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マイクロLEDの研究開発の最前線と市場

マイクロLEDの研究開発の最前線と市場

東京都 開催 会場 開催

概要

本セミナーでは、次世代のマイクロLEDの研究開発、材料・技術について詳解いたします。

開催日

  • 2019年2月14日(木) 13時30分 16時30分

プログラム

 台湾はLED製造の技術力で世界を牽引している。液晶では中国に追い越され、有機ELでは韓国に先行を許した。そこで、台湾の中にLED製造の基盤が揃っている強みを生かし、逆転の秘策として“マイクロLED”に注力している。
 本セミナーでは、マイクロLEDの技術・業界を理解するために、ミニ&マイクロLEDの市場、及び業界動向、さらに、GaN LED素子のマイクロLEDの可能性として、二人の研究者にモノリシック集積化や大面積フレキシブルマイクロLED作製の可能性について解説してもらう。

講演1. ミニ&マイクロLED の市場・業界動向

(2019年2月14日 13:30〜14:00)

  1. 世界のミニ&マイクロLEDの動向
    1. 台湾
    2. 中国
    3. 韓国
    4. 日本
    5. 北米
    6. 欧州
  2. マイクロLEDディスプレイ
    1. 概要
    2. 業界動向
    3. 市場動向
    4. 用途別
  3. ミニLED
    1. 概要
    2. 業界動向
    3. 台湾におけるミニLED業界の動向
    4. 中国におけるミニLED業界の動向
    5. ミニLED の市場動向
    6. ミニLED の製造コスト
  4. マストランスファー
    1. 概要
    2. 開発中のマストランスファー
    3. マストランスファーのコスト分析
    4. マストランスファー工程の課題
    5. マストランスファー工程に求められる機能

講演2. GaNナノコラム発光デバイス

(2019年2月14日 14:00〜15:10)

 一次元GaN ナノ結晶 (ナノコラム) は、InGaN 系可視域発光デバイスの高機能化、高性能化への期待から世界的に研究されている。ナノコラム研究の最前線を詳解しつつ、ディスプレイ用発光デバイスとしての魅力を述べる。ナノコラムによれば、三原色LEDのモノリシック集積化が可能となり、二次元配列化はマイクロLEDディスプレイへの道を拓きうる。ナノコラムフォトニック結晶レーザとしても動作し、配列制御はスペックル抑制に寄与しうる。

  1. GaN 系半導体光デバイスフロンティアと課題
  2. 一次元ナノ結晶 (ナノコラム) の期待
  3. ナノコラム研究史
  4. GaN ナノコラムの規則配列化
  5. ナノコラムによるナノ結晶効果
  6. 緑~赤色マイクロナノコラムLED
  7. モノリシック集積型ナノコラムLED
  8. ナノコラムLED のフリップチップ化
  9. ナノインプリントによる大面積化
  10. 高放射ビーム指向性ナノコラムLED
  11. ナノコラムフォトニック結晶とレーザ
  12. スペックルフリーレーザへの期待
  13. まとめ

講演3. フレキシブルマイクロLEDの可能性

(2019年2月14日 15:20〜16:30)

 マイクロLEDは有機ELのディスプレーを置き換える次世代表示素子技術として大きな注目を集めている。マイクロLEDディスプレーを実用化するためには、安価な大面積基板上にGaN – LED アレイを作製する技術を開発する必要があるが、本セミナーではスパッタリングによる窒化ガリウム成長技術を用いた大面積フレキシブルマイクロLED作製の可能性について、この分野に関する専門知識のない技術者にもわかるように平易に解説する。

  1. 開発の背景
    1. 表示素子の技術的流れ
    2. マイクロLEDの重要性
    3. マイクロLED製造の技術的問題点
    4. スパッタGaN成長技術の利点
  2. スパッタ法によるGaNの成長技術
    1. スパッタGaN薄膜の構造的特徴
    2. スパッタGaN薄膜の電気的特徴
    3. スパッタGaN薄膜の光学的特徴
  3. スパッタ法を用いて試作したGaN素子の特性
    1. スパッタGaN LED素子の特性
    2. スパッタGaN HEMT素子の特性
    3. スパッタGaN MISFET素子の特性
    4. スパッタGaNパワー素子の特性
    5. スパッタGaN受光素子の特性
  4. スパッタ法を用いて低価格基板上に試作したGaN素子の特性
    1. GaN成長用低価格基板
    2. 金属フォイル上に作製したGaN LED素子
    3. ガラス基板上に作製したGaN LED素子
    4. ポリマーフィルム上に作製したGaN素子

講師

  • 初田 竜也
    株式会社シーエムシー・リサーチ
    代表取締役
  • 岸野 克巳
    上智大学 ナノテクノロジー研究センター
    特任教授 / ナノテクノロジー研究センター長
  • 藤岡 洋
    東京大学 生産技術研究所
    教授

会場

ちよだプラットフォームスクウェア

5F 会議室503

東京都 千代田区 神田錦町3-21
ちよだプラットフォームスクウェアの地図

主催

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お問い合わせ

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受講料

1名様
: 44,444円 (税別) / 48,000円 (税込)
複数名
: 19,907円 (税別) / 21,500円 (税込) (案内をご希望の場合に限ります)

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