響 (熱収縮とUV収縮)
    2. 樹脂収縮予測と寸法精度
    3. モールドの形状補正
  9. 三次元構造の作製技術
    1. リバーサル・ナノインプリントによる三次元積層構造の作製
      1. リバーサル・ナノインプリントの原理
      2. 転写モードとリバーサルモード
      3. リバーサル・ナノインプリントによる三次元積層構造の応用例
      4. 三次元積層構造作製における課題
    2. ハイブリッドナノインプリントによる三次元マイクロ・ナノ混在構造の作製
      1. ハイブリッドナノインプリントの原理
      2. ハイブリッドナノインプリントによるマイクロ・ナノ混在構造
      3. 三次元マイクロ・ナノ混在構造の応用例
      4. 三次元マイクロ・ナノ混在構造作製における課題
  10. ナノインプリントの製品応用と最新動向
    1. 光デバイスへの応用
      1. 反射防止構造
      2. 波長版
      3. ディスプレイデバイス
    2. バイオ・マイクロ流路デバイスへの応用
      1. 肺がん検査チップ
      2. 抗がん剤濃度検出チップ
      3. 流体制御構造など
    3. 半導体・電子デバイスへの応用
      1. 半導体メモリ
      2. 太陽電池
      3. LEDなど
    4. 生体模倣構造への応用
      1. 撥水構造
      2. 吸着構造
      3. 流体制御など
  11. 今後の展開と課題
    • 質疑応答

第2部 熱/光ナノインプリントの装置、プロセスと評価技術

(2020年12月11日 15:30〜17:00)

  1. NIL用光硬化樹脂を用いたナノインプリントの最適化と評価
  2. NIL用光・熱硬化樹脂を用いたナノインプリントの最適化と評価
  3. 離型プロセスを不要とするレプリカ転写技術 – プロセス条件の検討
  4. ナノマイクロ混在構造の一括転写技術
    • 質疑応答
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講師

  • 平井 義彦 氏
    大阪府立大学
    名誉教授
  • 関口 淳 氏
    リソテックジャパン 株式会社
    取締役執行役員 / ナノサイエンス・グループ長
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主催

株式会社 技術情報協会
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お問い合わせ

本セミナーに関するお問い合わせは tech-seminar.jpのお問い合わせからお願いいたします。
(主催者への直接のお問い合わせはご遠慮くださいませ。)

受講料

1名様
: 55,000円 (税別) / 60,500円 (税込)
複数名
: 50,000円 (税別) / 55,000円 (税込)

複数名同時受講割引について

  • 2名様以上でお申込みの場合、1名あたり 50,000円(税別) / 55,000円(税込) で受講いただけます。
    • 1名様でお申し込みの場合 : 1名で 55,000円(税別) / 60,500円(税込)
    • 2名様でお申し込みの場合 : 2名で 100,000円(税別) / 110,000円(税込)
    • 3名様でお申し込みの場合 : 3名で 150,000円(税別) / 165,000円(税込)
  • 同一法人内による複数名同時申込みのみ適用いたします。
  • 受講券、請求書は、代表者にご郵送いたします。
  • 他の割引は併用できません。

アカデミック割引

  • 1名様あたり 30,000円(税別) / 33,000円(税込)

日本国内に所在しており、以下に該当する方は、アカデミック割引が適用いただけます。

  • 学校教育法にて規定された国、地方公共団体、および学校法人格を有する大学、大学院、短期大学、附属病院、高等専門学校および各種学校の教員、生徒
  • 病院などの医療機関・医療関連機関に勤務する医療従事者
  • 文部科学省、経済産業省が設置した独立行政法人に勤務する研究者。理化学研究所、産業技術総合研究所など
  • 公設試験研究機関。地方公共団体に置かれる試験所、研究センター、技術センターなどの機関で、試験研究および企業支援に関する業務に従事する方

ライブ配信セミナーについて

  • 本セミナーは「Zoom」を使ったライブ配信セミナーとなります。
  • お申し込み前に、 視聴環境 をご確認いただき、 ミーティングテスト にて動作確認をお願いいたします。
  • 開催日前に、接続先URL、ミーティングID​、パスワードを別途ご連絡いたします。
  • セミナー開催日時に、視聴サイトにログインしていただき、ご視聴ください。
  • セミナー資料は郵送にて前日までにお送りいたします。電子媒体での配布はございません。
  • 開催まで4営業日を過ぎたお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
    ライブ配信の画面上でスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    印刷物は後日お手元に届くことになります。
  • ご自宅への書類送付を希望の方は、通信欄にご住所・宛先などをご記入ください。
  • タブレットやスマートフォンでも受講可能ですが、機能が制限される場合があります。
  • 講義の録音、録画などの行為や、権利者の許可なくテキスト資料、講演データの複製、転用、販売などの二次利用することを固く禁じます。
  • Zoomのグループにパスワードを設定しています。お申込者以外の参加を防ぐため、パスワードを外部に漏洩しないでください。
    万が一、部外者が侵入した場合は管理者側で部外者の退出あるいはセミナーを終了いたします。
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