技術セミナー・研修・出版・書籍・通信教育・eラーニング・講師派遣の テックセミナー ジェーピー
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原子層堆積法は、ナノの酸化物薄膜を複雑形状にもコンフォーマルで形成できることから、LSI製造に利用されています。近年では、LSIのみならず、MEMS、太陽電池、機械部品、PETボトルへのコーティングにも活用が検討されています。原子層堆積での高品質膜の達成のため、表面反応を中心とした反応機構の理解と、モニタリング、そして適切な材料選択、プロセス調整の知識が欠かせません。
山形大学ではこれまで原子層堆積法のその場観察と低温化研究を進めてまいりましたが、我々の研究成果を題材に、原子層堆積法の特に表面反応を中心とした機構理解の達成を目標とします。さらに最新研究成果として3D – CoolALD (室温三次元成膜ALD) による各種酸化物膜の室温形成技術について解説いたします。
開始日時 | 会場 | 開催方法 | |
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2024/9/20 | 半導体製造プロセス 入門講座 | オンライン | |
2024/10/11 | ウェットコーティング・単層、重層塗布方式の基礎とダイ膜厚分布・特許・塗布故障 | オンライン |
発行年月 | |
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2020/7/17 | 2020年版 電子部品・デバイス市場の実態と将来展望 |
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2019/12/20 | 高分子の表面処理・改質と接着性向上 |
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2018/1/10 | SiC/GaNパワーエレクトロニクス普及のポイント |
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2015/7/30 | ダイ塗布の流動理論と塗布欠陥メカニズムへの応用および対策 |
2014/10/31 | 炭化ケイ素半導体 技術開発実態分析調査報告書 |
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2013/12/15 | パワー半導体 技術開発実態分析調査報告書 (CD-ROM版) |